真空濺射鍍膜裝置制造方法
【專利摘要】一種真空濺射鍍膜裝置，包括腔體、設(shè)于腔體內(nèi)的靶材、多個傳遞輥以及多個擋板組件，所述腔體底部為陽極，所述靶材為陰極，所述傳遞輥用于傳遞被鍍物，每一擋板組件設(shè)置在相鄰的兩個傳遞輥之間，且與腔體底部絕緣連接，該擋板組件包括固定板，絕緣件及擋板，所述固定板與腔體底部固定連接，所述絕緣件連接設(shè)置在固定板與擋板之間并使擋板與固定板、腔體底部絕緣。本實(shí)用新型通過對擋板組件作模組化設(shè)計，并借助絕緣件的設(shè)置，不但可保證擋板與腔體的絕緣性能，還能優(yōu)化擋板組件的組裝效率，使擋板組件拆裝更為便利。
【專利說明】真空濺射鍍膜裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種鍍膜裝置，特別是涉及一種在真空環(huán)境下利用濺射效應(yīng)對被鍍物進(jìn)行鍍膜的真空濺射鍍膜裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]濺射鍍膜被廣泛應(yīng)用在玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。一種現(xiàn)有的對玻璃進(jìn)行鍍膜加工的真空濺射鍍膜裝置具有濺射腔體，設(shè)置在腔體內(nèi)的傳遞輥，設(shè)置在傳遞輥之間并與腔體底部連接的擋板，以及設(shè)置在腔體內(nèi)的陰極靶材。腔體底部作為陽極，在放電氣體的撞擊作用下，陰極靶材中的原子朝向陽極飛濺出來并沉積在傳遞輥上的玻璃，以完成玻璃的鍍膜加工。設(shè)置在傳遞輥之間的擋板為金屬材質(zhì)，可攔截陰極靶材濺出的原子或分子，防止陰極靶材濺出的原子或分子從傳遞輥之間的空隙或者兩個玻璃之間的空隙沉積到傳遞輥面上或者其他器件上。該擋板的截面呈U形且需要與腔體底部呈絕緣設(shè)置，否則容易引起陰極靶材產(chǎn)生放電打弧等現(xiàn)象，從而嚴(yán)重影響到玻璃鍍膜質(zhì)量和生產(chǎn)效率?，F(xiàn)有的做法是采用一 L形板將該擋板固定于腔體底部，然而這種方式仍然容易造成擋板與腔體的導(dǎo)通。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]基于此，有必要提供一種能夠克服上述缺陷的真空濺射鍍膜裝置。
[0004]一種真空濺射鍍膜裝置，包括腔體、設(shè)于腔體內(nèi)的靶材、多個傳遞輥以及多個擋板組件，所述腔體底部為陽極，所述靶材為陰極，所述傳遞輥用于傳遞被鍍物，每一擋板組件設(shè)置在相鄰的兩個傳遞輥之間，且與腔體底部絕緣連接，該擋板組件包括固定板，絕緣件及擋板，所述固定板與腔體底部固定連接，所述絕緣件連接設(shè)置在固定板與擋板之間并使擋板與固定板、腔體底部絕緣。
[0005]在其中一個實(shí)施例中，所述腔體包括陰極蓋及相對設(shè)置的陽極板框，所述陽極板框的底部作為陽極，所述靶材設(shè)置在陰極蓋內(nèi)，所述傳遞輥、擋板組件設(shè)置在陽極板框內(nèi)，所述陽極板框上設(shè)置進(jìn)口與出口以供被鍍物進(jìn)出該腔體。
[0006]在其中一個實(shí)施例中，所述陰極蓋與陽極板框之間設(shè)置密封件。
[0007]在其中一個實(shí)施例中，所述固定板上設(shè)置固定孔，所述固定板通過固定件固定于腔體底部。
[0008]在其中一個實(shí)施例中，所述擋板包括基板以及設(shè)置在基板兩側(cè)的側(cè)板，所述絕緣件位于兩側(cè)板及基板圍成的空間內(nèi)，所述側(cè)板與固定板間隔設(shè)置。
[0009]在其中一個實(shí)施例中，所述側(cè)板與固定板之間的間距為2_5mm，所述基板低于所述傳遞棍的最高點(diǎn)5-7mm。
[0010]在其中一個實(shí)施例中，所述擋板的截面呈U形或者π形。
[0011]在其中一個實(shí)施例中，所述絕緣件與基板連接的一側(cè)設(shè)置第一螺紋孔，所述絕緣件與固定板連接的一側(cè)設(shè)置第二螺紋孔，所述基板、絕緣件和固定板之間通過螺絲連接，所述第一螺紋孔與第二螺紋孔不導(dǎo)通。
