專利名稱：多元素填充式組合靶的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及金屬材料的鍍覆設(shè)備，特別是真空鍍膜設(shè)備。
在真空鍍膜技術(shù)中，無論是濺射法或離子鍍法，都需要靶材，用什么靶材，就獲得什么材料的薄膜或這種材料的化合物薄膜，因此，若獲得合金薄膜或該合金化合物薄膜，就需要用合金靶材。目前，對于多元成分靶材，包括金屬與非金屬靶材，有以下幾種組成方式1.多元成分共熔一體，但有時很難熔煉；2.多元成分的粉末冶金，但使用中容易熱裂；3.機(jī)械拼靶，此種靶的組成方式多以扇形組合為主，即把不同組元的材料，以扇形面積組合，用扇形面積比控制各組元材料成分比，此種靶加工難度大，而且不易控制成分，并只能采用間接冷卻，由于每組元單體面積較大，在某些鍍膜工藝中，成分不均勻，都影響了成膜質(zhì)量，故在應(yīng)用上有很大局限性。
本實用新型的目的在于避免上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種易加工、組分比例的組成方式靈活、成膜質(zhì)量較高的一種新型組合靶。
該實用新型的目的可通過如下的措施達(dá)到用主要組元為基材制備靶塊，在此靶塊上可靈活地填充一種或多種其他組元而形成填充式組合靶。
下面通過附圖及實施例作進(jìn)一步詳述


圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為
圖1的俯視圖。
圖3為按扇形面積組成的機(jī)械拼靶示意圖。
圖1、2給出了該組合靶的結(jié)構(gòu)示意圖。由圖可見，在基材(1)上有填充元素(2)，該填充元素可為一種或多種，填充元素可均勻分布或非均勻分布，也可區(qū)域分布，因此組成方式較為靈活，組分比例好控制，且好加工，由于可直接冷卻，因此成膜質(zhì)量也較高。圖3給出按扇形面積組成的機(jī)械拼靶，(1)為A組元，(2)為B組元，由圖可見，這種各扇形組元，即不好加工又難以對接，且只能間接冷卻，都影響了成膜質(zhì)量。
本實用新型具有如下優(yōu)點1.加工容易；2.組分比例組成方式靈活；3.靶可以直接冷卻；4.可以拼成較厚的靶；5.長期使用鍍膜成分基本保持穩(wěn)定。
權(quán)利要求1.一種用于金屬材料鍍覆設(shè)備的多元素填充式組合靶，其特征在于在主要組元為基材(1)制備的靶塊上，有填充元素(2)，該填充元素(2)可為一種或多種其他組元材料，填充元素可均勻分布或非均勻分布，也可區(qū)域分布。
專利摘要多元素填充式組合靶屬于金屬鍍覆設(shè)備，該靶的特點在于用一種主要組元作為基材制備靶塊上填充一種或多種其他組元材料，以獲得各類不同組分的合金薄膜或該合金化合物薄膜，該種靶易加工，各組分比例組成方式較為靈活，且可直接冷卻，成膜質(zhì)量較高。
文檔編號C23C14/34GK2112637SQ9121720
公開日1992年8月12日 申請日期1991年7月4日 優(yōu)先權(quán)日1991年7月4日
發(fā)明者吳北新, 王仁, 楊光耀, 張云漢, 王福柱 申請人:北京鋼鐵學(xué)院分院, 航空航天工業(yè)部第五研究院第五一一研究所