專利名稱:旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源的制作方法
本發(fā)明涉及材料的濺射鍍復(fù)，尤其涉及旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源。
對(duì)于幕墻玻璃、陽光控制膜玻璃、ITO膜玻璃等這樣大面積基片的表面鍍復(fù)，通常由平面磁控濺射靶源來完成，由于基片的尺寸特別大，所以磁控靶的結(jié)構(gòu)很大，換靶不方便，并且這種靶的靶材利用率很低，一般在20％以下。
最近幾年，為克服平面靶在鍍復(fù)大面積工件的上述缺點(diǎn)，柱型靶得到了發(fā)展。美國5096562號(hào)專利提出了一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，該濺射靶源包括一個(gè)外周包復(fù)濺射材料的銅管構(gòu)成的靶管、一個(gè)布置在靶管內(nèi)的磁組件、二個(gè)支承器等部件。柱型的靶管可繞其軸心旋轉(zhuǎn)，磁組件靜止不動(dòng)，工作時(shí)靶管接負(fù)高壓，真空室腔壁接地電位，電場E與磁場B形成一個(gè)E×B的正交場，工作氣體分子(如Ar)被該正交場電離，產(chǎn)生了二條平行于靶長度方向的靜止的直線等離子體，等離子體中的正離子受陰極靶負(fù)電勢的吸引而轟擊靶面，靶面原子產(chǎn)生濺射逸出靶表面，最終沉積在基片表面形成薄膜。由于靶管在旋轉(zhuǎn)，兩條靜止的直線等離子體相對(duì)于靶面作掃描轟擊，因此靶面受到了較為均勻的濺射刻蝕，所以靶材利用率較高；柱型靶的尺寸與結(jié)構(gòu)都較小，便于加工與制作。這些都是它的優(yōu)點(diǎn)。
但是，該濺射靶源仍然有一些缺陷1.由于磁組件與進(jìn)水管連在一體，更換靶材時(shí)換靶很不方便，換靶約需幾十分鐘時(shí)間，不僅降低了生產(chǎn)效率，而且使真空室長時(shí)間暴露于大氣，只附了大量有害的氣體，影響鍍膜的質(zhì)量。
2.其磁組件的磁場阱為兩條開放的直線，等離子體在直線末端被擴(kuò)散，不僅會(huì)降低放電效果，而且會(huì)使那些濺射區(qū)外的零件產(chǎn)生濺射甚至串弧放電，影響膜層的品質(zhì)與放電的穩(wěn)定性。
3.磁組件直接浸沒在冷卻中，磁鋼會(huì)很快生銹變質(zhì)。
4.換靶時(shí)極易把冷卻水殘液滴漏到真空室。
本發(fā)明的目的是提供一種換靶方便，膜層純潔的一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源。
為了達(dá)到上述目的本發(fā)明采取下列措施它包括支承架，靶組件，特征是靶管組件包括磁組件、靶管，磁組件具有極靴，極靴一側(cè)面開有橢圓形磁鋼沉孔，與它相對(duì)的另一側(cè)面開有導(dǎo)水管沉槽，表面鍍復(fù)防銹的鎳層，該極靴的左端焊上一個(gè)不銹鋼左端軸頭，該軸頭的右側(cè)開有一個(gè)水腔，左側(cè)為空心凸臺(tái)左端軸頭空心凸臺(tái)上設(shè)有橫銷釘，極靴的右端焊上一個(gè)帶凸臺(tái)的不銹鋼右端軸頭；極靴磁鋼沉孔中布置永久磁鋼，磁鋼的頂部粘貼一條純鐵半圓形勻磁片，極靴與磁鋼的間隙中充填塑料間隔片，極靴導(dǎo)水管沉槽中焊上一個(gè)兩端開口的導(dǎo)水銅管，上述組件的外周包封一個(gè)薄壁不銹鋼管，制成密封式磁組件，上述磁組件的左端軸頭上套上一個(gè)帶回水斜孔的聚四氟乙烯滑塊，右端軸頭上配合一個(gè)防銹的向心推力軸承，將磁組件同軸地布置在靶管內(nèi)，靶管右端設(shè)有盲法蘭，盲法蘭一端帶軸承孔，另一端帶凸臺(tái)，盲法蘭與靶管一端部之間設(shè)有密封圈，盲法蘭用拼緊螺帽固定在靶管上，靶管另一端用松套法蘭，密封圈，固定密封在心軸一端帶錐形內(nèi)孔的法蘭上。