本公開涉及一種掩模和一種包括該掩模的沉積設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、隨著信息技術(shù)的發(fā)展，已經(jīng)強(qiáng)調(diào)了作為用戶與信息之間的連接媒介的顯示裝置的重要性。響應(yīng)于此，諸如液晶顯示裝置、有機(jī)發(fā)光顯示裝置等的顯示裝置的使用已經(jīng)增加。

2、作為示例，顯示裝置包括像素。像素中的每個中包括的發(fā)光元件可以包括彼此間隔開的電極和定位在電極之間的發(fā)光層。

3、這里，電極和發(fā)光層可以以各種方式形成。在各種方式之中，獨(dú)立沉積法是將掩模(例如，精細(xì)金屬掩模(fmm))拉伸并與掩模框架緊密接觸，并且將沉積材料沉積在將被沉積的對象的表面上的方法。

4、以上描述僅用于幫助理解本公開的技術(shù)構(gòu)思的背景技術(shù)。因此，不應(yīng)將其理解為公開了本公開所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、根據(jù)本公開的實施例的掩模和包括該掩模的沉積設(shè)備被構(gòu)造為執(zhí)行具有改善的可靠性的沉積工藝。例如，可以微調(diào)掩模的子掩模以改善沉積質(zhì)量。例如，掩模包括能夠移動子掩模的對準(zhǔn)器，并且沉積設(shè)備可以控制對準(zhǔn)器，使得子掩模分別在與基底的、沉積材料將被沉積在上面的部分(例如，基底的預(yù)定部分)對應(yīng)的位置處對準(zhǔn)。因此，子掩?？梢詼?zhǔn)確地定位在與基底的部分(例如，基底的預(yù)定部分)對應(yīng)的位置處，使得沉積材料可以沉積在期望的位置處。

2、根據(jù)本公開的實施例的掩?？梢园ǎ褐黧w框架，限定布置在平面上的至少一個開口；至少一個子掩模，與開口疊置，并且限定沉積材料能夠穿過的孔；對準(zhǔn)器，在子掩模與主體框架之間，并且被構(gòu)造為響應(yīng)于施加的電壓而在開口內(nèi)移動子掩模。

3、子掩模可以具有包括多條邊的多邊形形狀，其中，對準(zhǔn)器包括在子掩模的多條邊與主體框架之間的多個致動器。

4、子掩模可以包括從多條邊突出并且接觸致動器的連接部。

5、致動器可以包括：第一電極，接觸主體框架；第二電極，接觸子掩模；以及壓電層，在第一電極與第二電極之間。

6、壓電層可以被構(gòu)造為根據(jù)施加的電壓振動。

7、多個致動器中的至少一個致動器可以具有被構(gòu)造為通過壓電層的振動而改變的形狀，其中，子掩模被構(gòu)造為通過具有改變的形狀的多個致動器中的至少一個致動器移動。

8、子掩模可以通過具有改變的形狀的多個致動器中的至少一個致動器在平行于平面的方向上水平移動或旋轉(zhuǎn)。

9、在子掩模和主體框架在第一方向上彼此間隔開的區(qū)域中，致動器可以包括在與第一方向交叉的第二方向上延伸的第一致動器。

10、在子掩模和主體框架在第二方向上彼此間隔開的區(qū)域中，致動器可以包括在第一方向上延伸的第二致動器。

11、第一致動器可以包括在與第二方向相反的方向上順序布置的第一部分、第二部分和第三部分，其中，子掩模包括從多條邊中的一條邊在第一方向上突出并且接觸所述第一部分的連接部，并且其中，所述主體框架包括在與所述第一方向相反的方向上突出并且接觸所述第三部分的固定部。

12、第三部分可以被固定部固定，其中，第一致動器繞著第三部分順時針或逆時針彎曲以移動子掩模。

13、本公開的另一方面涉及一種沉積設(shè)備。根據(jù)本公開的實施例的沉積設(shè)備可以包括：腔室；沉積源，在腔室內(nèi)部，并且被構(gòu)造為供應(yīng)沉積材料；支撐件，被構(gòu)造為將基底固定在沉積源上；掩模，包括限定布置在平面上的至少一個開口的主體框架、與開口疊置并且限定沉積材料能夠穿過的孔的至少一個子掩模、以及在子掩模與主體框架之間并且被構(gòu)造為響應(yīng)于施加的電壓而在開口內(nèi)移動子掩模的對準(zhǔn)器；以及掩?？蚣?，支撐掩模。

14、掩模還可以包括第一對準(zhǔn)標(biāo)記，其中，支撐件包括與第一對準(zhǔn)標(biāo)記對應(yīng)的第二對準(zhǔn)標(biāo)記。

15、沉積設(shè)備還可以包括：相機(jī)，用于捕獲第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像；以及處理器，用于基于圖像對準(zhǔn)子掩模的位置。

16、沉積設(shè)備還可以包括：電壓施加器，用于根據(jù)由處理器產(chǎn)生的控制信號向?qū)?zhǔn)器施加電壓。

技術(shù)特征：

1.一種掩模，所述掩模包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其中，所述子掩模具有包括多條邊的多邊形形狀，并且

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模，其中，所述多個致動器包括：第一電極，接觸所述主體框架；第二電極，接觸所述子掩模；以及壓電層，在所述第一電極與所述第二電極之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模，其中，所述壓電層被構(gòu)造為根據(jù)施加的電壓振動。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩模，其中，所述多個致動器中的至少一個致動器具有被構(gòu)造為通過所述壓電層的振動而改變的形狀，并且

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩模，其中，所述子掩模通過具有所改變的形狀的所述多個致動器中的所述至少一個致動器在平行于所述平面的方向上水平移動或旋轉(zhuǎn)。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模，其中，在所述子掩模和所述主體框架在第一方向上彼此間隔開的區(qū)域中，所述多個致動器包括在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸的第一致動器，

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩模，其中，所述第一致動器包括在與所述第二方向相反的方向上順序布置的第一部分、第二部分和第三部分，

9.一種沉積設(shè)備，其中，所述沉積設(shè)備包括：

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的沉積設(shè)備，其中，所述掩模還包括第一對準(zhǔn)標(biāo)記，并且所述支撐件包括與所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記對應(yīng)的第二對準(zhǔn)標(biāo)記，并且

技術(shù)總結(jié)
公開了一種掩模和一種沉積設(shè)備，所述掩模包括：主體框架，限定布置在平面上的至少一個開口；至少一個子掩模，與開口疊置，并且限定沉積材料能夠通過的孔；以及對準(zhǔn)器，在子掩模與主體框架之間，并且被構(gòu)造為響應(yīng)于施加的電壓而在開口內(nèi)移動子掩模。

技術(shù)研發(fā)人員：李德重,金楨國,任星淳
受保護(hù)的技術(shù)使用者：三星顯示有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/11/26