一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，包括多弧靶、真空室、設(shè)置在真空室內(nèi)的路軌和架體；所述的架體上設(shè)有支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤(pán)；用于支撐架體的支撐件移動(dòng)式地安裝在路軌上，回轉(zhuǎn)盤(pán)套裝在中心軸上，回轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)有相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸上設(shè)有夾具，安裝在真空室上的多弧靶朝向夾具。鍍膜設(shè)備還包括直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，真空室上設(shè)有第二密封裝置，所述的直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過(guò)第二密封裝置與架體相接。所述的液壓缸穿過(guò)第二密封裝置連接在伸出臂上，液壓缸的活塞桿的端部設(shè)有用于抓緊伸出臂的抓爪。本實(shí)用新型能實(shí)現(xiàn)工件鍍膜均勻度的修正，提高了產(chǎn)品整體的品質(zhì)，屬于真空鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)的鍍膜方法和設(shè)備，采用多個(gè)多弧靶為分組排列，多弧靶的靶材與靶材之間錯(cuò)位安裝，有一定距離，導(dǎo)致多弧靶的靶材正對(duì)工件的位置比旁邊位置的工件膜層的厚度不一致，且厚度差距較大，即使采用工件偏壓來(lái)增強(qiáng)厚度的均勻性，但實(shí)際效果不理想，只能采用由多弧靶鍍膜打底的方式，再采用磁控濺射靶來(lái)鍍膜，從而確保均勻度，但這樣導(dǎo)致生產(chǎn)效率低，生產(chǎn)成本高，產(chǎn)品市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力不強(qiáng)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的是:提供一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，能實(shí)現(xiàn)工件鍍膜均勻度的修正，提高了產(chǎn)品整體的品質(zhì)。
[0004]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
[0005]—種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，包括多弧靶、真空室、設(shè)置在真空室內(nèi)的路軌和架體;所述的架體上設(shè)有支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤(pán);用于支撐架體的支撐件移動(dòng)式地安裝在路軌上，回轉(zhuǎn)盤(pán)套裝在中心軸上，回轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)有相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸上設(shè)有夾具，安裝在真空室上的多弧靶朝向夾具。在回轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)、自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)、架體的前后移動(dòng)，這三種運(yùn)動(dòng)使得多弧靶能對(duì)夾具上的工件進(jìn)行均勻地鍍膜，且工件上鍍的膜層均勻性好。
[0006]進(jìn)一步的是:鍍膜設(shè)備還包括直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，真空室上設(shè)有第二密封裝置，所述的直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過(guò)第二密封裝置與架體相接?？勺尲荏w沿著路軌前后移動(dòng)。
[0007]進(jìn)一步的是:所述的直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為液壓缸，所述的架體上設(shè)有伸出臂，所述的液壓缸穿過(guò)第二密封裝置連接在伸出臂上，液壓缸的活塞桿的端部設(shè)有用于抓緊伸出臂的抓爪。液壓缸通過(guò)伸出臂推動(dòng)架體前后移動(dòng)。
[0008]進(jìn)一步的是:鍍膜設(shè)備還包括回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)?