本技術(shù)涉及電池生產(chǎn)，具體涉及一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置。

背景技術(shù)：

1、本節(jié)中的陳述僅提供與本申請(qǐng)公開相關(guān)的背景信息，并且可能不構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)。

2、硅基異質(zhì)結(jié)太陽能電池的生產(chǎn)過程中，一般利用管式pecvd沉積設(shè)備或者管式hwcvd沉積設(shè)備等氣相沉積設(shè)備在硅片上沉積薄膜。在氣相沉積設(shè)備工作過程中，需要將氣相沉積設(shè)備的工作腔室調(diào)整為真空狀態(tài)，以輔助完成鍍膜工作。當(dāng)鍍膜完成后，需要解除工作腔室內(nèi)的真空狀態(tài)才能夠進(jìn)行電池片的運(yùn)輸和下一步操作；因此需要對(duì)工作腔室充入空氣進(jìn)而解除工作腔室的真空狀態(tài)，這一個(gè)過程稱為破真空。

3、大氣直接利用成本低，通過通入大氣解除真空狀態(tài)操作簡(jiǎn)單；但由于硅片電池生產(chǎn)過程中存在非常高的防塵要求，因此目前生產(chǎn)過程中常通過安裝濾芯的方式過濾大氣中的灰塵，但濾芯的更換頻率會(huì)隨著破空時(shí)間增長(zhǎng)而提高；并且即使處于無塵車間中，但環(huán)境中的細(xì)小物質(zhì)仍然會(huì)跟隨大氣進(jìn)入到工作腔室內(nèi)，對(duì)工作腔室內(nèi)的環(huán)境產(chǎn)生一定的污染，進(jìn)而影響產(chǎn)品的良率。此外，由于大氣壓力的恒定，因此采用大氣破空的時(shí)間節(jié)拍較長(zhǎng)，難以控制。

4、cda破空相較大氣破空具有更高的可調(diào)節(jié)性，并且使用的氣體均為經(jīng)過處理的清潔氣體，清潔程度更高。但是，cda破空的過程中存在管路壓力波動(dòng)的問題，當(dāng)管路內(nèi)壓力波動(dòng)太大時(shí)，影響整線cda的壓力受影響，極易導(dǎo)致設(shè)備誤報(bào)故障，進(jìn)而影響整個(gè)生產(chǎn)過程。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于：針對(duì)目前cda破空管路內(nèi)壓力波動(dòng)大的問題，提供一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，在保障工作腔室內(nèi)的環(huán)境清潔的同時(shí)，能夠控制整體管路的壓力波動(dòng)，避免設(shè)備誤報(bào)故障，保障生產(chǎn)的穩(wěn)定進(jìn)行。

2、本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

3、一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，包括接入磁控濺射真空腔體中的破空管路；

4、所述破空管路未接入腔體的一端連接破空氣罐，所述破空氣罐的進(jìn)氣口連接cda供氣管路；

5、所述破空氣罐的出氣口連接有用于控制氣罐的出氣速度的第一閥門；

6、所述破空氣罐的進(jìn)氣口連接有用于控制氣罐的進(jìn)氣速度的第二閥門。

7、接入氣罐能夠通過氣罐預(yù)儲(chǔ)存一定量的氣體，進(jìn)而在進(jìn)行破空操作時(shí)，能夠通過僅釋放氣罐內(nèi)儲(chǔ)存的氣體而避免對(duì)整體cda供氣管路的壓力造成波動(dòng)，進(jìn)而保持cda供氣管路的壓力平穩(wěn)。

8、優(yōu)選地，所述破空管路未接入腔體的一端還連接有大氣破空管路。使得設(shè)備根據(jù)需要能夠在大氣破空和cda氣罐破空之間靈活切換。

9、根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述破空管路與所述破空氣罐的出氣口連通，所述第一閥門設(shè)置于所述破空管路與所述破空氣罐之間，用于控制所述破空氣罐向所述破空管路內(nèi)輸送氣體的速度。

10、根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述減壓閥兩端的氣管分別與所述破空氣罐的出氣口的管路和所述破空管路未接入腔體的一端的管路通過法蘭連接。

11、根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述第二閥門設(shè)置于所述氣罐的進(jìn)氣口和cda供氣管路之間，用于控制所述cda供氣管路向所述氣罐的供氣速度。

12、根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述第二閥門上設(shè)置有消音器。

13、根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述第一閥門和第二閥門為設(shè)置有調(diào)壓閥、壓力表和減壓閥。

