專利名稱:涂層方法
本發(fā)明涉及到在平板玻璃上制取紅外反射的含氟氧化錫涂層的方法。
已知，平板玻璃表面上的含氟氧化錫涂層其厚度適當，例如100mm到1000nm，就能反射紅外輻射線而又能透過光譜可見光區(qū)的光線。并且已知可用一種含氟(氫氟酸或氟化銨形式的)氯化錫水溶液噴涂到熱玻璃上制取此種涂層。最近以來，也有人建議如英國專利1，565，765，為了克服在溶液噴射方法操作中所遇到的一些實際問題，采用了一種有機錫化合物，使其以細分散的微顆粒狀態(tài)懸浮在含有氟化氫的載氣流中，然后再把氣流噴射到熱玻璃表面上的方法。還有一種簡化了涂層制備中錫∶氟比的控制問題的改良方法，這種方法敘述在EP(歐州專利申請書)39，256Al中，在此方法中將粉末狀的氟化合物分散在有機錫化合物所用的載氣中，作為氟的來源以代替氟化氫氣體。在EP(歐州專利申請書)39，256Al中所述的優(yōu)化方式是一種簡單的有機化合物，例如雙丁錫化二氟，用來同時作為氟和錫的來源。
按照EP(歐州專利申請書)39，256A1所述的方法制備的涂層具有高的紅外反射率，盡管一般情況下外觀是無色的，但與其它的薄膜一樣，在反射條件下這類涂層產生干涉色。此種干涉色與涂層的厚度有關，所以橫過涂層的厚度變化使得所看到的干涉色產生可以看得出的變化。干涉色的直觀影響以及由于涂層厚度變化而引起的這種顏色變化一般地說當涂層的平均涂層厚度愈大時愈小。然而這是很明顯的事實，因為涂層吸收可見光，涂層玻璃的光透過率隨著涂層厚度的增加而降低。
我們已經在我們的發(fā)表于本申請書優(yōu)先權日之后的英國共同未決專利申請書2，156，386A中提出，為了增加給定厚度涂層的透光性，采用了固態(tài)細分散粉狀揮發(fā)性的無機錫(Ⅳ)化合物，此種化合物既含氯又含氟，用以代替歐州專利申請書39，256A1中所用的有機錫化合物。
現在我們已經發(fā)現用下述方法可以得到同樣有益的結果，即在具有氟獨立來源情況下采用相應的含氯、無氟的揮發(fā)性無機錫(Ⅳ)化合物。從高的紅外反射率的觀點來看，采用有機錫氟化合物作為氟的來源所得結果最佳。我們也更進一步發(fā)現，當以有機錫化合物(最好是含氟的)與英國專利申請書2，156，386A中所述的、同時含有氯和氟的揮發(fā)性無機錫(Ⅳ)化合物連合使用時，在增加紅外反射率方面要超過只用此種揮發(fā)性錫(TV)化合物時所制得的涂層。
依照本發(fā)明的內容提供了在玻璃上涂敷紅外反射的含氟氧化錫涂層的方法，這種方法包括把微細的分離狀態(tài)的固態(tài)錫化合物的母體材料以懸浮在載氣中的方式對準400到750℃的熱玻璃表面，其特征是母體材料包括(1)微細的分離狀態(tài)的固態(tài)含氯的揮發(fā)性無機錫(Ⅳ)化合物(如本申請中所規(guī)定的)，可以含氟也可以不含氟，(Ⅱ)當(Ⅰ)不含氟時，包括獨立的氟源，(Ⅲ)當(Ⅰ)含氟時，包括有機錫化合物。
采用“無機錫化合物”這一術語，意味著該種化合物中不存在碳一錫鍵。然而在實施本發(fā)明的過程中采用的此類化合物可以含有有機基團，但并不是通過碳原子與錫直接鍵連。氯一般是與錫直接鍵連的。
為了得到均勻的涂層，錫化合物在等于玻璃溫度或低于玻璃溫度條件下應轉化成含錫的蒸汽。在此用“揮發(fā)性的”表示錫化合物在等于或低于玻璃溫度條件下能轉化成含錫的蒸汽。最好是采用在400°或低于400℃條件下能轉化成含錫蒸汽的化合物，如果采用的化合物在400℃空氣中受熱時基本上完全揮發(fā)，則可獲得最好的結果。
