本技術(shù)涉及原子層氣相沉積，具體為一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架。

背景技術(shù)：

1、ald(atomic?layer?deposition)即原子層氣相沉積技術(shù)，指通過將氣相前軀體脈沖交替的通入反應(yīng)器并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成薄膜的一種技術(shù)。ald沉積的薄膜，致密性好，折射率好，膜厚均勻性好，可以實(shí)現(xiàn)360度任何不規(guī)則基體表面均勻沉積，膜厚可控。但是也存在一些缺點(diǎn)，比如沉積速度太慢，單次生產(chǎn)產(chǎn)品數(shù)量少。為了使沉積效率提高，薄膜質(zhì)量更好，外觀無缺陷，購買的原子層氣相沉積設(shè)備有一部分會進(jìn)行內(nèi)部改造，而改造后的設(shè)備需要同時改進(jìn)產(chǎn)品載具。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種適合改造后的原子層氣相沉積設(shè)備使用的，提高生產(chǎn)效率，提升單次生產(chǎn)時的產(chǎn)品承載量的同時保證質(zhì)量的原子層氣相沉積設(shè)備用片架。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

3、一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架，所述的原子層氣相沉積設(shè)備設(shè)有呈矩形體狀的工作腔，所述的片架包括封頂蓋、呈矩形體狀的片架本體；所述的工作腔頂部設(shè)有卡槽，所述的工作腔底部設(shè)有出氣口及勻氣網(wǎng)；所述的封頂蓋設(shè)于片架本體上方并與片架本體固定連接，所述的封頂蓋上表面設(shè)有與卡槽配合的卡鎖扣，所述的卡鎖扣與卡槽可滑動連接；所述的片架本體設(shè)有多層載盤，所述的載盤上設(shè)置若干適合晶圓形狀的承載槽，所述的承載槽中部貫穿載盤，相鄰兩層載盤之間設(shè)有進(jìn)氣空間。

4、本方案設(shè)備腔室改造后，分真空腔和真空反應(yīng)腔，即外腔和內(nèi)腔(工作腔)，外腔空間增大，內(nèi)腔可自如拆卸更換，但是內(nèi)腔改造后形狀發(fā)生變化，由圓形變?yōu)榫匦?，六邊形，梯形等；?nèi)腔上蓋呈懸吊式，腔室上蓋內(nèi)側(cè)留有懸掛治具的卡槽，因此設(shè)計了對應(yīng)的樣品裝載治具(片架)，由于多方面考慮工藝的良率和效率，需要設(shè)計一種與改造后的設(shè)備腔室相匹配的沉積時樣品裝片專用的治具，并且整體必須呈懸吊狀，片架是一種比較合適的裝載治具，片架可通過封頂蓋與卡槽連接并懸吊在工作腔內(nèi)，片架設(shè)置的多層載盤可承載大量產(chǎn)品同時進(jìn)行生產(chǎn)，工作時氣體從工作腔底部進(jìn)入并通過勻氣網(wǎng)均勻分布到工作腔內(nèi)，保證沉積薄膜質(zhì)量。

5、作為本實(shí)用新型優(yōu)選的方案，所述的片架本體設(shè)有四根螺柱，所述的載盤設(shè)有與四根螺柱配合的通孔，多個所述的載盤上下分層并串接固定在螺柱上。本方案的載盤可按照需要的數(shù)量合理分配，同時串接固定在螺柱上保證生產(chǎn)過程中載盤不晃動。

6、作為本實(shí)用新型優(yōu)選的方案，所述的載盤一側(cè)側(cè)面上設(shè)有多根均勻分布的隔離柱，與封頂蓋相鄰的載盤及相鄰的兩個載盤之間由隔離柱相互間隔形成進(jìn)氣空間。本方案的進(jìn)氣空間可保證每層載盤上的晶圓等產(chǎn)品表面有足夠的氣體沉積空間，保證產(chǎn)品良率。

7、作為本實(shí)用新型優(yōu)選的方案，所述的工作腔頂部設(shè)有卡條，所述的卡條設(shè)有通長的t形卡槽，所述的卡鎖扣為t形條，所述的片架本體通過卡鎖扣懸吊在卡條上。本方案t形卡槽與t形條的配合，既方便卡鎖扣的移動，也能保證片架位于工作腔中心的同時不晃動。