[0012]在其中一個實(shí)施例中，所述絕緣件與基板之間還設(shè)置螺孔板。
[0013]在其中一個實(shí)施例中，所述側(cè)板至少部分與絕緣件間隔。
[0014]本實(shí)用新型提供的真空濺射鍍膜裝置通過對擋板組件作模組化設(shè)計，并借助絕緣件的設(shè)置，不但可保證擋板與腔體的絕緣性能，還能優(yōu)化擋板組件的組裝效率，使擋板組件拆裝更為便利。
[0015]本實(shí)用新型提供的真空濺射鍍膜裝置可以對玻璃等物件進(jìn)行鍍膜加工。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例提供的真空濺射鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖2為圖1所示真空濺射鍍膜裝置中的擋板組件的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0018]為使本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】做詳細(xì)的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本實(shí)用新型。但是本實(shí)用新型能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本實(shí)用新型內(nèi)涵的情況下做類似改進(jìn)，因此本實(shí)用新型不受下面公開的具體實(shí)施的限制。
[0019]需要說明的是，當(dāng)元件被稱為“固定于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個元件被認(rèn)為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。
[0020]除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本實(shí)用新型的【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本實(shí)用新型的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實(shí)施例的目的，不是旨在于限制本實(shí)用新型。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個或多個相關(guān)的所列項目的任意的和所有的組合。
[0021]請參考圖1和圖2，本實(shí)用新型一實(shí)施例提供的真空濺射鍍膜裝置以用于將玻璃進(jìn)行鍍膜加工為例進(jìn)行說明，可以理解該真空濺射鍍膜裝置可用于其他被鍍物的鍍膜加工。該真空濺射鍍膜裝置包括腔體10、設(shè)于腔體10內(nèi)的靶材20、多個傳遞輥30以及多個擋板組件40。
[0022]腔體10內(nèi)設(shè)濺射室，玻璃在該腔體10內(nèi)完成鍍膜加工。該腔體10包括陰極蓋11及相對設(shè)置的陽極板框12。在圖示所示實(shí)施例中，陰極蓋11位于上方，陽極板框12位于下方，且陰極蓋11與陰極板框12共同圍設(shè)形成所述腔體10。
[0023]該陽極板框12設(shè)置在腔體10的底部，傳遞輥30以及擋板組件40設(shè)置在該陽極板框12內(nèi)。該陰極蓋11設(shè)置在腔體10的頂部，該靶材20設(shè)置在陰極蓋11內(nèi)。在該真空濺射鍍膜裝置工作時，該陽極板框12的底部作為陽極，該靶材20作為陰極，腔體10內(nèi)保持真空環(huán)境，并通過放電氣體對陰極的撞擊，使陰極原子濺出并朝向陽極運(yùn)動，從而沉積在放置于傳遞輥30上的玻璃表面，以完成玻璃的鍍膜加工。
[0024]該靶材20可以設(shè)置成旋轉(zhuǎn)陰極的形式，以提高鍍膜性能。
[0025]所述陰極蓋11與陽極板框12之間設(shè)置密封件13，以使腔體10能夠保持真空環(huán)境。