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的濺射靶源具有以下優(yōu)點(diǎn)1.更換靶材十分方便，換靶僅需幾分鐘時(shí)間，大大地提高了生產(chǎn)效率，這對(duì)大規(guī)模生產(chǎn)帶來好處。
2.能產(chǎn)生跑道狀的閉合等離子體，等離子體不擴(kuò)散；不僅使放電效率與放電穩(wěn)定性得以提高，并且不會(huì)使非濺射材料外的部件產(chǎn)生濺射，有利于膜層的純潔性。
3.由于采用跑道狀等離子體勻速掃描，因此大大降低了生產(chǎn)成本。
4.磁結(jié)構(gòu)采用包封技術(shù)后，隔絕了磁鋼、極靴與冷卻水直接接觸，大大延長了磁組件的壽命并提高了磁組件的磁穩(wěn)定性。
5.本發(fā)明的濺射靶源，其進(jìn)出水管、電極引出以及驅(qū)動(dòng)器均在同一端引出，并且設(shè)置了平面軸承，因此本濺射靶源不僅可以水平工作，還可以垂直工作，而且在真空室上僅需要一個(gè)引出孔便能安裝，可大大縮小真空室的體積，減少漏氣的可能性，特別對(duì)于用本發(fā)明改造原有設(shè)備，這無疑帶來很大的好處。
下面結(jié)合附圖作詳細(xì)說明。

圖1是本發(fā)明的一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源的剖視圖；圖2是沿圖1B-B的剖視圖；圖3是圖1A向的局部視圖；圖4是本發(fā)明的一種具有雙面濺射的旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源的磁組件布置圖；圖5是本發(fā)明的另一種具有雙面濺射的旋轉(zhuǎn)靶柱型濺射靶源的磁組件布置圖；圖6是磁組件能夠轉(zhuǎn)動(dòng)的柱型磁控濺射靶源的局部視圖。
旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，包括支承架，靶組件。支承架由心軸、動(dòng)密封組件，引出件，驅(qū)動(dòng)組件組成，靶組件由磁組件、靶管組成。其中磁組件具有極靴34，它由良導(dǎo)磁材料(如純鐵)制成，其一側(cè)面開有一個(gè)能形成閉合回路磁勢阱的橢圓形沉孔34a，與它相對(duì)的另一側(cè)面開有一條可嵌入導(dǎo)水銅管的導(dǎo)水管沉槽[34b]，表面鍍復(fù)防銹的鎳層。該極靴的左端焊上一個(gè)不銹鋼左端軸頭32，該軸頭的右側(cè)開有一個(gè)水腔32a，左側(cè)為空心凸臺(tái)，軸頭32的左端軸頭空心凸臺(tái)上設(shè)有橫銷釘31，極靴34的右端焊上一個(gè)帶凸臺(tái)的不銹鋼右端軸頭39；極靴磁鋼沉孔34a中布置若干塊高磁能級(jí)，高矯頑力的永久磁鋼38，磁鋼的頂部粘貼一條純鐵半圓形的勻磁片37，勻磁片用來均勻磁鋼的表面磁場，極靴與磁鋼的間隙中充填塑料間隔片44。極靴的底槽34b中焊上一個(gè)兩端開口的導(dǎo)水銅管35。上述組件的外周包封一個(gè)薄壁不銹鋼管36制成一個(gè)長度略短于靶管，直徑小于靶內(nèi)孔的密封式磁組件I。
支承架包括心軸，動(dòng)密封組件，引出驅(qū)動(dòng)組件；動(dòng)密封組件具有心軸左、右端設(shè)有的絕緣座13、21，兩絕緣座固定在底座22上，絕緣座13與心軸間依次設(shè)有壓環(huán)11，杯形密封環(huán)12，在絕緣座21與心軸間設(shè)有杯形密封環(huán)20。