8、作為本實(shí)用新型優(yōu)選的方案，所述的片架材質(zhì)為鋁合金。

9、本方案提供了一種ald設(shè)備改造后專用的薄膜沉積時裝載樣品的片架，適合改造后的設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn)；設(shè)備方面不同于原始結(jié)構(gòu)的地方在于，原始購買回來的設(shè)備只有一個腔室，圓形尺寸為6寸，裝載樣品時具有對應(yīng)的載盤，用單獨(dú)的機(jī)械手臂拖住載盤直接放入真空腔室，內(nèi)有三根直徑為5毫米的頂針撐住載盤，后開始薄膜沉積，載盤最多可容納3個樣品，一次只能傳送一個載盤進(jìn)入腔室等待薄膜沉積完畢，并且進(jìn)氣方式由下至上無勻氣網(wǎng)，對于光學(xué)產(chǎn)品來說外觀要求嚴(yán)格，進(jìn)氣方式會影響外觀，呈現(xiàn)不均勻顏色分布，并且取片溫度必須降低至常溫，否則將會損傷傳送系統(tǒng)；對購買回來的設(shè)備進(jìn)行改造，對應(yīng)的樣品裝載治具也需要單獨(dú)設(shè)計制造，改造后的設(shè)備增加一個外腔，再將6寸的真空腔改為30mm×50mm的矩形內(nèi)腔室，內(nèi)腔室攜帶水平進(jìn)氣勻氣網(wǎng)，取消傳送系統(tǒng)，改用鋁制傳輸板運(yùn)載片架，本發(fā)明裝載樣品的片架，完全符合改造后的腔室，不同于原始載盤的地方在于，每層呈矩形盤狀結(jié)構(gòu)，樣品槽中間懸空，對于需要單面形成薄膜的樣品，樣品槽內(nèi)可放置兩塊背靠背的樣品，從而可放置大量生產(chǎn)產(chǎn)品，層與層中間留有間隙，有4顆螺釘支撐，與腔室勻氣網(wǎng)相輔相成，留間隙是方便氣體進(jìn)入，避免產(chǎn)品外觀缺陷，改善成膜質(zhì)量，材質(zhì)為鋁合金散熱快，取片時可忽略溫度，不會損傷傳送系統(tǒng)和片架，片架最上層加封頂層，并且做有配合腔室上蓋內(nèi)側(cè)卡槽的卡鎖，整體結(jié)構(gòu)為了避免晃動，四周有圓柱狀螺釘連接封頂層整體貫穿牢牢鎖住，整體結(jié)構(gòu)呈矩形體，以空間懸吊式置于工作腔室內(nèi)，上蓋蓋上后正處于腔室正中心空間位置，協(xié)助改造后的設(shè)備進(jìn)行薄膜沉積，有效提高產(chǎn)品良率和生產(chǎn)效率，最重要的是可以成為改造后的設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)的專屬配件，不會造成設(shè)備浪費(fèi)。

10、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：相比原有載盤靈活性更高，功能更強(qiáng)，載盤可以減少和增加數(shù)量，屬于組合型片架，可靈活制造多種不規(guī)則形狀片架，并且可以兼顧不同形狀的產(chǎn)品使用，允許大量產(chǎn)品同時進(jìn)行加工生產(chǎn)。

技術(shù)特征：

1.一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架，其特征在于：所述的原子層氣相沉積設(shè)備設(shè)有呈矩形體狀的工作腔，所述的片架包括封頂蓋、呈矩形體狀的片架本體；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架，其特征在于：所述的片架本體設(shè)有四根螺柱，所述的載盤設(shè)有與四根螺柱配合的通孔，多個所述的載盤上下分層并串接固定在螺柱上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架，其特征在于：所述的載盤一側(cè)側(cè)面上設(shè)有多根均勻分布的隔離柱，與封頂蓋相鄰的載盤及相鄰的兩個載盤之間由隔離柱相互間隔形成進(jìn)氣空間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架，其特征在于：所述的工作腔頂部設(shè)有卡條，所述的卡條設(shè)有通長的t形卡槽，所述的卡鎖扣為t形條，所述的片架本體通過卡鎖扣懸吊在卡條上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架，其特征在于：所述的片架材質(zhì)為鋁合金。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種原子層氣相沉積設(shè)備用片架，原子層氣相沉積設(shè)備設(shè)有呈矩形體狀的工作腔，片架包括封頂蓋、呈矩形體狀的片架本體；工作腔頂部設(shè)有卡槽，工作腔底部設(shè)有出氣口及勻氣網(wǎng)；封頂蓋設(shè)于片架本體上方并與片架本體固定連接，封頂蓋上表面設(shè)有與卡槽配合的卡鎖扣，卡鎖扣與卡槽可滑動連接；片架本體設(shè)有多層載盤，載盤上設(shè)置若干適合晶圓形狀的承載槽，承載槽中部貫穿載盤，相鄰兩層載盤之間設(shè)有進(jìn)氣空間。本技術(shù)相比原有載盤靈活性更高，功能更強(qiáng)，載盤可以減少和增加數(shù)量，屬于組合型片架，可靈活制造多種不規(guī)則形狀片架，并且可以兼顧不同形狀的產(chǎn)品使用，允許大量產(chǎn)品同時進(jìn)行加工生產(chǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員：白喜青
受保護(hù)的技術(shù)使用者：杭州邦齊州科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231205
技術(shù)公布日：2024/12/19