實施本發(fā)明時所用的最佳錫(Ⅳ)化合物是分子式為y2(SnHal6)n的六鹵錫酸鹽，式中y是陽離子，此陽離子于六氯錫酸鹽在熱玻璃上分解時不遺留固態(tài)殘余物，n是陽離子的原子價，Hal代表鹵素，至少一部分鹵素是氯。
y最好是一種銨離子，可以被取代也可以不被取代。這種銨離子可被一種或幾種有機基團取代，例如，烷基或芳基基團。雖然一般情況下是采用含有高達8個碳原子的有機基團，但是有機基團鏈長不是關鍵性的。
鹵素最好全部以氯存在，或者以較小原子比的氟而其余部分是氯存在。典型地說，含氟的六鹵錫酸鹽中相對于每個錫原子含有平均0.1到2，最好是0.5到1.5個氟原子。這類化合物已敘述在我們的英國共同未決專利申請書2，156，386A中。
最好的無機錫(Ⅳ)化合物是六氯錫酸銨，其分子式為(NH4)2SnHal6。
固態(tài)形式的含氯的無機錫(Ⅳ)化合物也可另含結晶水。
上面提到的六鹵錫酸鹽初始材料可從陽離子源y(最好是一種銨離子，它可以被取代也可以不被取代)、錫(Ⅳ)離子、氯離子以及氟離子源(如果需要的話以適當比例)形成水溶液并沉積固體六鹵錫酸鹽的方法來制備;這其中包括在真空條件下蒸發(fā)至干。最好是用氯化錫做為錫(Ⅳ)離子及氯離子源，鹵化銨，特別是氯化銨和氟化銨，它們被用作銨源及鹵離子源。
其它的在本發(fā)明實踐中可采用的含氯的揮發(fā)性無機錫(Ⅳ)化合物(如本申請中所規(guī)定的)是無氟或含氟的加合物，其分子式為L2SnHal4，式中L是一種單配位基配合基，Hal代表鹵素，鹵素不是以氯存在就是以較小原子比的氟其余是氯存在。這種配合基的例子是二甲亞砜以及苯乙腈。當加合物含有氟時，存在于加合物中的較小比例的鹵素最好是氟，其余是氯。
當所用的含氯錫(TV)化合物不含氟時，要采用獨立的氟源。
這種氟源可以是氣態(tài)氟化合物，也可以是固態(tài)的錫氟化合物。然而采用氟化銨或者二氟化銨作為氟源也已得到滿意的結果，特別是采用含有不靠碳-錫鍵與錫鍵接的有機基團的含氯的無機錫(Ⅳ)化合物時則更好。
在本發(fā)明中采用的最佳氣態(tài)氟化合物是氟化氫，這種物質在涂層中不會殘留下任何非所希望的殘余物。當采用氟化氫時，最好是將它與含有含氯無機錫(Ⅳ)化合物的載氣一起配合使用。
在本發(fā)明的實踐中用作氟源的最好的固態(tài)錫氟化合物是有機錫化合物，其一般分子式為
RxSnFy
式中每一個R均獨立地代表一種烷基基團，最好是含有1到4個碳原子的烷基基團，x＝1，2或3，且x+y＝4。例如，這種固態(tài)的錫氟化合物是二丁錫化二氟以及三丁錫化氟。
當所用的含氯的錫(Ⅳ)化合物含氟時，可以采用一種有機錫化合物以便增加所制得的涂層的紅外反射率。這里所用“有機錫化合物”一詞是表示這樣一種化合物，它含有有機基團但或含或不含碳-錫鍵。
最好的有機錫化合物也包括上面提到的一般分子式為RxSnFy的化合物。
已經發(fā)現了適用于增加涂層反射率的其它有機錫化合物是一般通式為R2SnO的錫化合物，式中每個R獨立地代表烷基，以含有1到4個碳原子的為最佳。這種類型的錫化合物之一例是二丁錫化氧。
單烷基錫化氧典型的有單丁錫化氧和單辛錫化氧等，它們也可用作有機錫化合物。
業(yè)已發(fā)現的還有一組有用的化合物，即烷基錫酸，典型的有丁基錫酸。
可以相信，在涂層過程中所得涂層的均勻性部分地決定于所用微細分離狀的固體材料的顆粒大小。所以，最好是采用微細分離狀固體材料，其最大顆粒尺寸低于100微米，最好是低于20微米。如果需要的話，必須把這種要涂到玻璃上的存在于載氣中的固態(tài)材料加以研磨以獲得所希望的微細粉末。