引出驅(qū)動(dòng)組件包括在絕緣座13與絕緣座21之間設(shè)有驅(qū)動(dòng)輪17，絕緣座13與心軸之間設(shè)有滾針軸承16，在絕緣座21與心軸之間設(shè)有滾針軸承19，絕緣座21與驅(qū)動(dòng)輪17之間設(shè)有平面推力軸承18，在絕緣座13右側(cè)對(duì)稱地布置碳刷14，通過螺釘15與電源的負(fù)極連接。
軸座右側(cè)同軸地固定一個(gè)其內(nèi)孔大于心軸的不銹鋼屏蔽片26，屏蔽片與底座端面間設(shè)有間隙26a。
由于磁鋼、純鐵一類材料很容易生銹變質(zhì)，采用上述包封結(jié)構(gòu)后，隔絕了它們與水直接接觸。閉合沉槽形的磁結(jié)構(gòu)，能產(chǎn)生具有兩條直線與兩個(gè)半圓形呈跑道形的磁勢阱。
上述磁組件的左端軸頭32上套上一個(gè)帶若干回水斜孔的聚四氟乙烯滑塊30，右端軸頭39上配合一個(gè)防銹的向心推力軸承40。將該磁組件同軸地布置在靶管33內(nèi)。靶管右端布置一個(gè)一端帶軸承孔，另一端帶凸臺(tái)的不銹鋼盲法蘭43，盲法蘭與靶管一端部之間設(shè)有密封圈41，盲法蘭用拼緊螺帽42固定在靶管上，靶管左端用松套法蘭28，密封圈29，固定密封在心軸27一端帶錐形內(nèi)孔的法蘭27a上，由于滑塊30和軸承40的定位支撐，該磁組件在靶管內(nèi)可自由旋轉(zhuǎn)。
支承架具有心軸27，心軸長管右側(cè)同軸地布置一個(gè)滾針軸承19，二個(gè)杯形密封環(huán)20，一個(gè)絕緣軸座21，經(jīng)外密封圈23固定在底座22上。滾針軸承選用帶內(nèi)圈的長軸承，軸承內(nèi)圈19a配合在心軸上，當(dāng)心軸需要作軸向移動(dòng)時(shí)，軸承內(nèi)圈可與軸承作軸向移動(dòng)，同時(shí)，又不會(huì)損傷心軸光滑的密封面。不銹鋼底座22的左端有一個(gè)內(nèi)徑較大的沉孔，用以安裝驅(qū)動(dòng)輪17、右端絕緣座21等部件，該沉孔的其中一側(cè)開有一個(gè)可通過驅(qū)動(dòng)帶17a或驅(qū)動(dòng)桿的開口，底座通過密封圈24以及若干個(gè)螺釘固定在真空腔壁25上。底座的右側(cè)用若干個(gè)平底螺釘同軸地固定一個(gè)其內(nèi)孔略大于心軸的不銹鋼屏蔽片26，屏蔽片與底座端面存在一個(gè)很小的間隙26a，屏蔽片的作用是為了阻擋膜層沉積到絕緣軸座而破壞絕緣性能，同時(shí)也可屏蔽濺射時(shí)的熱量幅射。
心軸中部用若干個(gè)柱頭螺釘固定一個(gè)用來驅(qū)動(dòng)心軸轉(zhuǎn)動(dòng)的銅質(zhì)驅(qū)動(dòng)輪17(同步帶輪或蝸輪)。該驅(qū)動(dòng)輪與絕緣軸座21之間布置一個(gè)平面推力軸承18，該平面軸承的作用是為了防止濺射器垂直工作時(shí)，心軸下滑，而當(dāng)心軸需要向左軸向推進(jìn)時(shí)，平面軸承的上、下圈可以分離。
心軸的左端同軸地布置一個(gè)絕緣左軸座13，軸座由聚四氟乙烯制成。左絕緣座13左側(cè)設(shè)有進(jìn)水腔6a，設(shè)有回水腔10b，在左絕緣座上分別開有進(jìn)水孔9與出水孔10，并分別與進(jìn)水腔和回水腔相通，通過若干螺釘將該絕緣軸座同軸地固定在不銹鋼底座22上。心軸與絕緣左軸座之間依次布置壓環(huán)11，若干個(gè)用來密封水的杯形密封環(huán)12，以及帶內(nèi)圈的滾針軸承16。該滾針軸承的滑動(dòng)內(nèi)圈16A之作用與前述的滾針軸承19相似，這兩個(gè)滾針軸承可保證濺射靶水平放置時(shí)的同軸度與抗繞曲能力，從而保證動(dòng)密封組件在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)具有良好的密封性。