14、借助第一閥門的設(shè)置，工作人員能夠在工作時(shí)根據(jù)實(shí)際的工作腔室的需要靈活控制第一閥門，控制工作腔室的破空速度，避免氣體流速過快對(duì)電池片的質(zhì)量產(chǎn)生影響；借助第二閥門，能夠根據(jù)cda管路內(nèi)的實(shí)際壓力控制破空氣罐的進(jìn)氣速度，進(jìn)而避免cda管路向破空氣罐內(nèi)輸送氣體時(shí)對(duì)整體管路的壓力產(chǎn)生影響。

15、根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述破空氣罐的體積為1m3。

16、根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述破空氣罐還包括罐體和設(shè)置于罐體頂部的安全閥和設(shè)置于罐體底部的排污口。

17、根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述破空氣罐設(shè)置于磁控濺射的工作腔體外部。

18、根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述破空氣罐還設(shè)置有用于穩(wěn)定所述罐體的支撐座。

19、與現(xiàn)有的技術(shù)相比本實(shí)用新型的有益效果是：

20、1、一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易維護(hù)、成本低廉，使用該裝置不會(huì)增加整體電池片生產(chǎn)的成本；

21、2、一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，提升工作效率，能夠通過增加破空氣罐內(nèi)的壓力進(jìn)而加快氣體流入工作腔室內(nèi)的速度，加快破空速度，減少破空等待時(shí)間；并且避免了破空過程中的誤報(bào)檢修過程，保障了工作進(jìn)程的持續(xù)穩(wěn)定進(jìn)行，提升工作效率；

22、3、一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，提高產(chǎn)品良率，借助清潔的干燥氣體輸入工作腔體內(nèi)進(jìn)行破空，能夠保持工作腔室內(nèi)的清潔，避免大氣內(nèi)的污染物質(zhì)進(jìn)入到工作腔室之內(nèi)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響，提升產(chǎn)品的良率。

技術(shù)特征：

1.一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，包括接入磁控濺射真空腔體中的破空管路(18)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，所述破空管路(18)與所述破空氣罐(15)的出氣口(8)連通，所述第一閥門(16)設(shè)置于所述破空管路(18)與所述破空氣罐(15)之間，用于控制所述破空氣罐(15)向所述破空管路(18)內(nèi)輸送氣體的速度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，所述第一閥門(16)兩端的氣管(6)分別與所述破空氣罐(15)的出氣口(8)的管路和所述破空管路(18)未接入腔體的一端的管路通過法蘭(5)連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，所述第二閥門(17)設(shè)置于所述氣罐的進(jìn)氣口(14)和cda供氣管路之間，用于控制所述cda供氣管路向所述氣罐的供氣速度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，所述第二閥門(17)上設(shè)置有消音器(1)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，所述第一閥門(16)和第二閥門(17)分別設(shè)置有調(diào)壓閥(2)、壓力表(3)和減壓閥(4)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，所述破空氣罐(15)的體積為1m3。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，所述破空氣罐(15)還包括罐體(13)和設(shè)置于罐體(13)頂部的安全閥(7)和設(shè)置于罐體(13)底部的排污口(11)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，所述破空氣罐(15)設(shè)置于磁控濺射的工作腔體外部。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，其特征在于，所述破空氣罐(15)還設(shè)置有用于穩(wěn)定罐體(13)的支撐座(10)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種用于異質(zhì)結(jié)磁控濺射設(shè)備的破空裝置，包括接入磁控濺射真空腔體中的破空管路；所述破空管路未接入腔體的一端連接破空氣罐，所述破空氣罐包括進(jìn)氣口和出氣口，所述破空氣罐的進(jìn)氣口連接CDA供氣管路；所述破空氣罐的出氣口連接有用于控制氣罐的出氣速度的第一閥門；所述破空氣罐的進(jìn)氣口連接有用于控制氣罐的進(jìn)氣速度的第二閥門。本技術(shù)的裝置借助CDA供氣和氣罐進(jìn)行破空，不僅能夠加快破空速度，保障工作腔室內(nèi)的潔凈，還能夠避免破空過程對(duì)CDA整體供氣管路內(nèi)的壓力影響，減少誤報(bào)，保障工作高效穩(wěn)定進(jìn)行，提升設(shè)備稼動(dòng)率。

技術(shù)研發(fā)人員：李意強(qiáng),賈偉,李貴成,李紅有,王瑜,王鴻渝,唐旋,楊文棟
受保護(hù)的技術(shù)使用者：眉山璉升光伏科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231213
技術(shù)公布日：2024/12/19