本發(fā)明涉及一種研磨設(shè)備,特別是一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備。
背景技術(shù):
研磨機(jī)就是對(duì)工件表面進(jìn)行研磨拋光處理的拋光設(shè)備。它通過磨料和工件在渦流機(jī)內(nèi)高速旋轉(zhuǎn),利用相互摩擦的原理對(duì)工件進(jìn)行拋光處理。工件和磨料之間相互摩擦?xí)a(chǎn)熱,需要添加水來進(jìn)行降溫處理,但是由于渦流機(jī)的高速旋轉(zhuǎn)會(huì)使摩擦產(chǎn)熱的速度很快以及拋光處理的時(shí)間較長(zhǎng),在研磨過程中需要更換冷卻水,現(xiàn)有的研磨設(shè)備一般都是通過人工定期進(jìn)行更換,更換時(shí)研磨拋光機(jī)需要暫停工作,這種方式不僅增加工人的勞動(dòng)強(qiáng)度,而且還會(huì)影響研磨的效率和質(zhì)量,同時(shí)人工更換的方式無法精確的控制更換水的頻率以及更換水的液位。同時(shí),由于研磨設(shè)備在研磨拋光時(shí)需要用到大量的水,磨料和工件分離后,磨料表面還是會(huì)吸附有一定的水,磨料和工件在振動(dòng)沖洗分離階段也會(huì)產(chǎn)生一定的廢水,因此磨料在輸送皮帶上回料時(shí),這些水分就會(huì)滴落到機(jī)架和地面上,造成地面潮濕;這樣不僅容易弄臟地面,而且還會(huì)使得工人發(fā)生打滑,從而造成安全生產(chǎn)事故。另外,利用皮帶傳輸時(shí),磨料從振動(dòng)沖洗分離裝置出料端進(jìn)入到皮帶這一過程中,磨料容易亂蹦,致使部分磨料散落到機(jī)架或者地面上,需要人工撿拾,不僅增加了勞動(dòng)強(qiáng)度,還降低了磨料的利用率。因此,現(xiàn)有的技術(shù)存在著冷卻水更換難度大、工人勞動(dòng)強(qiáng)度大、研磨效率低、磨料回流時(shí)的廢水無法及時(shí)回收以及磨料的利用率較低的問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于,提供一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備。本發(fā)明具有能夠方便快速的更換冷卻水、降低工人的勞動(dòng)強(qiáng)度和提高研磨效率的特點(diǎn),還具有能夠及時(shí)回收磨料回流時(shí)產(chǎn)生的廢水和提高磨料利用率的特點(diǎn)。
本發(fā)明的技術(shù)方案:一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備,包括機(jī)架,機(jī)架上設(shè)有上料裝置,上料裝置相鄰的兩側(cè)分別設(shè)有渦流清洗裝置和振動(dòng)沖洗分離裝置,渦流清洗裝置和振動(dòng)沖洗分離裝置之間設(shè)有緩沖斗;所述的渦流清洗裝置包括設(shè)置在上料裝置側(cè)面的渦流拋光機(jī),渦流拋光機(jī)外側(cè)設(shè)有液位控制裝置;所述的振動(dòng)沖洗分離裝置下方設(shè)有磨料回流裝置,且磨料回流裝置的出料端與上料裝置相對(duì)應(yīng);所述的機(jī)架上還設(shè)有控制器,控制器與上料裝置、渦流清洗裝置、振動(dòng)沖洗分離裝置和磨料回流裝置相連。
前述的一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備中,所述液位控制裝置包括設(shè)置在渦流拋光機(jī)外側(cè)壁的液位控制盒,液位控制盒內(nèi)設(shè)有浮球液位開關(guān),液位控制盒下端設(shè)有送水管,送水管上設(shè)有與渦流拋光機(jī)相連通的出水管,送水管內(nèi)設(shè)有位于出水管下方的進(jìn)水球閥,液位控制盒的側(cè)壁上設(shè)有與渦流拋光機(jī)相連通的回流管;所述的渦流拋光機(jī)底部還設(shè)有排水管,排水管上設(shè)有排水球閥,排水管下方設(shè)有污水收集盤,污水收集盤經(jīng)污水管連接有污水緩沖池。
前述的一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備中,其特征在于:所述的渦流拋光機(jī)外側(cè)壁上設(shè)有分別與出水管和回流管相對(duì)應(yīng)的出水口和回水口。
前述的一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備中,所述液位控制盒上端還設(shè)有排氣管。