；剞D(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)公轉(zhuǎn)組件和自轉(zhuǎn)組件實(shí)現(xiàn)回轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)和自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0009]進(jìn)一步的是:所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)軸、用于驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)、轉(zhuǎn)動(dòng)軸;所述的傳動(dòng)軸上設(shè)有咬合凹盤(pán)，隨架體移動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上設(shè)有與咬合凹盤(pán)相適應(yīng)的咬合凸盤(pán)，所述的轉(zhuǎn)動(dòng)軸通過(guò)公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述的轉(zhuǎn)動(dòng)軸通過(guò)自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0010]進(jìn)一步的是:所述的傳動(dòng)軸上設(shè)有彈簧，套裝在傳動(dòng)軸上的彈簧的一端固定在咬合凹盤(pán)上，另一端固定在傳動(dòng)軸上;所述的咬合凹盤(pán)滑動(dòng)式地安裝在傳動(dòng)軸上。可保證咬合凸盤(pán)和咬合凹盤(pán)始終相互咬合。
[0011]進(jìn)一步的是:所述的傳動(dòng)軸上設(shè)有鍵槽，咬合凹盤(pán)通過(guò)鍵滑動(dòng)式安裝在傳動(dòng)軸上。咬合凹盤(pán)可在傳動(dòng)軸上滑動(dòng)。
[0012]進(jìn)一步的是:所述的真空室內(nèi)設(shè)有用于支撐轉(zhuǎn)動(dòng)軸的定位板。定位板可以使轉(zhuǎn)動(dòng)軸保持在應(yīng)有位置，使轉(zhuǎn)動(dòng)軸的軸線保持不變，轉(zhuǎn)動(dòng)軸不會(huì)上下晃動(dòng)。
[0013]進(jìn)一步的是:所述的電機(jī)和傳動(dòng)軸之間設(shè)有第一密封裝置。由于回轉(zhuǎn)盤(pán)等為帶電體，設(shè)置了第一密封裝置后，可以使得真空室不帶電。
[0014]進(jìn)一步的是:所述的自轉(zhuǎn)軸設(shè)有多個(gè)，多個(gè)自轉(zhuǎn)軸沿著回轉(zhuǎn)盤(pán)的圓周方向均勻布置。
[0015]總的說(shuō)來(lái)，本實(shí)用新型具有如下優(yōu)點(diǎn):
[0016]1.本實(shí)用新型的多弧離子鍍膜設(shè)備，因能大幅度提升多弧離子鍍膜的均勻性，減少了膜層斑馬條紋等缺陷。
[0017]2.本實(shí)用新型不需要采用多弧靶鍍膜打底，再用磁控濺射靶來(lái)鍍膜，能大幅節(jié)省鍍膜時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。
[0018]3.本實(shí)用新型鍍膜設(shè)備簡(jiǎn)單，不用多弧靶與磁控靶合并使用，生產(chǎn)周期短，節(jié)約生廣成本，提尚廣品性?xún)r(jià)比。
[0019]4.本實(shí)用新型設(shè)置的直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，能實(shí)現(xiàn)架體的前后移動(dòng)。
[0020]5.本實(shí)用新型設(shè)置的回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，能實(shí)現(xiàn)回轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)和自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。
【附圖說(shuō)明】

[0021]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖2是圖1A處的放大圖。
[0023]圖3是圖1B處的放大圖。
[0024]其中，I為抽真空機(jī)組，2為多弧靶，3為真空室，4為電機(jī)，5為第一密封裝置，6為傳動(dòng)軸，7為轉(zhuǎn)動(dòng)軸，8為定位板，9為液壓缸，10為第二密封裝置，11為液壓缸的活塞桿，12為抓爪，13為伸出臂，14為行走輪，15為絕緣支撐裝置，16為路軌，17為支撐件，18為中心軸，19為回轉(zhuǎn)盤(pán)，20為自轉(zhuǎn)軸，21為夾具，22為自轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪，23為自轉(zhuǎn)被動(dòng)齒輪，24公轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪，25為彈簧，26為咬合凹盤(pán)上的孔，27為咬合凹盤(pán)，28為咬合凸盤(pán)，29為咬合凸盤(pán)上的桿，30為傳動(dòng)軸上的鍵槽。
【具體實(shí)施方式】
[0025]下面將結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】來(lái)對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0026]圖1為從前視方向(這里說(shuō)的前視方向?yàn)橥队皶r(shí)的方位)投影得到的圖，為敘述方便，下文所說(shuō)的上下前后方向與圖1本身的上下右左方向一致，下文所說(shuō)的左右方向與圖1投影關(guān)系的后前方向一致，。