絕緣左軸座的右端對(duì)稱地布置若干個(gè)帶彈簧的碳刷14，它們通過銅螺釘15接到電源負(fù)極。彈簧的存在可使碳刷與銅質(zhì)驅(qū)動(dòng)輪良好地電接觸。
濺射靶源的冷卻組件由導(dǎo)水插管7進(jìn)水腔6a法蘭5等不銹鋼零件焊接而成。導(dǎo)水插管7的左端焊接在進(jìn)水腔底部6的中心孔中，另一端帶有一個(gè)開口槽，它可插入上述磁組件的左軸頭32的通孔中并通過軸頭銷釘31使磁組件與導(dǎo)管連為一體。進(jìn)水腔的側(cè)壁上開有若干個(gè)進(jìn)水通孔6b，法蘭5通過密封圈8用若干個(gè)螺釘4固定在絕緣座13的左端口上。擰緊螺釘4后可鎖定磁組件，同時(shí)又密封冷卻水。
本發(fā)明的濺射靶源的靶管33由外表面包復(fù)濺射材料的銅管構(gòu)成。銅管的兩端分別制有外螺紋，銅管內(nèi)表面除兩端略作精加工，中間部分可以不作任何加工。濺射材料可以是金屬、合金，也可以是陶瓷材料(如SiO2，ITO，Al2O3等)，它們用釬焊工藝復(fù)在銅管外周。對(duì)于那些不易加工成長管的陶瓷材料，可以做成若干個(gè)短環(huán)，再逐個(gè)焊接在銅管外周。對(duì)于本身容易制成長管且有致密良好導(dǎo)熱性能的金屬、合金材料，則可以不用銅管為基底直接制成靶管。
冷卻水自左絕緣座13的進(jìn)水孔9流入進(jìn)水腔6a，依次通過導(dǎo)水插管7、磁組件的左軸頭水腔32a、銅管35流到磁組件右側(cè)的間隙，再由磁組件與靶管的間隙、滑塊30的導(dǎo)水斜孔、心軸與導(dǎo)水插管的間隙、回水腔10b最后從左絕緣座的出水孔10流出。
電源的負(fù)極通過銅螺釘15、碳刷14、銅驅(qū)動(dòng)輪17、心軸27接到靶管33上。電源的正極接到真空室壁上。
當(dāng)濺射靶源水平工作時(shí)，靶管的右端可通過一個(gè)軸承、絕緣座以及支架(圖中未表示)固定在真空室內(nèi)。
當(dāng)濺射靶源垂直工作時(shí)，靶管的右端可不安裝支承零件。
本發(fā)明的濺射靶源其支承架系統(tǒng)可安裝在真空室的大氣中，也可以用法蘭2、密封圈3、密封腔1(圖中以虛線表示)，密封起來安裝到真空室的開口孔上，這時(shí)，水管、電極引線、驅(qū)動(dòng)部件均可從該開口中引出，因?yàn)檫@些引出件都處在同一側(cè)，所以僅需要一個(gè)真空開口即可完成密封引入。
驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過同步帶17a或蝸桿帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)輪17，從而帶動(dòng)靶管旋轉(zhuǎn)，而磁組件始終處于靜止的狀態(tài)。抽真空、充工作氣體后接通電源，便在靶面的一側(cè)產(chǎn)生一個(gè)具有兩條直線呈跑道狀的閉合回路的等離子體，靶管旋轉(zhuǎn)時(shí)，等離子體便在靶管表面均勻掃描。
當(dāng)需要換靶時(shí)，只要用月牙扳手將松套法蘭擰開，把靶管33與磁組件I一起卸下，將磁組件從靶管中移出，放入新靶管中，將松套法蘭擰入新靶管，即完成換靶過程，整個(gè)換靶過程僅需要3～5分鐘時(shí)間。
