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      一種拋光盤裝置制造方法

      文檔序號(hào):3338112閱讀:358來源:國(guó)知局
      一種拋光盤裝置制造方法
      【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種拋光盤裝置,包括,盤體本體、平整部以及膠墊;盤體本體上設(shè)有第一通孔和第二通孔;平整部上設(shè)有第三通孔和第四通孔;第一通孔與第三通孔固定連接、第二通孔與第四通孔固定連接,用于將平整部固定于盤體本體上;盤體本體上還設(shè)有拋光模具部,拋光模具部與所需拋光的物件形狀相同;膠墊填充于拋光模具部?jī)?nèi),透過拋光模具部與平整部相連,上料簡(jiǎn)單,無需加熱裝置,無污染,無需等待蠟?zāi)蹋?jié)約時(shí)間;采用聚氨酯材料,拋光面厚度一致,表面平整度高,位置精確。
      【專利說明】一種拋光盤裝置

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及拋光裝置,具體涉及一種拋光盤裝置。

      【背景技術(shù)】
      [0002]拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用,使工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用柔性拋光工具和磨料顆?;蚱渌麙伖饨橘|(zhì)對(duì)工件表面進(jìn)行修飾加工。待拋光材料的固定大都采用粘結(jié)蠟技術(shù),通過熔融的蠟?zāi)陶辰Y(jié)待拋光材料。隨著市場(chǎng)上鏡面拋光的流行,表面粗糙度要求的增高,產(chǎn)能要求的增大,環(huán)境要求的嚴(yán)格,粘接蠟已經(jīng)無法滿足要求。無法大規(guī)模生產(chǎn),且拋光時(shí)操作繁雜,效率低。
      實(shí)用新型內(nèi)容
      [0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種拋光盤裝置,使用真空吸附固定拋光物件,且使用FR4玻璃布基板材料,制造簡(jiǎn)單。
      [0004]本實(shí)用新型提供一種拋光盤裝置,包括,盤體本體、平整部以及膠墊;
      [0005]盤體本體上設(shè)有第一通孔和第二通孔,第一通孔和第二通孔設(shè)于盤體本體同一直徑的兩端上;
      [0006]平整部上設(shè)有第三通孔和第四通孔,第三通孔和第四通孔設(shè)于平整部同一直徑的兩端上;
      [0007]盤體本體與平整部通過第一通孔與第三通孔對(duì)應(yīng)固定連接、第二通孔與第四通孔對(duì)應(yīng)固定連接,用于將平整部固定于盤體本體上;
      [0008]盤體本體上還設(shè)有拋光模具部;
      [0009]膠墊固定于拋光模具部?jī)?nèi)。
      [0010]在一些實(shí)施方式中,盤體本體采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.1 μ m以下,使得表面平整度高。
      [0011]在一些實(shí)施方式中,平整部采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.1ym以下,使得表面平整度高。
      [0012]在一些實(shí)施方式中,膠墊采用聚氨酯材料,一端與平整部連接,另一端與所需拋光的物件連接。
      [0013]在一些實(shí)施方式中,盤體本體和平整部的直徑為100_300mm。大小可以根據(jù)拋光機(jī)的大小相應(yīng)設(shè)置。
      [0014]在一些實(shí)施方式中,盤體本體與平整部的厚度為1.5-5_。
      [0015]本實(shí)用新型在盤體本體內(nèi)鑲聚氨酯材料,利用真空吸附的原理吸附待拋光物件;區(qū)別于傳統(tǒng)的粘接蠟工藝,其上料簡(jiǎn)單,無需加熱裝置,無污染,無需等待蠟?zāi)?,?jié)約時(shí)間;采用聚氨酯材料,拋光面厚度一致,表面平整度高,位置精確。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0016]圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的一種拋光盤裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0017]圖2為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的一種拋光盤裝置的正視圖。
      [0018]圖3為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的一種拋光盤裝置的拋光時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。

