本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施方式涉及研磨裝置、研磨方法以及機(jī)械部件。
背景技術(shù):
1、在半導(dǎo)體裝置、用于顯示裝置的顯示面板等各種電子部件的制造工序中,進(jìn)行在真空中的處理。在構(gòu)成這種在真空中的處理中使用的真空容器的部件的相互接觸的部分,為了確保容器內(nèi)部的密封性,在所接觸的部件中的一方或雙方設(shè)置凹槽,并在該凹槽設(shè)置o形環(huán)等密封部件。在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中,公開(kāi)了一種使用彈簧頸(spring?neck)切削刀具來(lái)對(duì)工件進(jìn)行切削的切削加工方法。
2、(現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn))
3、(專(zhuān)利文獻(xiàn))
4、專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平06-126520號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、(發(fā)明所要解決的問(wèn)題)
2、設(shè)置于密封部件的凹槽通常通過(guò)使用立銑刀等旋轉(zhuǎn)切削工具等切削密封面來(lái)形成。在切削出所需形狀的凹槽后的密封面可能會(huì)殘留少量的凹凸、切屑,需要進(jìn)行研磨加工以去除這些凹凸、切屑。密封面的研磨加工通常由工作人員手工完成,但研磨完成需要很長(zhǎng)時(shí)間,研磨面的表面粗糙度根據(jù)工作人員的經(jīng)驗(yàn)、技能而變化,存在密封面的質(zhì)量不穩(wěn)定的問(wèn)題。
3、考慮到上述問(wèn)題,本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施方式的目的之一為提供一種能夠縮短研磨加工所需的時(shí)間并能夠穩(wěn)定密封面的質(zhì)量的研磨裝置以及研磨方法。
4、此外,本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施方式的目的之一為提供一種密封面的質(zhì)量穩(wěn)定的機(jī)械部件。
5、(解決問(wèn)題所采用的措施)
6、本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的研磨裝置具有支撐研磨工具的支撐部、保持研磨對(duì)稱(chēng)物的載物臺(tái)、使所述支撐部和所述載物臺(tái)沿研磨面的形狀進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)部、以及以使安裝于所述研磨工具的研磨部件的一端朝向移動(dòng)方向的方式與所述第一驅(qū)動(dòng)部同步地使所述支撐部旋轉(zhuǎn)的第二驅(qū)動(dòng)部。
7、本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的研磨方法是研磨硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁上的研磨面的研磨方法,具有通過(guò)第一研磨部件以第一按壓強(qiáng)度來(lái)研磨所述研磨面的第一階段、以及在所述第一階段之后,通過(guò)第二研磨部件以第二按壓強(qiáng)度來(lái)研磨所述研磨面的第二階段,所述第一按壓強(qiáng)度低于所述第二按壓強(qiáng)度。
8、本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的機(jī)械部件具有硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁表面,在所述硬陽(yáng)極氧化鋁表面的一部分具有研磨面,所述研磨面的波紋在0.2μm以下,且所述研磨面的表面粗糙度在0.4μm以下。
9、(發(fā)明的效果)
10、根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施方式,通過(guò)利用機(jī)器來(lái)自動(dòng)化研磨工序,能夠減少研磨工序所需的時(shí)間并能夠穩(wěn)定密封面的質(zhì)量。
1.一種研磨裝置,其中,具有:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置,其中,
3.一種硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁表面的研磨方法,其研磨硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁上的研磨面,其中,包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁表面的研磨方法,其中,
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁表面的研磨方法,其中,
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中任一項(xiàng)所述的硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁表面的研磨方法,其中,
7.一種機(jī)械部件,其中,
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的機(jī)械部件,其中,
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的機(jī)械部件,其中,