為了涂到欲涂層的玻璃表面上，把這種固體材料懸浮于載氣中。此處采用兩種固體材料，這些材料能懸浮在對準玻璃的單一載氣流中或者分別懸浮在共同對準或者一個接一個地對準玻璃表面的載氣流中。所用的載氣最方便的是空氣(當存在有機錫化合物時最好含有空氣或氧氣)，但是由無機錫(Ⅳ)化合物生成氧化錫時所需要的氧最好是由水來提供。這種水或以結晶水或以吸附水形式存在于固體材料中或者以水蒸汽的形式加在載氣中。
本發(fā)明的方法可用于涂敷成型工藝后的熱平板玻璃，對于剛剛出浮槽進入退火爐前的平板玻璃進行涂敷特別有效。在該位置上玻璃的溫度常常是在550℃到650℃之間。
當采用含氯的無機錫(Ⅳ)化合物而不含氟時，摻入氧化錫涂層中氟的比例可用控制無氟材料對用作氟源的含氟材料的比例加以調整。當采用含氯的無機錫(Ⅳ)化合物也含氟時，摻入氧化錫涂層中氟的比例可用控制化合物中氟對氯的比例以及其中所用的無機錫(Ⅳ)化合物及有機錫化合物的比例來調整。
含氟或者不含氟的無機錫(Ⅳ)化合物常常與較小重量比的氟源(用于不含氟的無機錫(Ⅳ)化合物)或者有機錫化合物(用于含氟的無機錫(Ⅳ)化合物)一起使用，盡管氟源/有機錫化合物的比例較高，但如果愿意的話也是可以采用的，特別是當制備比較薄的涂層，例如低于400微米厚的涂層時更為有用。最佳情況是氟源/有機錫化合物為無機錫(Ⅳ)化合物重量的1%到25%。
采用本發(fā)明的方法制備的摻氟的氧化錫涂層比以前工藝中所提出的在相同條件下采用微細粉末狀有機錫涂層反應物質所得到的同樣厚度的摻氟的氧化錫涂層有更高的光透過率。特別是用含氯的無機錫(Ⅳ)化合物已得到了高的紅外反射率，這種含氯的無機錫(Ⅳ)化合物含有與有機錫化合物連合的氟。另外，因為依照本發(fā)明的優(yōu)選實施方案使用了六鹵錫酸鹽，它們一般是非吸濕性的，比本技術領域：
中提及的易吸濕性化合物有更容易研磨、處理和運送的優(yōu)點。
本發(fā)明也包括用本發(fā)明方法制取的有紅外反射的含氟的氧化錫涂層的玻璃。
用下列例子說明本發(fā)明但本發(fā)明不受其限制。實施例中光透過率值是對C.I.E.的C光源的光的透過率而言的。所援引的熱輻射系數值是用下式得到的。
熱輻射系數<math> <mrow> <mi>E</mi> <mo>=</mo> <mfrac> <mrow> <msubsup> <mo>∫</mo> <mn>0</mn> <mo>∞</mo> </msubsup> <msub> <mi>e</mi> <mi>λ</mi> </msub> <mi>b</mi> <mrow> <mo>(</mo> <mi>λ</mi> <mo>,</mo> <mi>T</mi> <mo>)</mo> </mrow> <mi>dλ</mi> </mrow> <mrow> <msubsup> <mo>∫</mo> <mn>0</mn> <mo>∞</mo> </msubsup> <mi>B</mi> <mrow> <mo>(</mo> <mi>λ</mi> <mo>,</mo> <mi>T</mi> <mo>)</mo> </mrow> <mi>dλ</mi> </mrow> </mfrac> </mrow> </math>
式中eλ＝光譜發(fā)射;
B(λ，T)＝300°K個黑體光譜能量分布。
如上面所計算的，熱輻射系數E與涂層的紅外反射率有關，因之，一般來說熱輻射系數愈低，紅外反射率愈高。
實施例1.