      【具體實(shí)施方式】
      [0019]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述說明。
      [0020]一種拋光盤裝置,如圖1和圖2所示,圖中虛線表示基準(zhǔn)線。包括,盤體本體1、平整部2以及膠墊3 ;
      [0021]盤體本體I上設(shè)有第一通孔11和第二通孔12,第一通孔11和第二通孔12的位置與拋光機(jī)上固定位置相對(duì)應(yīng),第一通孔11和第二通孔12設(shè)于盤體本體I同一直徑的兩端上;
      [0022]平整部2上設(shè)有第三通孔21和第四通孔22,盤體本體I和平整部2的大小相同,平整部2的第三通孔21位置與盤體本體I上的第一通孔11相對(duì)應(yīng),平整部2的第四通孔22與第二通孔12位置相對(duì)應(yīng),第三通孔21和第四通孔22設(shè)于平整部2同一直徑的兩端上;
      [0023]盤體本體I與平整部2通過第一通孔11與第三通孔21相對(duì)應(yīng),通過螺絲穿過第一通孔11與第三通孔21,將盤體本體I與平整部2固定連接在拋光機(jī)上、第二通孔12與第四通孔22相對(duì)應(yīng),通過螺絲穿過第一通孔11與第三通孔21,將盤體本體I與平整部2固定在拋光機(jī)上;
      [0024]盤體本體I上還開設(shè)有拋光模具部13,拋光模具部13與所需拋光的物件4形狀相同;拋光模具部13為模具孔。
      [0025]將膠墊3填充于拋光模具部13內(nèi),透過拋光模具部13與平整部2接觸,將膠墊3粘貼在平整部2上,可以選擇雙面膠粘貼膠墊3。膠墊3的形狀與拋光模具部13的形狀一致。采用膠墊3,可以使拋光時(shí)拋光面厚度一致,表面平整度高,位置精確。
      [0026]盤體本體I采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.1 μ m以下,采用0.1 μ m以下的粗糙度,使得表面平整度高,使得拋光更精細(xì),盤體本體I為圓形板,方便拋光時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)操作。
      [0027]平整部2采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.1 μ m以下,采用0.1 μ m以下的粗糙度,使得表面平整度高,使得拋光更精細(xì),平整部2為圓形板,方便拋光時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)操作。
      [0028]如圖3所示,膠墊3采用聚氨酯材料,一端與平整部2連接,另一端與所需拋光的物件4連接,由于聚氨酯含有強(qiáng)極性氨基甲酸酯基團(tuán),調(diào)節(jié)配方中NC0/0H的比例,可以制得熱固性聚氨酯和熱塑性聚氨酯的不同產(chǎn)物。按其分子結(jié)構(gòu)可分為線型和體型兩種。體型結(jié)構(gòu)中由于交聯(lián)密度不同,可呈現(xiàn)硬質(zhì)、軟質(zhì)或介乎兩者之間的性能,具有高強(qiáng)度、高耐磨和耐溶劑等特點(diǎn)。可以滿足拋光的需求。本實(shí)用新型中膠墊3采用的是NC0/0H的比例為
      2.3/1,這樣可以滿足拋光作業(yè)的需求。
      [0029]拋光模具部13以3-5個(gè)為一組為環(huán)狀分布,盤體本體I上設(shè)有3_9組拋光模具部13,拋光模具部13在盤體本體I上成環(huán)狀分布。環(huán)形分布可以提高拋光的效率,同一時(shí)間可以多個(gè)物件一起進(jìn)行拋光,不僅節(jié)約了資源,而且提高了生產(chǎn)效率。
      [0030]盤體本體I和平整部2的直徑為100_300mm,可以滿足不同尺寸的拋光機(jī)、
      [0031]盤體本體I與平整部2的厚度為1.5-5_,經(jīng)實(shí)驗(yàn)表明,厚度為3.5時(shí),最為耐用。強(qiáng)度適中,且重量輕、方便工人操作和使用。
      [0032]實(shí)施例1:
      [0033]拋光模具部13以3個(gè)為一組為環(huán)狀分布,盤體本體I上設(shè)有3組拋光模具部13,各組拋光模具部13在盤體本體I上呈環(huán)狀分布。
      [0034]盤體本體I的直徑為100mm,盤體本體I的厚度為1.5mm,平整部2的厚度為1.5mm。
      [0035]盤體本體I采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.05 μ m。
      [0036]平整部2采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.05 μ m。
      [0037]實(shí)施例2:
