一種酸腐機滾筒裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型創(chuàng)造提供一種酸腐機滾筒裝置，包括硅片放置桿、支撐桿、固定桿和擋板；所述擋板上設有硅片放置桿卡固槽，支撐桿卡固槽，固定桿卡固槽；所述硅片放置桿、支撐桿和固定桿分別穿過擋板上的硅片放置桿卡固槽、支撐桿卡固槽和固定桿卡固槽，且擋板置于硅片放置桿、支撐桿和固定桿桿體的中間部位，所述硅片放置桿、支撐桿和固定桿兩端分別連接一個擋板。本實用新型創(chuàng)造具有的優(yōu)點和積極效果是：本實用新型創(chuàng)造中硅片放置桿的結構設計降低了在硅片在酸腐工序中造成的破損率，也保證設備的完好率；安裝滑槽的設計，方便結構的安裝與維修；新型卡片結構節(jié)省材料的使用。
【專利說明】一種酸腐機滾筒裝置

【技術領域】
[0001]本發(fā)明創(chuàng)造一種酸腐機滾筒裝置。

【背景技術】
[0002]隨著半導體行業(yè)的競爭壓力日益增加，產(chǎn)能提升的同時生產(chǎn)成本也要進一步進行控制，故在廢品率$父尚的半導體娃片彳丁業(yè)通過改進設備提尚娃片完好率對提尚廣能，控制成本起著重要作用。隨著產(chǎn)品的多樣化發(fā)展，單一的滾筒形式已經(jīng)不能滿足生產(chǎn)需要，對于滾筒的改造也勢在必行。老式滾筒針對于(圓片、單參考面、V槽)硅片可行，但對于一些雙參考面硅片會出現(xiàn)跳槽，導致碎片、卡片、滾軸死機等機械故障。導致雙參考面硅片合格率很低，生產(chǎn)成本高，難以支持大量生產(chǎn)，難以滿足客戶需求，為公司的市場發(fā)展戰(zhàn)略帶來新的挑戰(zhàn)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明創(chuàng)造要解決的問題是提供一種能夠使硅片穩(wěn)定卡固，且進一步提升生產(chǎn)效率的酸腐機滾筒裝置。
[0004]為解決上述技術問題，本發(fā)明創(chuàng)造采用的技術方案是:一種酸腐機滾筒裝置，包括硅片放置桿、支撐桿、固定桿和擋板；
[0005]所述擋板上設有三個娃片放置桿卡固槽，兩個支撐桿卡固槽，一個固定桿卡固槽，三個所述硅片放置桿卡固槽的分布為上方一個、下方兩個，且三個所述硅片放置桿卡固槽呈等腰三角形分布；兩個所述支撐桿卡固槽位置與兩個設置在下方的硅片放置桿卡固槽相對應，使所述支撐桿與放置在硅片放置桿上的硅片相切；所述固定桿卡固槽設置在擋板中軸線上中下部位置；
[0006]所述硅片放置桿包括桿體和卡片，所述卡片在桿體軸向上順次排布，所述卡片在桿體圓周上均勻分布，在桿體軸向上相鄰的所述卡片構成的硅片放置槽為梯形結構；
[0007]所述硅片放置桿、支撐桿和固定桿分別穿過擋板上的硅片放置桿卡固槽、支撐桿卡固槽和固定桿卡固槽，且擋板置于硅片放置桿、支撐桿和固定桿桿體的中間部位，所述硅片放置桿、支撐桿和固定桿兩端分別連接一個擋板。
[0008]優(yōu)選地，所述擋板上自上方硅片放置桿卡固槽設有一個安裝滑槽，所述硅片放置桿卡固槽在安裝滑槽內(nèi)，所述安裝滑槽為圓弧槽且槽寬與硅片放置桿直徑相等。
[0009]優(yōu)選地，相鄰所述卡片的夾角為100-140°。
[0010]優(yōu)選地，所述卡片為扇形結構。
[0011 ] 優(yōu)選地，所述卡片上自卡片外緣向內(nèi)設有凹槽。
[0012]本發(fā)明創(chuàng)造具有的優(yōu)點和積極效果是:本發(fā)明創(chuàng)造中硅片放置桿的結構設計降低了在硅片在酸腐工序中造成的破損率，也保證設備的完好率；安裝滑槽的設計，方便結構的安裝與維修；新型卡片結構節(jié)省材料的使用。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是本發(fā)明創(chuàng)造結構示意圖；
[0014]圖2是擋板正視結構示意圖；
[0015]圖3是圖1中硅片放置桿局部放大結構示意圖；
[0016]圖中:1_娃片放置桿，11-桿體，12-卡片，2-支撐桿，3-固定桿，4-擋板，5-娃片放置桿卡固槽，6-支撐桿卡固槽，7-固定桿卡固槽，8-安裝滑槽。