本發(fā)明濺射靶源的磁組件也能以圖4的結(jié)構(gòu)排列，在方管狀的純鐵管上山字形排列磁鋼38，其中垂直放置的磁鋼的磁極與兩塊水平放置的磁鋼的極性相反。方鐵管既作為極靴又作為導(dǎo)水管，磁組件的外周同樣包封一個(gè)薄壁不銹鋼管。
有時(shí)候需要在靶管的兩側(cè)面同時(shí)濺射，此時(shí)可采用圖5形式的磁組件。在極靴34的兩側(cè)分別開一個(gè)橢圓狀的沉孔，沉孔中各布置一排磁鋼，兩排磁鋼的同極性朝外，極靴的另兩個(gè)側(cè)面各布置一根導(dǎo)水銅管，該組件的外側(cè)同樣包封一個(gè)薄壁不銹鋼管。
有些濺射場合希望磁組件轉(zhuǎn)動(dòng)，靶管靜止不動(dòng)，此時(shí)僅需把進(jìn)水插管7改成動(dòng)密封引出，便能實(shí)現(xiàn)上述目的，圖6示出了這種結(jié)構(gòu)的局部視圖。在進(jìn)水腔底部6中心開一個(gè)直徑略大于進(jìn)水管的通孔，該通孔中布置一個(gè)O型密封圈49，左端法蘭5中心開一個(gè)通孔，該法蘭外側(cè)用螺釘安裝一個(gè)帶錐形通孔的壓板47，錐形孔中布置一個(gè)O型密封圈48。進(jìn)水插管7的左端開若干通孔，其左端口焊一個(gè)不銹鋼的短軸45，該短軸外側(cè)布置一個(gè)驅(qū)動(dòng)輪46。將帶短軸的進(jìn)水插管同軸地布置在上述部件的中心孔中。驅(qū)動(dòng)輪46拖動(dòng)進(jìn)水插管進(jìn)而帶動(dòng)磁組件轉(zhuǎn)動(dòng)，驅(qū)輪停轉(zhuǎn)時(shí)，密封圈48、49的阻力及驅(qū)動(dòng)變速裝置阻力足以使磁組件停止轉(zhuǎn)動(dòng)。
權(quán)利要求
1.一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，它包括支承架，靶組件，其特征在于所說的靶管組件包括磁組件、靶管，磁組件具有極靴[34]，極靴一側(cè)面開有橢圓形磁鋼沉孔[34a]，與它相對(duì)的另一側(cè)面開有導(dǎo)水管沉槽[34b]，表面鍍復(fù)防銹的鎳層，該極靴的左端焊上一個(gè)不銹鋼左端軸頭[32]，該軸頭的右側(cè)開有一個(gè)水腔[32a]，左側(cè)為空心凸臺(tái)，左端軸頭空心凸臺(tái)上設(shè)有橫銷釘[31]，極靴[34]的右端焊上一個(gè)帶凸臺(tái)的不銹鋼右端軸頭[39]；極靴磁鋼沉孔[34a]中布置永久磁鋼[38]，磁鋼的頂部粘貼一條純鐵半圓形勻磁片[37]，極靴與磁鋼的間隙中充填塑料間隔片[44]，極靴導(dǎo)水管沉槽[34b]中焊上一個(gè)兩端開口的導(dǎo)水銅管[35]，上述組件的外周包封一個(gè)薄壁不銹鋼管[36]，制成密封式磁組件[I]上述磁組件的左端軸頭[32]上套上一個(gè)帶回水斜孔的聚四氟乙烯滑塊[30]，右端軸頭[39]上配合一個(gè)防銹的向心推力軸承[40]，將磁組件同軸地布置在靶管[33]內(nèi)，靶管右端設(shè)有盲法蘭[43]，盲法蘭一端帶軸承孔，另一端帶凸臺(tái)，盲法蘭與靶管一端部之間設(shè)有密封圈[41]，盲法蘭用拼緊螺帽[42]固定在靶管上，靶管另一端用松套法蘭[28]，密封圈[29]，固定密封在心軸[27]一端帶錐形內(nèi)孔的法蘭[27a]上。