      [0038]拋光模具部13以4個(gè)為一組為環(huán)狀分布,盤體本體I上設(shè)有7組拋光模具部13,各組拋光模具部13在盤體本體I上成環(huán)狀分布。
      [0039]盤體本體I的直徑為200mm,盤體本體I的厚度為3.5mm,平整部2的厚度為3.5mm。
      [0040]盤體本體I采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.07 μ m。
      [0041 ] 平整部2采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.1 μ m。
      [0042]實(shí)施例3:
      [0043]拋光模具部13以5個(gè)為一組為環(huán)狀分布,盤體本體I上設(shè)有9組拋光模具部13,各組拋光模具部13在盤體本體I上成環(huán)狀分布。
      [0044]盤體本體I的直徑為300mm,盤體本體I的厚度為5mm,平整部2的厚度為5mm。
      [0045]盤體本體I采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.1 μ m。
      [0046]平整部2采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.1 μ m。
      [0047]該拋光盤的基本工作原理為:拋光物件時(shí),將膠墊3填充于拋光模具部13內(nèi),并在膠墊3上涂上清水,將拋光物件吸附在膠墊3上;將安裝好拋光物件的拋光盤置于拋光機(jī)上并使物件朝向拋光砂輪,拋光結(jié)束后經(jīng)過清洗即可得到拋光好的物件。
      [0048]該拋光盤適用于拋光各種零件,如企業(yè)LOGO等。
      [0049]本實(shí)用新型在盤體本體I內(nèi)鑲嵌聚氨酯吸附墊片,利用真空吸附的原理吸附待拋光材料;區(qū)別于傳統(tǒng)的粘接蠟工藝,其上料簡(jiǎn)單,無需加熱裝置,無污染,無需等待蠟?zāi)?,?jié)約時(shí)間;采用聚氨酯吸附墊片,厚度一致,表面平整度高,位置精確。
      [0050]以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下,還可以做出若干相似的變形和改進(jìn),這些也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種拋光盤裝置,其特征在于,包括,盤體本體(I)、平整部(2)以及膠墊(3); 所述盤體本體(I)上設(shè)有第一通孔(11)和第二通孔(12),所述第一通孔(11)和所述第二通孔(12)設(shè)于所述盤體本體⑴同一直徑的兩端上; 所述平整部(2)上設(shè)有第三通孔(21)和第四通孔(22),所述第三通孔(21)和所述第四通孔(22)設(shè)于所述平整部(2)同一直徑的兩端上; 所述盤體本體(I)與所述平整部(2)通過所述第一通孔(11)與所述第三通孔(21)對(duì)應(yīng)固定連接、所述第二通孔(12)與所述第四通孔(22)對(duì)應(yīng)固定連接,將所述平整部(2)固定于所述盤體本體(I)上; 所述盤體本體(I)上還設(shè)有拋光模具部(13); 所述膠墊(3)固定于所述拋光模具部(13)內(nèi)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拋光盤裝置,其特征在于,所述盤體本體(I)采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.1 μ m以下。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拋光盤裝置,其特征在于,所述平整部(2)采用FR4玻璃布基板材料,表面粗糙度為0.1 μ m以下。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拋光盤裝置,其特征在于,所述膠墊(3)采用聚氨酯材料,一端與所述平整部(2)連接,另一端與所需拋光的物件(4)接觸。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拋光盤裝置,其特征在于,所述盤體本體(I)和所述平整部(2)的直徑為100-300mm。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拋光盤裝置,其特征在于,所述盤體本體(I)與所述平整部(2)的厚度為1.5_5mm。
      【文檔編號(hào)】B24D13/14GK204135910SQ201420678821
      【公開日】2015年2月4日 申請(qǐng)日期:2014年11月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月13日
      【發(fā)明者】查明懷 申請(qǐng)人:無錫市福吉電子科技有限公司
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