將固體的六氯錫酸銨(NH4)2SnCl6和二丁錫化二氟(DBTDF)分別與作為研磨添加劑和流動促進劑的4%(重量)的“Cab-o-Sil”市場上由英國Cabot Carbon Limited of Ellesmere Port買到的無定形二氧化硅)一起在一個滾柱研磨機中研磨到最大粒徑不超過100um。然后把磨過的六氯錫酸銨與重量為其5%的研磨過的DBTDF混合，將混合后的樣品懸浮在作為載氣的含水蒸汽的熱空氣流中。將載氣流以每100平方厘米玻璃3克的速率對準670℃的厚6mm的浮法玻璃表面。
發(fā)現制得的涂層玻璃的光透過率為76.8%;涂層厚度為600nm。涂層玻璃的熱輻射系數為0.39，表明紅外反射率高。
實施例2.
將DBTDF與2%(重量)的“Cab-O-Sil”一起置入滾柱研磨機中研磨至其最大粒徑為100微米，并把六氯錫酸銨(NH4)2SnCl6與4%(重量)的“Cab-o-Sil”在噴射式研磨機中研磨到最大粒徑不超過30微米。
然后，把DBTDF和六氯錫酸銨懸浮在單獨準備好的空氣流中，隨后使氣流通過一個長0.25m寬0.006m的狹縫，狹縫與玻璃前進方向的水平面呈20°角，狹縫下面水平前進的厚為6mm的浮法玻璃其速度為每分鐘5米，狹縫對準玻璃表面。玻璃的溫度為600℃。狹縫設在玻璃前進方向上面的0.1m距離處。在玻璃表面上方高0.016m處以平行玻璃表面方向安裝有寬0.25m，長0.75m的擋板，以便將來自玻璃的蒸汽擋在狹縫出口處，研磨過的DBTDF以每分鐘30克的速度懸浮在處于環(huán)境壓力和溫度下的每分鐘0.33m3的空氣流中，并通過狹縫進氣處對準玻璃。
將研磨過的六氯錫酸銨以每分鐘150克的速度，在環(huán)境壓力與溫度下懸浮在每分鐘0.58m3的空氣流中并與環(huán)境壓力和340℃下的每分鐘0.66m3的空氣流和每分鐘0.25Kg的水蒸汽相混合，通過狹縫出口對準玻璃。
已發(fā)現，涂層波動的光透過率為79%;涂層厚度為700nm。涂層玻璃的熱輻射系數為0.19，表明紅外反射率高。
實施例3.
重復實施例2的方法，但在狹縫進氣處用每分鐘10克研磨過的DBTDF和在狹縫出口處用每分鐘150克研磨過的六氯錫酸銨。氣體流速不變。
已發(fā)現，涂層玻璃的光透過率為73.0%，熱輻射系數為0.18。涂層厚度為670nm。
實施例4.
采用實施例1中所述的研磨過的固體六氯錫酸銨與10%(重量)(以六氯錫酸銨的重量為基礎)的二氟化銨NH4HF2相混合，并在離心研磨機中把混合物研磨到最大粒徑小于100微米。把研磨過的混合物樣品懸浮在作為載氣的含有水蒸汽的熱空氣流中，并以每100平方厘米來玻璃5克的速率把載氣流對準620℃，厚度為6mm的浮法玻璃表面。已發(fā)現，所制得的涂層玻璃的光透過率為80.9%;涂層厚度為550nm。還發(fā)現，涂層玻璃的熱輻射系數為0.49，表明紅外反射率高。
實施例5.