[0027]結(jié)合圖1所示，一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，包括多弧靶、真空室、抽真空機(jī)組、設(shè)置在真空室內(nèi)的路軌和架體;抽真空機(jī)組安裝在真空室的上端，多弧靶有多個(gè)，多弧靶安裝在真空室的上端。所述的架體(圖中未示出)上設(shè)有支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤(pán);支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤(pán)均安裝在架體上，中心軸設(shè)置在架體的中心位置。用于支撐架體的支撐件移動(dòng)式地安裝在路軌上，支撐件有4個(gè)，兩個(gè)支撐件安裝在架體后部的左右兩側(cè)，其余兩個(gè)支撐件安裝在架體前部的左右兩側(cè);支撐件的下端設(shè)有行走輪，行走輪在路軌上前后移動(dòng);行走輪的上方安裝有絕緣支撐裝置，絕緣支撐裝置可以將回轉(zhuǎn)盤(pán)等帶電體和行走輪絕緣起來(lái)，回轉(zhuǎn)盤(pán)、中心軸、自轉(zhuǎn)軸等為帶電體，行走輪和路軌不帶電?；剞D(zhuǎn)盤(pán)套裝在中心軸上，回轉(zhuǎn)盤(pán)有兩個(gè)，一個(gè)回轉(zhuǎn)盤(pán)套裝在中心軸的前部，另一個(gè)回轉(zhuǎn)盤(pán)套裝在中心軸的后部。回轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)有相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸的前端連接在前邊的回轉(zhuǎn)盤(pán)上，自轉(zhuǎn)軸的后部連接在后邊的回轉(zhuǎn)盤(pán)上。自轉(zhuǎn)軸上設(shè)有夾具，工件安裝在夾具的圓周表面上，安裝在真空室上的多弧靶的靶材朝向夾具，工件安裝在夾具上。
[0028]鍍膜設(shè)備還包括直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，真空室上設(shè)有第二密封裝置，第二密封裝置安裝在真空室后部的下方，第二密封裝置的一部分位于真空室內(nèi)，一部分位于真空室外，所述的直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過(guò)第二密封裝置與架體相接。
[0029]所述的直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為液壓缸，所述的架體上設(shè)有伸出臂，伸出臂設(shè)置在架體后部的中間位置，且伸出臂設(shè)置在架體的下部，所述的液壓缸穿過(guò)第二密封裝置連接在伸出臂上，即液壓缸的一部分位于第二密封裝置的內(nèi)部，結(jié)合圖3所示，液壓缸的活塞桿的端部設(shè)有用于抓緊伸出臂的抓爪，即液壓缸的活塞桿的前端設(shè)有抓爪。由于伸出臂位于架體后部左右居中的位置，液壓缸通過(guò)伸出臂推動(dòng)架體前后運(yùn)動(dòng)時(shí)，架體能平穩(wěn)移動(dòng)。當(dāng)伸出臂向后運(yùn)動(dòng)，伸出臂碰觸到抓爪時(shí)，抓爪能抓緊伸出臂，從而液壓缸的活塞桿可以推動(dòng)架體前后運(yùn)動(dòng)。直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)也可以為氣動(dòng)缸，相應(yīng)的，活塞桿應(yīng)為氣動(dòng)桿。
[0030]鍍膜設(shè)備還包括回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0031 ]所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)軸、用于驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)、轉(zhuǎn)動(dòng)軸;所述的傳動(dòng)軸上設(shè)有咬合凹盤(pán)，隨架體移動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上設(shè)有與咬合凹盤(pán)相適應(yīng)的咬合凸盤(pán)，咬合凸盤(pán)設(shè)置在轉(zhuǎn)動(dòng)軸的后端，轉(zhuǎn)動(dòng)軸可以轉(zhuǎn)動(dòng)式安裝在架體上，咬合凹盤(pán)和咬合凸盤(pán)相互咬合時(shí)，傳動(dòng)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)可以帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)，咬合凹盤(pán)上設(shè)有多個(gè)孔，咬合凸盤(pán)上設(shè)有多根桿，咬合凸盤(pán)上的桿可以插入咬合凹盤(pán)上的孔內(nèi)。所述的轉(zhuǎn)動(dòng)軸通過(guò)公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述的轉(zhuǎn)動(dòng)軸通過(guò)自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。一種公轉(zhuǎn)組件和自轉(zhuǎn)組件的實(shí)現(xiàn)方式是:公轉(zhuǎn)組件包括公轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪和公轉(zhuǎn)被動(dòng)齒輪，公轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪設(shè)置在轉(zhuǎn)動(dòng)軸的前端，公轉(zhuǎn)被動(dòng)齒輪(圖中未標(biāo)出)設(shè)置在回轉(zhuǎn)盤(pán)上，公轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪和公轉(zhuǎn)被動(dòng)齒輪的相互嚙合可以驅(qū)動(dòng)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。