本發(fā)明屬于手機(jī)制造領(lǐng)域,應(yīng)用于消費(fèi)性電子產(chǎn)品(如手機(jī),智能手表)3d玻璃屏幕拋光研磨;具體涉及一種3d屏幕研磨機(jī)。
背景技術(shù):
目前市面手機(jī)3d屏幕打磨主要采用cnc機(jī)床走刀方式,即將磨頭安裝在主軸上走刀配合研磨液研磨,然后拋光粉拋光。或者采用羊絨輪,通過調(diào)整上下拋光輪轉(zhuǎn)速,對產(chǎn)品壓力、時間控制,并輔助拋光粉,對玻璃表面精拋光。
然而這些設(shè)備都是單次走刀研磨,對產(chǎn)品內(nèi)圓弧較小,加工時間長,且需要頻繁更換研磨頭,研磨效率低,研磨均勻度不一,設(shè)備體積大,占空間,價格昂貴。
為此,本發(fā)明試圖建立一種全新的3d屏幕研磨機(jī),以克服這些缺點(diǎn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的主要目的是提供一種3d屏幕研磨機(jī),用來克服現(xiàn)有3d屏幕研磨機(jī)效率低下的問題。
本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的,一種3d屏幕研磨機(jī),包括機(jī)架、研磨布轉(zhuǎn)盤和移載機(jī)構(gòu);所述研磨布轉(zhuǎn)盤為圓盤結(jié)構(gòu)并設(shè)置在所述機(jī)架上,所述研磨布轉(zhuǎn)盤沿一旋轉(zhuǎn)中心自旋;所述移載機(jī)構(gòu)為“匚”形結(jié)構(gòu),其上設(shè)有缺口,所述研磨布轉(zhuǎn)盤的邊緣自所述缺口深入所述移載機(jī)構(gòu)內(nèi)部;所述移載機(jī)構(gòu)上設(shè)有仿形模。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:所述移載機(jī)構(gòu)設(shè)有第一仿形模和第二仿形模,所述第一仿形模和第二仿形模分別設(shè)置在所述研磨布轉(zhuǎn)盤的上下兩側(cè)。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:所述第一仿形模上設(shè)有玻璃凹位,所述玻璃凹位設(shè)置在所述第一仿形模與研磨布轉(zhuǎn)盤相對的一側(cè)。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:所述第一仿形模上設(shè)有真空孔,所述真空孔的一端與所述玻璃凹位的內(nèi)側(cè)面相連通。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:所述第二仿形模邊緣處任意兩點(diǎn)間的連線長度不超過所述玻璃凹位內(nèi)邊緣處任意兩點(diǎn)間的連線長度。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:所述第二仿形模的徑向長度小于3d屏幕,所述玻璃凹位內(nèi)邊緣的徑向長度大于所述3d屏幕。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:所述第一仿形模以其橫截面的對稱中心點(diǎn)為軸心自旋。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:所述第一仿形模進(jìn)行順時針或逆時針的轉(zhuǎn)動。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:所述第一仿形模設(shè)置在所述研磨布轉(zhuǎn)盤的上側(cè)或下側(cè)。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:所述研磨布轉(zhuǎn)盤周圍設(shè)有多個移載機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明的有益效果是:本設(shè)備從根本上解決了3d產(chǎn)品外形的研磨問題。大大提高了該類工藝的成品率,研磨速度快(可采用一個轉(zhuǎn)盤,多個旋轉(zhuǎn)研磨機(jī)構(gòu)同時作業(yè))單次為整面研磨;單臺設(shè)備尺寸相對小,占用空間小,價格相對低。
附圖說明
為了更清楚地說明
本技術(shù):
實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請中記載的一些實(shí)施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的3d屏幕研磨機(jī)的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的3d屏幕研磨機(jī)的移載機(jī)構(gòu)位置示意圖。
圖3是圖2中花圈部分的局部放大示意圖。
圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的3d屏幕研磨機(jī)的吸附過程示意圖。