前述的一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備中,所述磨料回流裝置包括設(shè)置在機(jī)架上的兩塊限位板,兩塊限位板之間設(shè)有兩根平行布置的導(dǎo)軌,導(dǎo)軌上設(shè)有滑動(dòng)座,滑動(dòng)座上設(shè)有彈簧,彈簧上方設(shè)有傾斜的回料斗,回料斗下方設(shè)有振動(dòng)電機(jī);所述的機(jī)架上還設(shè)有伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接有移動(dòng)架,移動(dòng)架與滑動(dòng)座相連。
前述的一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備中,所述的滑動(dòng)座包括設(shè)置在導(dǎo)軌上的兩塊滑動(dòng)板,兩個(gè)滑動(dòng)板之間設(shè)有兩塊平行布置的固定板,兩塊固定板之間設(shè)有連接桿,連接桿與移動(dòng)架相固定。
前述的一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備中,所述回料斗包括兩塊呈八字型布置的側(cè)擋板,兩塊側(cè)擋板之間設(shè)有傾斜布置的導(dǎo)引底板,導(dǎo)引底板的進(jìn)料端設(shè)有端部擋板,且端部擋板與側(cè)擋板相固定;所述的側(cè)擋板外側(cè)設(shè)有與彈簧相固定的固定座。回料斗形成一個(gè)進(jìn)料端開口小于出料端開口的形狀,這樣就便于在進(jìn)料端集中磨料,提高傳輸效率,同時(shí)還能保證出料端的磨料不會(huì)集中輸送至上料裝置的某一特定位置,保證磨料輸送的均勻性。
前述的一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備中,所述的伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括固定在機(jī)架上的液壓缸,液壓缸伸出端設(shè)有頂桿,且頂桿與移動(dòng)架相固定。
前述的一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備中,所述的回料斗進(jìn)料端位于振動(dòng)沖洗分離裝置下方,所述的回料斗出料端位于上料裝置的上方。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明通過在渦流拋光機(jī)上設(shè)置液位控制裝置,利用液位控制裝置取代人工更換冷卻水的方式對(duì)渦流拋光機(jī)內(nèi)的冷卻水進(jìn)行自動(dòng)的更換,降低了工人的勞動(dòng)強(qiáng)度,提高更換水的速度,而且在更換水的時(shí)候不需要暫停研磨機(jī)的工作,提高研磨的效率,改善研磨的質(zhì)量;而且通過液位控制裝置取代人工進(jìn)行液位的控制,能夠精確的控制渦流拋光機(jī)內(nèi)的液位。通過在振動(dòng)沖洗分離裝置和上料裝置之間設(shè)置磨料回流裝置,通過傾斜結(jié)構(gòu)的回料斗,用以承接全部的磨料以及磨料自帶的廢水,保證廢水不會(huì)滴落至機(jī)架和地面上,使得地面能夠長(zhǎng)時(shí)間的保持干燥,進(jìn)而能夠減少打滑等事故的發(fā)生;而且回料斗還能夠防止磨料在進(jìn)料時(shí)會(huì)由于反彈力的作用散落至機(jī)架和地面的現(xiàn)象的發(fā)生,不再需要人工撿拾,進(jìn)而提高磨料的利用率。綜上所述,本發(fā)明能夠方便快速的更換冷卻水、降低工人的勞動(dòng)強(qiáng)度和提高研磨效率,還能夠及時(shí)回收磨料回流時(shí)產(chǎn)生的廢水和提高磨料利用率。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是渦流清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是液位控制盒的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4是液位控制盒的剖視圖;