【具體實施方式】
[0017]下面結合附圖對本發(fā)明創(chuàng)造的具體實施例做詳細說明。
[0018]一種酸腐機滾筒裝置，包括硅片放置桿1、支撐桿2、固定桿3和擋板4 ;
[0019]所述擋板4上設有三個娃片放置桿卡固槽5，兩個支撐桿卡固槽6，一個固定桿卡固槽7，三個所述娃片放置桿卡固槽5的分布為上方一個、下方兩個，且三個所述娃片放置桿卡固槽5呈等腰三角形分布；兩個所述支撐桿卡固槽6位置與兩個設置在下方的硅片放置桿卡固槽5相對應，使所述支撐桿2與放置在硅片放置桿I上的硅片相切；所述固定桿卡固槽7設置在擋板4中軸線上中下部位置；
[0020]所述硅片放置桿I包括桿體11和卡片12，所述卡片為扇形結構，所述卡片可以上自卡片外緣向內(nèi)設有凹槽，所述卡片12在桿體11軸向上順次排布，所述卡片12在桿體11圓周上均勻分布，在桿體11軸向上相鄰的所述卡片12構成的硅片放置槽為梯形結構，相鄰所述卡片的夾角為100-140° ；
[0021]所述硅片放置桿1、支撐桿2和固定桿3分別穿過擋板4上的硅片放置桿卡固槽
5、支撐桿卡固槽6和固定桿卡固槽7，且擋板4置于娃片放置桿1、支撐桿2和固定桿3桿體的中間部位，所述硅片放置桿1、支撐桿2和固定桿3兩端分別連接一個擋板4。
[0022]優(yōu)選地，所述擋板4上自上方硅片放置桿卡固槽5設有一個安裝滑槽8，所述硅片放置桿卡固槽5在安裝滑槽8內(nèi)，所述安裝滑槽8為圓弧槽且槽寬與硅片放置桿I直徑相等。
[0023]實施例一:
[0024]針對采用本發(fā)明創(chuàng)造的硅片在機器內(nèi)運轉(zhuǎn)情況及最終合格率情況的測試。
[0025]硅片類型:5英寸區(qū)熔硅研磨片，硅片摻雜元素:磷(P)，硅片晶向:N〈111>、電阻率:0.0574% Ω.cm，硅片厚度:317um、雙參考面，硅片數(shù)量:2500片；
[0026]測試設備:MN-60光澤度儀，QFB-15千分表(量程0_3mm)，熒光燈、2個滾筒。
[0027]酸腐蝕液(混合酸液):各化學成分按重量百分比混合而成，分別是:氫氟酸(HF):8.27%，硝酸(HN03):40.24%，醋酸(CH3CCOH):21.60 %，選取產(chǎn)品 5000 片共計 20顆，使用老滾筒(硅片放置桿卡固槽為V型槽)進行腐蝕發(fā)現(xiàn)跳片5次造成45片碎片。而使用本發(fā)明創(chuàng)造設計的滾筒未出現(xiàn)跳片現(xiàn)象，但出現(xiàn)I片自損現(xiàn)象，是由于本身硅片有暗裂造成的。本發(fā)明創(chuàng)造設計的滾筒保證了設備的完好率，合格率由原來的99.1%提升到99.
[0028]有利于降低成本，提高生產(chǎn)效率，對于保證企業(yè)生產(chǎn)高質(zhì)量、高產(chǎn)量雙參片有突出作用，利于企業(yè)的發(fā)展。
[0029]以上對本發(fā)明創(chuàng)造的一個實施例進行了詳細說明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明創(chuàng)造的較佳實施例，不能被認為用于限定本發(fā)明創(chuàng)造的實施范圍。凡依本發(fā)明創(chuàng)造申請范圍所作的均等變化與改進等，均應仍歸屬于本發(fā)明創(chuàng)造的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
【權利要求】
1.一種酸腐機滾筒裝置，其特征在于:包括硅片放置桿、支撐桿、固定桿和擋板； 所述擋板上設有三個娃片放置桿卡固槽，兩個支撐桿卡固槽，一個固定桿卡固槽；三個所述硅片放置桿卡固槽的分布為上方一個、下方兩個，且三個所述硅片放置桿卡固槽呈等腰三角形分布；兩個所述支撐桿卡固槽位置與兩個設置在下方的硅片放置桿卡固槽相對應，使所述支撐桿與放置在硅片放置桿上的硅片相切；所述固定桿卡固槽設置在擋板中軸線上中下部位置； 所述硅片放置桿包括桿體和卡片，所述卡片在桿體軸向上順次排布，所述卡片在桿體圓周上均勻分布，在桿體軸向上相鄰的所述卡片構成的硅片放置槽為梯形結構； 所述硅片放置桿、支撐桿和固定桿分別穿過擋板上的硅片放置桿卡固槽、支撐桿卡固槽和固定桿卡固槽，且擋板置于硅片放置桿、支撐桿和固定桿桿體的中間部位，所述硅片放置桿、支撐桿和固定桿兩端分別連接一個擋板。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種酸腐機滾筒裝置，其特征在于:所述擋板上自上方硅片放置桿卡固槽設有一個安裝滑槽，所述硅片放置桿卡固槽在安裝滑槽內(nèi)，所述安裝滑槽為圓弧槽且槽寬與硅片放置桿直徑相等。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種酸腐機滾筒裝置，其特征在于:相鄰所述卡片的夾角為100-140。。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種酸腐機滾筒裝置，其特征在于:所述卡片為扇形結構。
5.根據(jù)權利要求4所述的一種酸腐機滾筒裝置，其特征在于:所述卡片上自卡片外緣向內(nèi)設有凹槽。
【文檔編號】C23F1/08GK204224704SQ201420694517
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年11月18日 優(yōu)先權日:2014年11月18日
【發(fā)明者】武衛(wèi), 翟洪升, 孫希凱, 甄紅昌, 李 浩 申請人:天津中環(huán)領先材料技術有限公司