[0026]進(jìn)一步地，所述陽極板框12上設(shè)置進(jìn)口 14與出口 15以供玻璃進(jìn)出該腔體10。可以理解，進(jìn)口 14與出口 15處也應(yīng)設(shè)置相應(yīng)的密封件，以可保持該腔體10的真空環(huán)境。
[0027]所述傳遞輥30用于傳遞玻璃，如圖1中所示，玻璃從腔體10的進(jìn)口 14進(jìn)入腔體10內(nèi)，并在傳遞輥30上運(yùn)行，在通過腔體10的過程中，玻璃表面被鍍膜，接著從腔體10的出口 15到達(dá)腔體10外部以進(jìn)入下一工序。
[0028]擋板組件40設(shè)置在相鄰的兩個傳遞輥30之間。擋板組件40用于遮擋腔體10的底部，以及傳遞輥30的側(cè)部，可在濺鍍過程中，防止陰極濺出的原子沉積在傳遞輥30上或者腔體10的底部，避免沉積物污染陽極或者傳遞輥30等物件，由此保證玻璃的鍍膜效率與良率。
[0029]如圖2中所示，該擋板組件40包括固定板41，絕緣件42及擋板43，所述擋板43用于阻擋及接收陰極濺出的原子，所述固定板41用于將擋板組件40與腔體10底部固定連接，所述絕緣件42連接設(shè)置在固定板41與擋板43之間并使擋板43與固定板41、腔體10底部絕緣。在鍍膜過程中，該擋板43需保證與腔體10的底部也即陽極電性絕緣設(shè)置，否則將引起陰極放電打弧現(xiàn)象，嚴(yán)重影響鍍膜良率。本實(shí)用新型通過對擋板組件40作模組化設(shè)計，并借助絕緣件42的設(shè)置，不但可保證擋板43與腔體10的絕緣性能，還能優(yōu)化擋板組件40的組裝效率，使擋板組件40拆裝更為便利。
[0030]具體地，所述固定板41上設(shè)置固定孔410，所述固定板41通過固定件固定于腔體10底部。例如，可以通過螺絲等固定件將固定板41固定在腔體10的陽極板框12上。該固定板41上還開設(shè)有安裝孔413，該安裝孔413供螺絲等緊固件穿過以固定連接固定板41和絕緣件42。
[0031]所述擋板43包括基板431以及設(shè)置在基板431兩側(cè)的側(cè)板432，所述絕緣件42位于兩側(cè)板432及基板431圍成的空間內(nèi)。在一實(shí)施例中，該擋板43的的截面呈Π形，可以理解地，在其他實(shí)施例中，該擋板43還可以呈U形或者其他形狀，以使該擋板43能夠阻擋和接收陰極濺出的原子，防止傳遞輥30和其他構(gòu)件被污染。
[0032]所述側(cè)板432與固定板41間隔設(shè)置，以使擋板43與固定板41絕緣設(shè)置，也即使得擋板43與腔體10絕緣設(shè)置。在一實(shí)施例中，該側(cè)板432與固定板41之間的間距d為2-5mm,該間距d若過小，則容易因?yàn)R出的原子沉積而發(fā)生導(dǎo)通，若過大，則不能很好地起到防止陰極濺出的原子污染其他構(gòu)件的功效。
[0033]進(jìn)一步地，所述絕緣件42與基板431連接的一側(cè)設(shè)置第一螺紋孔420，所述絕緣件42與固定板41連接的一側(cè)設(shè)置第二螺紋孔422，所述基板431、絕緣件42和固定板41之間通過螺絲連接，所述第一螺紋孔420與第二螺紋孔422不導(dǎo)通。如此設(shè)置，保證了擋板43與固定板41之間的絕緣設(shè)置，也即保證了擋板43與腔體10之間的絕緣設(shè)置。
[0034]進(jìn)一步地，通過合理設(shè)置絕緣件42的高度，即可精確控制該擋板組件40的高度H。一般地，為使基板431具有一定高度而能起到很好的阻擋作用，又不致太高而使陰極濺出的原子沉積在該基板431上劃傷玻璃，應(yīng)控制所述基板431低于所述傳遞輥30的最高點(diǎn)5-7mm。
[0035]所述絕緣件42采用的材料可以是質(zhì)量輕、易于加工、絕緣性能優(yōu)異的聚四氟乙烯(PTFE)，所述擋板43 —般采用鋁型材。，
[0036]進(jìn)一步地，在一些實(shí)施例中，所述絕緣件42與基板431之間還可設(shè)置螺孔板44，螺孔板44可與絕緣件42注塑成型在一起或者采用其他成型方式將螺孔板44嵌設(shè)在絕緣件42中。通過螺孔板44可使擋板43與絕緣件42形成更穩(wěn)固的連接。對應(yīng)的，在基板431上還形成安裝孔433，以供螺絲穿過而固定連接該基板431與螺孔板44、絕緣件42。