圖5是磨料回流裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6是磨料回流裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖中的標(biāo)記為:1-機(jī)架,2-上料裝置,3-渦流清洗裝置,4-振動(dòng)沖洗分離裝置,5-緩沖斗,6-磨料回流裝置,7-渦流拋光機(jī),8-液位控制裝置,9-控制器,601-限位板,602-導(dǎo)軌,603-滑動(dòng)座,604-彈簧,605-回料斗,606-振動(dòng)電機(jī),607-伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),608-移動(dòng)架,609-滑動(dòng)板,610-固定板,611-連接桿,612-側(cè)擋板,613-導(dǎo)引底板,614-端部擋板,615-液壓缸,616-頂桿,617-固定座,801-液位控制盒,802-浮球液位開關(guān),803-送水管,804-出水管,805-進(jìn)水球閥,806-回流管,807-排水管,808-排水球閥,809-污水收集盤,810-污水管,811-污水緩沖池,812-排氣管。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明,但并不作為對(duì)本發(fā)明限制的依據(jù)。
實(shí)施例。一種全自動(dòng)渦流式成套研磨設(shè)備,構(gòu)成如圖1至圖6所示,包括機(jī)架1,機(jī)架1上設(shè)有上料裝置2,上料裝置2相鄰的兩側(cè)分別設(shè)有渦流清洗裝置3和振動(dòng)沖洗分離裝置4,渦流清洗裝置3和振動(dòng)沖洗分離裝置4之間設(shè)有緩沖斗5;所述的渦流清洗裝置3包括設(shè)置在上料裝置2側(cè)面的渦流拋光機(jī)7,渦流拋光機(jī)7外側(cè)壁上設(shè)有液位控制裝置8;所述的振動(dòng)沖洗分離裝置4下方設(shè)有磨料回流裝置6,且磨料回流裝置6的出料端與上料裝置2相對(duì)應(yīng);所述的機(jī)架1上還設(shè)有控制器9,控制器9與上料裝置2、渦流清洗裝置3、振動(dòng)沖洗分離裝置4和磨料回流裝置6相連。
所述液位控制裝置8包括設(shè)置在渦流拋光機(jī)7外側(cè)壁的液位控制盒801,液位控制盒801內(nèi)設(shè)有浮球液位開關(guān)802,液位控制盒801下端設(shè)有送水管803,送水管803上設(shè)有與渦流拋光機(jī)7相連通的出水管804,送水管803內(nèi)設(shè)有位于出水管804下方的進(jìn)水球閥805,液位控制盒801的側(cè)壁上設(shè)有與渦流拋光機(jī)7相連通的回流管806;所述的渦流拋光機(jī)7底部還設(shè)有排水管807,排水管807上設(shè)有排水球閥808,排水管807下方設(shè)有污水收集盤809,污水收集盤809經(jīng)污水管810連接有污水緩沖池811。
所述的渦流拋光機(jī)7外側(cè)壁上設(shè)有分別與出水管804和回流管806相對(duì)應(yīng)的出水口和回水口。
所述液位控制盒801上端還設(shè)有排氣管812。
所述污水收集盤為錐形結(jié)構(gòu)。所述污水管和污水緩沖池之間設(shè)有污水止通開關(guān)。
所述磨料回流裝置6包括設(shè)置在機(jī)架1上的兩塊限位板601,兩塊限位板601之間設(shè)有兩根平行布置的導(dǎo)軌602,導(dǎo)軌602上設(shè)有滑動(dòng)座603,滑動(dòng)座603上設(shè)有彈簧604,彈簧604上方設(shè)有傾斜的回料斗605,回料斗605下方設(shè)有振動(dòng)電機(jī)606;所述的機(jī)架1上還設(shè)有伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)607,伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)607連接有移動(dòng)架608,移動(dòng)架608與滑動(dòng)座603相連。
所述的滑動(dòng)座603包括設(shè)置在導(dǎo)軌602上的兩塊滑動(dòng)板609,兩個(gè)滑動(dòng)板609之間設(shè)有兩塊平行布置的固定板610,兩塊固定板610之間設(shè)有連接桿611,連接桿611與移動(dòng)架608相固定。
所述回料斗605包括兩塊呈八字型布置的側(cè)擋板612,兩塊側(cè)擋板612之間設(shè)有傾斜布置的導(dǎo)引底板613,導(dǎo)引底板613的進(jìn)料端設(shè)有端部擋板614,且端部擋板614與側(cè)擋板612相固定;所述的側(cè)擋板612外側(cè)設(shè)有與彈簧604相固定的固定座617。
所述的伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)607包括固定在機(jī)架1上的液壓缸615,液壓缸615伸出端設(shè)有頂桿616,且頂桿616與移動(dòng)架608相固定。
所述的回料斗605進(jìn)料端位于振動(dòng)沖洗分離裝置4下方,所述的回料斗605出料端位于上料裝置2的上方。