自轉(zhuǎn)組件包括自轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪和自轉(zhuǎn)被動(dòng)齒輪，自轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪設(shè)置在轉(zhuǎn)動(dòng)軸上，自轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪位于公轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪的后面，自轉(zhuǎn)被動(dòng)齒輪設(shè)置在自轉(zhuǎn)軸的后端，自轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪和自轉(zhuǎn)被動(dòng)齒輪的相互嚙合可以驅(qū)動(dòng)自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。當(dāng)然也可以通過(guò)其他方式實(shí)現(xiàn)回轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)和自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。轉(zhuǎn)動(dòng)軸作為動(dòng)力源，用于驅(qū)動(dòng)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)(公轉(zhuǎn))和自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)(自轉(zhuǎn))，自轉(zhuǎn)組件和公轉(zhuǎn)組件可以是其他相應(yīng)的鏈傳動(dòng)機(jī)構(gòu)或者皮帶輪轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)等。
[0032]所述的傳動(dòng)軸上設(shè)有彈簧，套裝在傳動(dòng)軸上的彈簧的一端固定在咬合凹盤(pán)上，另一端固定在傳動(dòng)軸上;所述的咬合凹盤(pán)滑動(dòng)式地安裝在傳動(dòng)軸上。
[0033]結(jié)合圖2所示，所述的傳動(dòng)軸上設(shè)有鍵槽，咬合凹盤(pán)通過(guò)鍵滑動(dòng)式安裝在傳動(dòng)軸上。傳動(dòng)軸上的鍵槽的長(zhǎng)度應(yīng)合理設(shè)置，咬合凹盤(pán)通過(guò)鍵安裝在傳動(dòng)軸上，咬合凹盤(pán)可沿著鍵槽滑動(dòng)。
[0034]所述的真空室內(nèi)設(shè)有用于支撐轉(zhuǎn)動(dòng)軸的定位板。由于轉(zhuǎn)動(dòng)軸比較長(zhǎng)，定位板可以使轉(zhuǎn)動(dòng)軸保持在應(yīng)有位置，使轉(zhuǎn)動(dòng)軸的軸線保持不變，轉(zhuǎn)動(dòng)軸不會(huì)上下晃動(dòng)。
[0035]所述的電機(jī)和傳動(dòng)軸之間設(shè)有第一密封裝置。第一密封裝置為絕緣密封裝置，第一密封裝置和電機(jī)均位于真空室的外部，由于回轉(zhuǎn)盤(pán)等為帶電體，設(shè)置了第一密封裝置后，可以使得真空室不帶電。
[0036]所述的自轉(zhuǎn)軸設(shè)有多個(gè)，多個(gè)自轉(zhuǎn)軸沿著回轉(zhuǎn)盤(pán)的圓周方向均勻布置。同時(shí)，每個(gè)自轉(zhuǎn)軸上均設(shè)有夾具。為方便起見(jiàn)，圖1中只繪制出一個(gè)自轉(zhuǎn)軸。當(dāng)有多個(gè)自轉(zhuǎn)軸時(shí)，自轉(zhuǎn)主動(dòng)齒輪應(yīng)能與每個(gè)自轉(zhuǎn)被動(dòng)齒輪很好的相互嚙合。
[0037]使用該多弧離子鍍膜設(shè)備的方法是:架體沿著路軌向后運(yùn)動(dòng)，當(dāng)架體上的伸出臂碰觸到液壓缸的活塞桿上的抓爪后，抓爪將伸出臂抓緊，此時(shí)，液壓缸通過(guò)伸出臂推動(dòng)架體前后運(yùn)動(dòng)。當(dāng)架體向后運(yùn)動(dòng)時(shí)，當(dāng)咬合凸盤(pán)和咬合凹盤(pán)相互咬合后，電機(jī)通過(guò)傳動(dòng)軸帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)回轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)和自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)；當(dāng)架體向前運(yùn)動(dòng)時(shí)，由于此時(shí)，彈簧處于壓縮狀態(tài)，彈簧推動(dòng)咬合凹盤(pán)向前滑動(dòng)，從而使咬合凹盤(pán)和咬合凸盤(pán)始終處于相互咬合狀態(tài)，從而保證轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)。在回轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)、自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)、架體的前后移動(dòng)，這三種運(yùn)動(dòng)使得多弧靶能對(duì)夾具上的工件進(jìn)行均勻地鍍膜，且工件上鍍的膜層均勻性好，能實(shí)現(xiàn)工件鍍膜均勻度的修正。