在40毫升水與101毫升36%的HCl的溶液中溶解83.5克的(CH3)3CNH3。將所得到的溶液在攪拌條件下慢慢地加到40毫升水中溶有200克SnCl4·5H2O的溶液中，溶液放置過夜并沉積出大量的白色晶體。用過濾方法濾出晶體并在環(huán)境條件下干燥。
將所得到的固體〔CH3)3CNH3〕2SnCl6與4%(重量)的“Cab-O-Sil”一起在離心研磨機中研磨到最大粒徑小于100微米。把一部分研磨過的固體與20%(重量)的NH4F混合，并把混合物在離心研磨機中研磨到最大粒徑小于100微米。把研磨過的混合物樣品懸浮在作為載氣的含有水蒸汽的熱空氣流中，并把載氣流以每100平方厘米玻璃2.9克的速率對準670℃，厚度為6mm的浮法玻璃表面。已發(fā)現，制得的涂層玻璃的光透過率為75.8%;涂層厚度為550nm。還發(fā)現，涂層玻璃的熱輻射系數為0.21，表明紅外反射率高。
實施例6.
將實施例5中制取的另一部分研磨過的固體〔(CH3)3CNH3〕2SnCl6與實施例1中所述的研磨過的DBTDF混合，后者的重量為六氯錫酸鹽重量的5%。把混合物樣品懸浮在作為載氣的含有水蒸汽的熱空氣流中，并把載氣流以每100平方厘米來玻璃3克的速率對準670℃的厚度為6mm的浮法玻璃表面。已發(fā)現，所得到的涂層玻璃其光透過率為79.0%;涂層厚度為600nm。還發(fā)現，涂層玻璃的熱輻射系數為0.34，表明紅外反射率高。
實施例7.
用1%(重量)的二丁錫化氧與100%(重量)的(NH4)2-SnCl4F2和4%(重量)的“Cab-O-Sil”混合，并把混合物在一滾柱研磨機中研磨到最大粒徑為100微米。將研磨過的粉末以每分鐘300克的速度懸浮在作為載氣的每分鐘1.5m3的熱空氣流中，熱空氣流中含每分鐘0.75公斤的水蒸汽。把含有粉末的載氣通過一個長0.5米，寬0.01米的狹縫，對準位于狹縫下方的以每分鐘5米前進的，溫度為600℃的6mm厚的浮法玻璃。在玻璃上所得到的含氟的氧化錫涂層厚度為700nm涂層玻璃的光透過率為76.2%，已發(fā)現，涂層玻璃的熱輻射系數為0.17，表明紅外反射率高。
實施例8～15.
重復實施例7的方法，但用列于表1中的微細的并呈分散狀態(tài)的涂層材料并按給出的比例使用，以便在玻璃上得到含氟的氧化錫涂層。所采用的用量和條件均與實施例7中所指出的相同，但例9～12例外，其中研磨過的粉末混合物是采用每分鐘400克的增大速率。所得涂層厚度和涂層玻璃的熱輻射系數以及光的透過率均示于表1中。
每個樣品的熱輻射系數均很低，相應地說，對紅外光的反射率高。
實施例16.
將16.8%(重量)的一丁錫化氧(作為C4H9·SnOOH和(C4H9SnO)2O的混合物，由英國Schering Chemical Co.Ltd.Burgess Hill，Sussex提供)與100%(重量)(NH4)2-SnCl4F2和4%(重量)的“Cab-o-Sil”相混合，把混合物在離心研磨機中研磨到最大粒徑為100微米。將研磨過的混合物樣品懸浮在作為載氣的含有水蒸汽的熱空氣流中，并把載氣流以每100平方厘米玻璃7.8克的速率對準620℃，厚度為6mm的浮法玻璃表面。
已發(fā)現，所得到的涂層玻璃其光透過率為72.9%，且熱輻射系數為0.20。表明紅外反射率高涂層厚度為700nm。
實施例17.