所述的上料裝置2包括固定在機(jī)架1上的支撐架,支撐架上設(shè)有液壓旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),液壓旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接有上料斗。
所述的緩沖斗5傾斜鉸接在機(jī)架1上,且緩沖斗和機(jī)架之間設(shè)有彈簧。
所述渦流拋光機(jī)7和緩沖斗5之間設(shè)有支撐架,支撐架上設(shè)有與渦流拋光機(jī)7相連的液壓旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
所述振動(dòng)沖洗分離裝置4包括固定在機(jī)架1上的分離箱,分離箱上端設(shè)有振動(dòng)電機(jī)和沖洗機(jī)構(gòu),所述分離箱內(nèi)設(shè)有分篩網(wǎng),分篩網(wǎng)下方設(shè)有錐形結(jié)構(gòu)的磨料收集器,磨料收集器出料端下方與磨料回流裝置相對(duì)應(yīng)。所述沖洗機(jī)構(gòu)左端設(shè)有沖洗管件,沖洗管件與分篩網(wǎng)相對(duì)應(yīng)。
所述液位控制盒801內(nèi)還設(shè)有液位控制器,液位控制器與浮球液位開關(guān)802、排水球閥808和進(jìn)水球閥805相連;液位控制器還與控制器相連。
本發(fā)明的工作過程:將磨料和工件被放入上料斗內(nèi),通過液壓旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)將上料斗旋轉(zhuǎn)至渦流拋光機(jī)7上方,將磨料和工件送入渦流拋光機(jī)7內(nèi),然后液位控制器控制進(jìn)水球閥805開啟和排水球閥808關(guān)閉,冷卻水經(jīng)送水管803和出水管804進(jìn)入渦流拋光機(jī)7內(nèi),完成冷卻水的添加。渦流拋光機(jī)7在工作時(shí)會(huì)高速旋轉(zhuǎn),帶動(dòng)冷卻水呈渦流狀分布,冷卻水經(jīng)出水管804進(jìn)入液位控制盒801內(nèi),并經(jīng)回流管806回到渦流拋光機(jī)7內(nèi),在這過程中浮球液位開關(guān)802對(duì)液位控制盒801內(nèi)的液位進(jìn)行監(jiān)測(cè),間接的對(duì)渦流拋光機(jī)7內(nèi)的液位進(jìn)行控制;根據(jù)浮球液位開關(guān)802來監(jiān)測(cè)渦流拋光機(jī)7內(nèi)的液位高度繼而來控制進(jìn)水球閥805的開閉。當(dāng)研磨一段時(shí)間后,液位控制器控制排水球閥808打開,將渦流拋光機(jī)7內(nèi)的熱水排出,熱水經(jīng)污水收集盤809收集,再經(jīng)污水管810進(jìn)入污水緩沖池811內(nèi);與此同時(shí),打開進(jìn)水球閥805同步進(jìn)水,能夠保證研磨的正常進(jìn)行。另外,冷卻水在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)會(huì)產(chǎn)生氣體等,氣體可以通過出水口排出,然后在通過液位控制盒801上端的排氣管812排出。當(dāng)研磨完成后,渦流拋光機(jī)7經(jīng)液壓旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn),將磨料和工件轉(zhuǎn)移至緩沖斗5上,通過緩沖斗5將磨料和工件均勻的輸送至振動(dòng)沖洗分離裝置4上,然后根據(jù)分篩網(wǎng)將磨料和工件分離,工件經(jīng)振動(dòng)和沖洗后出料,磨料經(jīng)磨料收集器轉(zhuǎn)移至磨料回流裝置6,重新回到上料斗內(nèi)進(jìn)行下一工作。當(dāng)需要磨料回流時(shí),液壓缸615帶動(dòng)頂桿616進(jìn)行收縮作業(yè),頂桿616帶動(dòng)移動(dòng)架608移動(dòng),從而帶動(dòng)滑動(dòng)座603和回料斗605移動(dòng),直至將回料斗605移動(dòng)至上料裝置2的上方,磨料進(jìn)入到回料斗605后,在振動(dòng)電機(jī)606的帶動(dòng)下,磨料沿著傾斜結(jié)構(gòu)的導(dǎo)引底板613移動(dòng)至上料斗內(nèi);當(dāng)上料裝置2進(jìn)行上料作業(yè)時(shí),回料斗605在伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)607的帶動(dòng)下往回運(yùn)動(dòng),不會(huì)對(duì)上料裝置2的旋轉(zhuǎn)移動(dòng)產(chǎn)生影響。