[0038]本實(shí)用新型的鍍膜設(shè)備適用于鍍制高級(jí)裝飾膜、合金膜或功能膜，廣泛用于建筑五金材料、手機(jī)或數(shù)碼產(chǎn)品、刀具或工具、陶瓷等行業(yè)。
[0039]上述實(shí)施例為本實(shí)用新型較佳的實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的實(shí)施方式并不受上述實(shí)施例的限制，其他的任何未背離本實(shí)用新型的精神實(shí)質(zhì)與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡(jiǎn)化，均應(yīng)為等效的置換方式，都包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:包括多弧靶、真空室、設(shè)置在真空室內(nèi)的路軌和架體;所述的架體上設(shè)有支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤(pán)；用于支撐架體的支撐件移動(dòng)式地安裝在路軌上，回轉(zhuǎn)盤(pán)套裝在中心軸上，回轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)有相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸上設(shè)有夾具，安裝在真空室上的多弧靶朝向夾具。2.按照權(quán)利要求1所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:鍍膜設(shè)備還包括直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，真空室上設(shè)有第二密封裝置，所述的直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過(guò)第二密封裝置與架體相接。3.按照權(quán)利要求2所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為液壓缸，所述的架體上設(shè)有伸出臂，所述的液壓缸穿過(guò)第二密封裝置連接在伸出臂上，液壓缸的活塞桿的端部設(shè)有用于抓緊伸出臂的抓爪。4.按照權(quán)利要求1所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:鍍膜設(shè)備還包括回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。5.按照權(quán)利要求4所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)軸、用于驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)、轉(zhuǎn)動(dòng)軸;所述的傳動(dòng)軸上設(shè)有咬合凹盤(pán)，隨架體移動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上設(shè)有與咬合凹盤(pán)相適應(yīng)的咬合凸盤(pán)，所述的轉(zhuǎn)動(dòng)軸通過(guò)公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述的轉(zhuǎn)動(dòng)軸通過(guò)自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動(dòng)自轉(zhuǎn)軸相對(duì)回轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。6.按照權(quán)利要求5所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的傳動(dòng)軸上設(shè)有彈簧，套裝在傳動(dòng)軸上的彈簧的一端固定在咬合凹盤(pán)上，另一端固定在傳動(dòng)軸上;所述的咬合凹盤(pán)滑動(dòng)式地安裝在傳動(dòng)軸上。7.按照權(quán)利要求6所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的傳動(dòng)軸上設(shè)有鍵槽，咬合凹盤(pán)通過(guò)鍵滑動(dòng)式安裝在傳動(dòng)軸上。8.按照權(quán)利要求5所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的真空室內(nèi)設(shè)有用于支撐轉(zhuǎn)動(dòng)軸的定位板。9.按照權(quán)利要求5所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的電機(jī)和傳動(dòng)軸之間設(shè)有第一密封裝置。10.按照權(quán)利要求1所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的自轉(zhuǎn)軸設(shè)有多個(gè)，多個(gè)自轉(zhuǎn)軸沿著回轉(zhuǎn)盤(pán)的圓周方向均勻布置。
【文檔編號(hào)】C23C14/50GK205710894SQ201620667913
【公開(kāi)日】2016年11月23日
【申請(qǐng)日】2016年6月27日
【發(fā)明人】朱文廓, 朱剛勁, 朱剛毅
【申請(qǐng)人】廣東騰勝真空技術(shù)工程有限公司