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，其特征在于所說的支承架包括心軸，動(dòng)密封組件，引出驅(qū)動(dòng)組件；動(dòng)密封組件具有心軸左、右端設(shè)有的絕緣座[13]、[21]，兩絕緣座固定在底座[22]上，絕緣座[13]與心軸間依次設(shè)有壓環(huán)[11]，杯形密封環(huán)[12]，在絕緣座[21]與心軸間設(shè)有杯形密封環(huán)[20]。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，其特征在于所說的引出驅(qū)動(dòng)組件包括在絕緣座[13]與絕緣座[21]之間設(shè)有驅(qū)動(dòng)輪[17]，絕緣座[13]與心軸之間設(shè)有滾針軸承[16]，在絕緣座[21]與心軸之間設(shè)有滾針軸承[19]，絕緣座[21]與驅(qū)動(dòng)輪[17]之間設(shè)有平面推力軸承[18]，在絕緣座[13]右側(cè)對(duì)稱地布置碳刷[14]，通過螺釘[15]與電源的負(fù)極連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，其特征在于所說的靶管[33]為外表面包復(fù)濺射材料的銅管，濺射材料為金屬，合金，陶瓷材料，陶瓷材料為SiO2，ITO，Al2O3。
5.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，其特征在于所說磁組件的冷卻組件為冷卻水自左絕緣座[13]的進(jìn)水孔[9]流入進(jìn)水腔[6a]，依次通過導(dǎo)水插管[7]，左軸頭的水腔[32a]，導(dǎo)水銅管[35]，流到磁組件右側(cè)的間隙，再由磁組件與靶管之間的間隙，滑塊[30]的斜孔，心軸與導(dǎo)水管的間隙，回水腔[10b]從左絕緣座上的出水孔[10]流出。
6.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，其特征在于所說的軸座右側(cè)同軸地固定一個(gè)其內(nèi)孔大于心軸的不銹鋼屏蔽片[26]，屏蔽片與底座端面間設(shè)有間隙[26a]。
7.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，其特征在于所說的磁組件為在方純鐵管上山字形排列磁鋼[38]，其中垂直放置的磁鋼的磁極與兩塊水平放置的磁鋼的極性相反，方鐵管既作為極靴又作為導(dǎo)水管。
8.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，其特征在于所說的磁組件為在極靴[34]的兩側(cè)分別開有橢圓狀沉孔，沉孔中各布置一排磁鋼[38]，兩排磁鋼的同極性朝外，極靴另兩側(cè)面各布置一根導(dǎo)水銅管。
專利摘要
本發(fā)明公開了一種旋轉(zhuǎn)靶柱型磁控濺射靶源，它包括支承架，靶組件，特征是把磁組件的極靴制成閉合回路極靴，磁鋼置于極靴的閉合槽內(nèi)，用薄壁不銹鋼管，把上述磁組件密封成一個(gè)略短于靶管的磁組件，外表包復(fù)有濺射材料的空心銅靶管，心軸通過動(dòng)密封組件，及引出驅(qū)動(dòng)組件布置在底座上，心軸與靶管通過松套法蘭連接。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是更換靶材方便，靶材利用率高，膜層純潔。
文檔編號(hào)C23C14/35GKCN1053712SQ97109839
公開日2000年6月21日 申請(qǐng)日期1997年4月30日
發(fā)明者王德苗, 任高潮 申請(qǐng)人:浙江大學(xué)導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan專利引用 (3),