重復實施例16的方法但用丁基錫酸取代一丁錫化氧。已發(fā)現，所制取的涂層玻璃其光透過率為73.3%，熱輻射系數為0.20表明紅外反射率高。發(fā)現涂層厚度為700nm。
比較例.
重復實施例7的方法，但依照本發(fā)明只用(NH4)2-SnCl4F2，不加有機錫化合物，以產生厚度為800nm的含氟氧化錫涂層。涂層玻璃的光透過率為74.8%，并發(fā)現，涂層玻璃的熱輻射系數為0.291，因之，比使用既含氯又含氟并存在有機錫化合物的無機錫(Ⅳ)化合物制取的涂層玻璃對紅外光有更低的反射率。
實施例18。
將227克的苯乙腈C6H5·CH2CN在攪拌條件下慢慢地加到550克二氯甲烷內溶進277克四氯化錫的溶液中。溶液放置過夜，并沉積出大量的白色晶體。用過濾方法分離晶體，并在環(huán)境條件下干燥。
將所得到的固體SnCl4·2C6H5CH2CN與4%(重量)的“Cab-
-Sil”一起在離心研磨機中研磨到最大粒徑小于100微米，將一部分研磨過的固體與10%(重量)的NH4F混合并將混合物在離心研磨機中研磨到最大粒徑小于100微米。把研磨過的混合物樣品懸浮在作為載氣的熱空氣流中，并將載氣流以每100平方厘米玻璃3克的速率對準670℃，厚度為6mm浮法波動表面。已發(fā)現，所制得的涂層玻璃其光透過率為78.1%，熱輻射系數為0.24，表明反射率高。涂層厚度為425nm。
實施例19.
二丁錫化氧(DBTO)和(NH4)2SnCl5F的單獨樣品，各自在噴射式研磨機中與4%(重量)的“Cab-o-Sil”一起研磨到最大粒徑為30微米。
然后，把DBTO和六鹵錫酸銨懸浮在單獨的空氣流中，并連續(xù)通過0.5m長的狹縫進氣口和出氣口，對準狹縫下面以每分鐘5米速率水平前進的6mm厚的浮法玻璃表面。玻璃溫度為600℃。
狹縫與玻璃前進方向的距離為0.1米。進氣狹縫寬0.006米，與玻璃前進的水平方向呈20°角。狹縫出氣口寬0.010米，與玻璃前進的水平方向呈45°角。將0.5米寬，0.4米長的擋板安裝在玻璃上方0.016米處并平行于玻璃表面以便把來自玻璃的蒸汽擋在狹縫的出氣口處。
將每分鐘60克的研磨過的DBTO懸浮在環(huán)境溫度和壓力下的每分鐘為0.55m3的空氣流中，并與環(huán)境壓力和溫度下的每分鐘為0.67m3的空氣流混合，經狹縫進氣處，對準玻璃表面。
將每分鐘400克的研磨過的六鹵錫酸鹽懸浮在環(huán)境壓力和溫度下每分鐘為0.87m3的空氣流中，與環(huán)境壓力和350℃的每分鐘為0.77m3空氣以及每分鐘760克的水蒸汽流相混合，經過狹縫出氣處對準玻璃表面。
已發(fā)現，涂層玻璃其光透過率為74.1%;涂層厚度為800nm。并發(fā)現涂層玻璃的熱輻射系數為0.17，表明紅外反射率高。
實施例20.