[0037]進(jìn)一步地，在一些實(shí)施例中，所述側(cè)板432至少部分與絕緣件42間隔。在圖2所示的實(shí)施例中，所述絕緣件42呈上大下小的設(shè)置，使得絕緣件42的下端與側(cè)板432間隔。如此設(shè)置可使擋板43與絕緣件42拆卸時更為便利。
[0038]在組裝與安裝該擋板組件40時，可先將固定板41、絕緣件42、擋板43與螺孔板44利用螺絲等緊固件組裝在一起，然后再將整個擋板組件40安裝在腔體10的底部。如此當(dāng)沉積一定量的陰極濺出物之后，可方便拆卸擋板組件40，并對擋板43等構(gòu)件進(jìn)行清理，或者直接更換新的擋板43，操作便利。
[0039]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種真空濺射鍍膜裝置，包括腔體、設(shè)于腔體內(nèi)的靶材、多個傳遞輥以及多個擋板組件，所述腔體底部為陽極，所述靶材為陰極，所述傳遞輥用于傳遞被鍍物，每一擋板組件設(shè)置在相鄰的兩個傳遞輥之間，且與腔體底部絕緣連接，其特征在于，該擋板組件包括固定板，絕緣件及擋板，所述固定板與腔體底部固定連接，所述絕緣件連接設(shè)置在固定板與擋板之間并使擋板與固定板、腔體底部絕緣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述腔體包括陰極蓋及相對設(shè)置的陽極板框，所述陽極板框的底部作為陽極，所述靶材設(shè)置在陰極蓋內(nèi)，所述傳遞輥、擋板組件設(shè)置在陽極板框內(nèi)，所述陽極板框上設(shè)置進(jìn)口與出口以供被鍍物進(jìn)出該腔體。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述陰極蓋與陽極板框之間設(shè)置密封件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述固定板上設(shè)置固定孔，所述固定板通過固定件固定于腔體底部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述擋板包括基板以及設(shè)置在基板兩側(cè)的側(cè)板，所述絕緣件位于兩側(cè)板及基板圍成的空間內(nèi)，所述側(cè)板與固定板間隔設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述側(cè)板與固定板之間的間距為2-5mm,所述基板低于所述傳遞棍的最高點(diǎn)5_7_。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述擋板的截面呈U形或者Π形。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述絕緣件與基板連接的一側(cè)設(shè)置第一螺紋孔，所述絕緣件與固定板連接的一側(cè)設(shè)置第二螺紋孔，所述基板、絕緣件和固定板之間通過螺絲連接，所述第一螺紋孔與第二螺紋孔不導(dǎo)通。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述絕緣件與基板之間還設(shè)置螺孔板。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述側(cè)板至少部分與絕緣件間隔。
【文檔編號】C23C14/34GK204198843SQ201420564414
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2014年9月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月28日
【發(fā)明者】余華駿, 江維, 饒志剛 申請人:咸寧南玻節(jié)能玻璃有限公司, 中國南玻集團(tuán)股份有限公司