圖5是本發(fā)明實(shí)施例提供的3d屏幕研磨機(jī)的研磨過程示意圖。
附圖標(biāo)記:機(jī)架-1;研磨布轉(zhuǎn)盤-2;移載機(jī)構(gòu)-3;第一仿形模-31;第二仿形模-32;真空孔-311;玻璃凹位-312;3d玻璃-4。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明提供一種3d屏幕研磨機(jī)。以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。
一種3d屏幕研磨機(jī),如圖1所示,包括機(jī)架1、研磨布轉(zhuǎn)盤2和移載機(jī)構(gòu)3;所述研磨布轉(zhuǎn)盤為圓盤結(jié)構(gòu)并設(shè)置在所述機(jī)架上,所述研磨布轉(zhuǎn)盤沿一旋轉(zhuǎn)中心自旋;所述移載機(jī)構(gòu)為“匚”形結(jié)構(gòu),其上設(shè)有缺口,所述研磨布轉(zhuǎn)盤的邊緣自所述缺口深入所述移載機(jī)構(gòu)內(nèi)部;所述移載機(jī)構(gòu)上設(shè)有仿形模。
圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的3d屏幕研磨機(jī)的移載機(jī)構(gòu)位置示意圖。圖3是圖2中花圈部分的局部放大示意圖。如圖2和圖3所示,所述移載機(jī)構(gòu)設(shè)有第一仿形模31和第二仿形模32,所述第一仿形模和第二仿形模分別設(shè)置在所述研磨布轉(zhuǎn)盤的上下兩側(cè)。其中第一仿形模是最主要的研磨結(jié)構(gòu),第二仿形模主要起到輔助作用。
如圖3,所述第一仿形模上設(shè)有玻璃凹312,所述玻璃凹位設(shè)置在所述第一仿形模與研磨布轉(zhuǎn)盤相對的一側(cè)。
從圖3中可見,所述第一仿形模上設(shè)有真空孔311,所述真空孔的一端與所述玻璃凹位的內(nèi)側(cè)面相連通。
從圖3可見,所述第二仿形模邊緣處任意兩點(diǎn)間的連線長度不超過所述玻璃凹位內(nèi)邊緣處任意兩點(diǎn)間的連線長度。
從圖3可見,所述第二仿形模的徑向長度小于3d屏幕,所述玻璃凹位內(nèi)邊緣的徑向長度大于所述3d屏幕。具體說來,在本具體實(shí)施例中,第二仿形模(即下模)上的任意兩點(diǎn)距離小于3d屏的最大外形尺寸,而3d屏的任意兩點(diǎn)的距離小于第一仿形模(即上模)的最大外形尺寸。這樣方能更好的實(shí)現(xiàn)3d屏幕的研磨。
進(jìn)一步的,所述第一仿形模以其橫截面的對稱中心點(diǎn)為軸心自旋。
進(jìn)一步的,所述第一仿形模進(jìn)行順時針或逆時針的轉(zhuǎn)動。
進(jìn)一步的,所述第一仿形模設(shè)置在所述研磨布轉(zhuǎn)盤的上側(cè)或下側(cè)。本例中將第一仿形模設(shè)置在研磨布轉(zhuǎn)盤的上側(cè),但是也可以根據(jù)需要將第一仿形模設(shè)置在研磨布轉(zhuǎn)盤的下方。
進(jìn)一步的,所述研磨布轉(zhuǎn)盤周圍設(shè)有多個移載機(jī)構(gòu)。這樣可以大大提高研磨效率。
圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的3d屏幕研磨機(jī)的吸附過程示意圖。圖5是本發(fā)明實(shí)施例提供的3d屏幕研磨機(jī)的研磨過程示意圖。下面結(jié)合附圖說明本裝置的工作原理。
本裝置中優(yōu)選研磨布轉(zhuǎn)盤(上面安裝了研磨布)順時針旋轉(zhuǎn)研磨拋光產(chǎn)品(3d玻璃屏幕),產(chǎn)品可以逆時針旋轉(zhuǎn)(反之亦可);或者產(chǎn)品固定,研磨布做相對移動;或研磨盤固定,產(chǎn)品做相對旋轉(zhuǎn)。
研磨前首先需要將產(chǎn)品置于第一仿形模的玻璃凹位中(通過吸取或夾?。谝环滦文Mㄟ^真空吸附使研磨布料形成3d玻璃的形狀,使產(chǎn)品與布接觸,利用研磨液通過研磨布和3d玻璃間的相對復(fù)合運(yùn)動把產(chǎn)品的3d圓弧角表面研磨光潔。
圖4為研磨前的吸附狀態(tài):此時研磨布轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動,3d玻璃固定在第一仿形模的玻璃凹位內(nèi)。
圖5為研磨時候的狀態(tài),此時3d玻璃在第一仿形模和第二仿形模的作用下,向研磨布轉(zhuǎn)盤靠近,當(dāng)?shù)诙滦文Ec研磨布形成一個跟3d玻璃相對應(yīng)的外形時,在研磨液的作用下,轉(zhuǎn)盤與玻璃相對復(fù)合運(yùn)動把產(chǎn)品的3d圓弧角表面研磨光潔。
本設(shè)備從根本上解決了3d產(chǎn)品外形的研磨問題。大大提高了該類工藝的成品率,研磨速度快(可采用一個轉(zhuǎn)盤,多個旋轉(zhuǎn)研磨機(jī)構(gòu)同時作業(yè))單次為整面研磨;單臺設(shè)備尺寸相對小,占用空間小,價格相對低。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。