重復實施例19的方法，但在狹縫進氣處用每分鐘20克的研磨過的DBTO，其余流速全保持不變。已發(fā)現，涂層玻璃其光透過率為75.3%，涂層厚度為675nm。并發(fā)現涂層玻璃的熱輻射系數為0.21。如用DBTDF取代DBTO時可達到相似的有利效果。
權利要求
1、在玻璃上涂敷反射紅外線的含氟氧化錫涂層的方法，其步驟包括以懸浮在載氣中的形式把微細的分離狀的固體錫化合物作為母體材料，對準溫度為400到750℃的熱玻璃表面，其特征在于，母體材料包括
(i)一種微細分離狀固體含氯揮發(fā)性的無機錫(Ⅳ)化合物(如本申請中所規(guī)定的)，可以含氟，也可以不含氟，(ii)當(i)無氟時，存在氟的獨立源，(iii)當(I)含氟時，存在一種有機錫化合物。
2、根據權利要求
1所述的方法，其特征在于，所用的無機錫(Ⅳ)化合物是無氟的或是含氟的分子式為y2(SnHal6)n的六鹵錫酸鹽，式中y代表當六鹵錫酸鹽在熱玻璃上分介時不留下固體殘余物的陽離子，n是陽離子的原子價，Hal代表鹵素，鹵素是氯或是較小原子比的氟其余是氯。
3、根據權利要求
2所述的方法，其特征在于，y是銨離子。
4、根據權利要求
3所述的方法，其特征在于，銨離子被一個或多個有機基團取代。
5、根據權利要求
3所述的方法，其特征在于，所用的無機錫(Ⅳ)化合物是分子式為(NH4)2SnCl6-xFx的六鹵錫酸銨，式中，x的平均值為0.1到2。
6、根據權利要求
1所述的方法，其特征在于，所用的無機錫(Ⅳ)化合物是無氟的或含氟的分子式為L2SnHal4的加合物，式中Hal代表鹵素，鹵素是氯或是較小原子比的氟，其余為氯，L代表單配位基配合基。
7、根據上述權利要求
中的任何一項所述的方法，其特征在于，無機錫(Ⅳ)化合物與一般分子式為RxSnFy的有機錫化合物連合使用，式中，每一個R獨立地代表烷基，x是1，2或3，且x+y＝4。
8、根據權利要求
7所述的方法，其特征在于，有機錫化合物是一種二丁錫化二氟或三丁錫化氟。
9、根據權利要求
1至6中的任何一項所述的方法，其特征在于，無機錫(Ⅳ)化合物含氟，并與一般分子式為R2SnO的有機錫化合物連合使用，式中，每個R獨立地代表烷基。
10、根據權利要求
9所述的方法，其特征在于，有機錫化合物是二丁錫化氧。
11、根據權利要求
1至6中的任何一項所述的方法，其特征在于，無機錫(Ⅳ)化合物含氟，并與單烷基錫化氧連合使用。
12、根據權利要求
11所述的方法，其特征在于，單烷基錫化氧是單丁錫化氧或單辛錫化氧。
13、根據權利要求
1至6中的任何一項所述的方法，其特征在于，無機錫(Ⅳ)化合物含氟并與烷基錫酸連合使用。
14、根據權利要求
13所述的方法，其特征在于，有機錫化合物是丁基錫酸。
15、根據權利要求
1至6中的任何一項所述的方法，其特征在于，無機錫(Ⅳ)化合物是無氟的并且采用氟化銨或二氟化銨作氟的來源。
16、根據上述權利要求
中的任何一項所述的方法，其特征在于，含氯的揮發(fā)性無機錫(Ⅳ)化合物的載氣含水蒸汽。
17、根據上述權利要求
中的任何一項所述的方法，其特征在于，所用的含氯的揮發(fā)性無機錫(Ⅳ)化合物是在最大粒徑低于100微米的情況下以微細的分離狀的形式使用的。
專利摘要
制取紅外反射含氟氧化錫玻璃涂層方法包括將下述物質懸浮于載氣中并將其對準熱玻璃表面噴涂(i)微細分散狀固態(tài)含氯揮發(fā)性無機錫(IV)化合物(含或不含氟)；(ii)當(i)無氟時，用獨立氟源；(iii)當(i)含氟時，用有機錫化合物。特別優(yōu)選的無機錫(IV)化合物為六鹵錫酸銨(NH4)2SnHal6，其中HaI為鹵素，可為氯或小原子比氟其余為氯。用固體無機錫(IV)化合物可制得單位厚度光透過率高的涂層。
文檔編號C03C17/23GK86101816SQ86101816
公開日1986年10月8日 申請日期1986年3月21日
發(fā)明者愛德華·哈格里維斯, 約瑟夫·埃里·萊維斯 申請人:皮爾金頓兄弟公共有限公司導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan