專(zhuān)利名稱(chēng)：：滑動(dòng)部件及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種滑動(dòng)部件及其制備方法，該滑動(dòng)部件具有優(yōu)異的耐磨性和抗咬住性，該滑動(dòng)部件具有CrN和Cr2N作為主要成份的氮化鉻膜。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，表面帶有由表面處理形成的具有優(yōu)異滑動(dòng)特性的膜的滑動(dòng)部件可以用作彼此之間相互滑動(dòng)的部件，例如汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)部件及各種機(jī)械部件。迄今為止所用的表面處理方法包括滲氮、鍍鉻和鉬火焰噴涂。目前，使用滑動(dòng)部件的條件日愈惡劣，這就要求部件具有改善的滑動(dòng)特性。已經(jīng)出現(xiàn)了用常規(guī)表面處理不再能滿(mǎn)足需要的情況，因此，這就非常需要具有顯著耐磨性和抗咬住性的膜。在致力于滿(mǎn)足這種需要中，目前已經(jīng)提出用PVD(物理汽相沉積)的金屬氮化物或金屬碳化物膜鍍覆在滑動(dòng)部件的滑動(dòng)表面上。PVD膜，例如氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)和氮化鉻(CrN)具有優(yōu)異的耐磨性和抗咬住性。其中，實(shí)際上氮化鈦和氮化鉻已成為用作實(shí)用膜的注意焦點(diǎn)，并且這種膜已用在某些機(jī)械和發(fā)動(dòng)機(jī)部件上。然而，使用這些部件的條件變得日益苛刻，現(xiàn)有技術(shù)的情況是甚至氮化鈦和氮化鉻也不再具有滿(mǎn)意的滑動(dòng)性能。當(dāng)滑動(dòng)運(yùn)動(dòng)伴隨垂直于該滑動(dòng)表面的振動(dòng)運(yùn)動(dòng)時(shí)，會(huì)導(dǎo)致相接觸的表面分離開(kāi)，或者當(dāng)滑動(dòng)運(yùn)動(dòng)過(guò)程中在垂直方向的載荷變化時(shí)，則會(huì)遇到特別惡劣的滑動(dòng)條件。在這種苛刻條件下，由離子鍍制得的氮化鉻為典型的硬質(zhì)膜會(huì)碎落或剝落，因而縮短了該滑動(dòng)部件的使用壽命。甚至在嚴(yán)格潤(rùn)滑條件下也能觀察到硬質(zhì)膜的類(lèi)似的碎落和剝落，這是由于溫度升高和接觸載荷的增加使得很難在滑動(dòng)部分形成潤(rùn)滑膜。因此，需要用陶瓷涂層覆蓋的滑動(dòng)部件，該涂層應(yīng)具有優(yōu)于用常規(guī)表面處理得到的涂層的抗碎落性和抗剝落性。因此，本發(fā)明的目的是提供一種鍍覆有氮化鉻膜的滑動(dòng)部件，該膜具有的抗咬住性和耐磨性，其中該鍍覆膜甚至在惡劣的使用條件下不會(huì)碎落或剝落。本發(fā)明的另一目的是提供一種制備這種滑動(dòng)部件的方法。本發(fā)明人已進(jìn)行了徹底的研究，以解決上述問(wèn)題，并已完成了本發(fā)明，發(fā)現(xiàn)用PVD方法通過(guò)使鉻和氮的混合氣相與基體接觸以在該基體表面形成復(fù)合膜，可以制得具有優(yōu)異耐磨性和抗咬合性的滑動(dòng)部件，并且它不易碎落或剝落，該復(fù)合膜的主相是CrN和Cr2N，其中金屬鉻的組織彌散是分散的，同時(shí)分散的金屬鉻組織的尺寸被調(diào)整為0.2-5μm，面積比為1-20％，這表明了金屬鉻組織占膜總面積的百分?jǐn)?shù)。進(jìn)而言之，本發(fā)明的滑動(dòng)部件的特征是形成氮化鉻復(fù)合膜，該膜的主要成份是CrN和Cr2N，其中的金屬鉻組織是分散的，在膜形成時(shí)確定了該金屬鉻組織的尺寸和面積比。由于軟性金屬鉻組織均勻地分散在氮化鉻膜中，本發(fā)明的滑動(dòng)部件上的膜具有韌性，這優(yōu)于僅由高硬度氮化鉻組成的膜的韌性。為了形成其中金屬鉻組織分散在氮化鉻組織中的膜，使用帶有多個(gè)源的離子鍍方法以蒸發(fā)金屬鉻。通過(guò)調(diào)節(jié)反應(yīng)氣體的分壓并確定被處理工亻與每個(gè)金屬鉻蒸發(fā)源間的距離，則可控制蒸發(fā)的鉻與反應(yīng)氣體間的反應(yīng)速度以形成所需要的膜。通過(guò)調(diào)節(jié)反應(yīng)氮?dú)獾姆謮?、金屬鉻蒸發(fā)源與處理工件間的距離以及弧電流比，可以調(diào)整金屬鉻組織在膜中的數(shù)量和尺寸以及氮化鉻的組成。將金屬鉻組織的尺寸限定為0.2-5μm，其面積比限定為1-20％。如果金屬鉻組織的尺寸小于0.2μm，或面積比小于1％，則金屬鉻組織的效果不顯著并且觀察不到抗碎落性和抗剝落性有何改善。還有，如果金屬鉻組織的尺寸大于5μm，則金屬鉻組織會(huì)局部地暴露在表面上而其耐磨損性劣于僅由氮化鉻組成的組織的耐磨損性。如果面積比大于20％，則膜的硬度降低，并且耐磨損性和耐磨性變得比僅由氮化鉻組成的組織的更差。膜的總厚度優(yōu)選地為1-80μm，特別是20-60μm。如果膜厚小于1μm，則膜的壽命由于磨損而變短。如果膜的總厚度大于60μm，則膜剝落或碎裂，并且降低與基體的粘結(jié)性。出于經(jīng)濟(jì)原因，不希望使膜的厚度大于所必需的厚度。依據(jù)具體的應(yīng)用，有該膜涂覆的基體選鐵材、鋁材或鈦材。下面詳述的PVD方法類(lèi)似于在低于如CVD(化學(xué)汽相沉積)方法所用溫度之溫度下進(jìn)行的典型處理。然而，由于蒸發(fā)現(xiàn)象使吸熱是不可避免的，因此，如果可能，優(yōu)選耐熱的鐵或鈦材作為基體。上述內(nèi)容涉及一種在基體上形成氮化鉻膜的方法，該膜具有分散的金屬鉻組織。然而，依據(jù)本發(fā)明，也允許在該膜與基體之間插入一金屬底涂層。在制備上述膜過(guò)程中，如果在引入氮?dú)庵斑M(jìn)行離子鍍，則要在基體上形成金屬鉻底涂層。由于鉻金屬底涂層的熱膨脹系數(shù)與基體的接近并對(duì)熱應(yīng)力的影響不敏感，因而該底涂層具有優(yōu)異的粘結(jié)性和柔韌性。優(yōu)選地，該金屬鉻底涂層的厚度為0.1-2μm。如果底涂層的厚度小于0.1μm，則對(duì)粘結(jié)性沒(méi)多少改善。將厚度增加到大于2μm，也不會(huì)得到對(duì)粘結(jié)性的相應(yīng)改善，也并不經(jīng)濟(jì)。按所述方式在膜和基體之間形成具有粘結(jié)性和柔韌性的底涂層，具有防止膜剝落的作用。通過(guò)下面結(jié)合附圖的說(shuō)明可以理解本發(fā)明的其他特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)，附圖中相同的參考標(biāo)號(hào)表示圖中的相同或相似部件。圖1是離子鍍裝置之配置的示意圖，圖2是部分剖開(kāi)的側(cè)視圖，說(shuō)明超高壓磨損試驗(yàn)機(jī)，圖3是沿圖2中A-A線的截面圖，圖4是輥式疲勞試驗(yàn)機(jī)主要部件的透視圖?，F(xiàn)在詳述本發(fā)明的特定實(shí)施方案。依據(jù)本發(fā)明，用PVD方法使氣相的鉻和氮混合物與基體接觸。該P(yáng)VD方法是形成薄膜的一類(lèi)技術(shù)，通常可分為三種方法，即蒸發(fā)沉積、濺射和離子鍍。在本發(fā)明中，特別優(yōu)選的方法是反應(yīng)離子鍍，其中鉻蒸汽與氮反應(yīng)在基體上沉積形成氮化鉻膜。通過(guò)用高能束例如從HCD槍中引出的電子束照射鉻以蒸發(fā)鉻而得到鉻蒸汽。也可通過(guò)從陰極上發(fā)散出鉻顆粒而得到鉻蒸汽，例如在陰極弧一等離子體離子鍍或?yàn)R射方法所進(jìn)行的那樣。當(dāng)產(chǎn)生汽相的等離子體時(shí)，其中氮已與鉻蒸汽混合，鉻被離子化并與氮離子形成鍵合以產(chǎn)生氮化鉻。結(jié)果，在基體表面上形成氮化鉻膜。盡管本發(fā)明以離子鍍方法作為實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明，本發(fā)明并不限于使用離子鍍方法。圖1說(shuō)明了用于本發(fā)明的離子鍍裝置的例子。該裝置包括具有氮?dú)馊肟?2和排氣口23的真空室24。第一靶26和第二靶28置于真空室24中，其中第一靶26與弧電源25的負(fù)極相連接，第二靶28與弧電源27的負(fù)極相連接。金屬鉻已事先放置在第一和第二靶上，其配置為與被處理工件31有不同的距離。與偏壓電源29相連的旋轉(zhuǎn)臺(tái)30也置于真空室24中。工件31置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)30上?，F(xiàn)在描述用該離子鍍裝置在工件31上制備本發(fā)明膜的方法。首先，清潔工件31以去除其表面污物，將該工件充分干燥然后放入離子鍍裝置的真空室中。從排氣口23將真空室抽真空。在真空室抽真空至室內(nèi)壓為1.3×10-3-5×10-3Pa之后，用離子鍍裝置中的加熱器將該真空室加熱，從而使基體放出其所含的氣體。加熱溫度優(yōu)選300-500℃。在真空室內(nèi)壓降至4×10-3Pa時(shí)，將鉻靶作為陰極，并在其表面上產(chǎn)生弧放電以產(chǎn)生鉻發(fā)射物。此時(shí)在工件31上加上偏壓，因而從陰極發(fā)射出的金屬離子以高能量轟擊該基體表面。該方法稱(chēng)作“轟擊清潔”，由此去除了基體表面上的氧化物，并且該表面被活化處理。此時(shí)所加的偏壓優(yōu)選為-700～-900V。之后，降低偏壓，使鉻離子沉積在基體表面，在該過(guò)程中將氮?dú)庖胝婵帐?，并將氮?dú)獯┻^(guò)等離子體以將氮離子化。此時(shí)使氮?dú)獾姆謮簽?.3×10-1-13.3Pa，所加偏壓為0～-100V，以便在基體表面形成離子鍍膜。當(dāng)膜形成時(shí)，因?yàn)榈谝话?6與工件31的距離較短，從第一靶26引出的蒸發(fā)的鉻顆粒以相當(dāng)?shù)偷母怕逝c反應(yīng)氣體的氮分子碰撞；由于同樣原因，氮?dú)夥肿油ㄟ^(guò)等離子體的時(shí)間很短。結(jié)果，不易發(fā)生離子化，并且可以通過(guò)適當(dāng)?shù)剡x擇氣體分壓和上述距離使金屬沉積在工件31上。因?yàn)榈诙?8與工件31間的距離大于第一靶26與工件31間的距離，因此，從第二靶28引出的蒸發(fā)的鉻顆?？梢孕纬蒀r2N的沉積、Cr2N和CrN混合物膜的沉積或CrN的沉積，這取決于所選擇的氣體分壓和與工件31間的距離。換句話說(shuō)，通過(guò)適當(dāng)?shù)剡x擇氣體分壓、將第一靶26置于金屬鉻沉積的距離處而將第二靶置于氮化鉻沉積的距離處，則可以形成具有由金屬鉻和氮化鉻組成的混合組分的膜。還有，通過(guò)合適地設(shè)定流經(jīng)各單獨(dú)靶的弧電流值以及靶與工件間的距離，可以改變金屬鉻組織與氮化鉻組織之間的配合比，并可控制分散的金屬鉻組織的尺寸和面積比?；谔囟▽?shí)施方案來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的作用和效果。用上述方法在SUS440試樣表面上形成各種具有分散的金屬鉻組織的氮化鉻復(fù)合膜。將第一靶與工件間的距離設(shè)定為約50mm，由預(yù)試驗(yàn)結(jié)果證明在該距離處將沉積金屬鉻。也證明了金屬鉻組織的尺寸與弧電流成正比。通過(guò)設(shè)定兩個(gè)弧電流值的比率可以調(diào)整金屬鉻組織的面積比。還有，第二靶與工件間的距離設(shè)定為約200mm。該組成依據(jù)氮分壓而變化。特別地，Cr2N、Cr2N+CrN混合物膜以及CrN隨氮分壓升高而改變。用X射線衍射測(cè)定每種膜的組成，用EPMA測(cè)定金屬鉻組織的尺寸和面積比，用顯微維氏硬度計(jì)測(cè)量膜的硬度。表1說(shuō)明了制備本發(fā)明試樣的條件以及測(cè)量的結(jié)果。為制得對(duì)比試樣，制備現(xiàn)有技術(shù)中公知的氮化鉻膜，并以上述相同方式測(cè)量其性能(對(duì)比例1-3)。也測(cè)量另一組對(duì)比試樣(對(duì)比例4-6)，在該對(duì)比試樣中，金屬鉻組織彌散在氮化鉻膜中但金屬鉻組織的尺寸和面積比是不合適的。表2列出了這些對(duì)比試樣的制備條件以及測(cè)量結(jié)果。表2評(píng)估本發(fā)明材料的抗咬住性。制備由SKD61(JIS，即日本標(biāo)準(zhǔn)，相應(yīng)于ASTMH-13，美國(guó)標(biāo)準(zhǔn))組成的試件5。如圖2和3所示，試件5具有三個(gè)柱狀凸塊10，每個(gè)凸塊的長(zhǎng)5mm，寬5mm，高5mm，這三個(gè)凸塊在同一圓周上等距設(shè)置。通過(guò)在每個(gè)凸塊10的5mm見(jiàn)方的端面上形成20-30μm厚的本發(fā)明膜，用該試件制得試樣。用超高壓磨損試驗(yàn)機(jī)進(jìn)行抗咬住試驗(yàn)。對(duì)用上述方法制得的該實(shí)施例的膜和對(duì)比例的膜進(jìn)行試驗(yàn)。還有，用另一試樣也進(jìn)行類(lèi)似的試驗(yàn)，該試樣是通過(guò)在試件5mm見(jiàn)方的端面上形成100μm厚電鍍膜而制得的(對(duì)比例7)。用于該試驗(yàn)中的該超高壓磨損試驗(yàn)機(jī)的配置及試驗(yàn)條件如下圖2和圖3圖示說(shuō)明了試驗(yàn)裝置，其中圖3是沿圖2中A-A線的截面圖。磨盤(pán)2可拆式地安裝在定子夾具1中，該磨盤(pán)是與試樣摩擦接觸的關(guān)聯(lián)部分，它的直徑為80mm厚度為10mm。通過(guò)潤(rùn)滑通道3從與試樣5相對(duì)的一側(cè)，將潤(rùn)滑油引入該磨盤(pán)2的中心。結(jié)構(gòu)是這樣的，即用液壓傳動(dòng)裝置(未示出)從右側(cè)以預(yù)定壓力將力P施加到定子夾具1上。轉(zhuǎn)子4與磨盤(pán)2相對(duì)，并由驅(qū)動(dòng)裝置(未示出)以預(yù)定速度旋轉(zhuǎn)。試件5以這樣的方式與轉(zhuǎn)子4連接，就是使凸塊10的5mm見(jiàn)方的端面可以頂著作為滑動(dòng)表面的磨盤(pán)2而自由地滑動(dòng)，在該凸塊10的端面上已形成了表面處理涂層。將預(yù)定壓力P施加到定子夾具1上，使試件5上的柱狀凸塊10以預(yù)定的表面壓力與之接觸，使定子4旋轉(zhuǎn)，與此同時(shí)，以預(yù)定潤(rùn)滑速率從潤(rùn)滑通道3供油使滑動(dòng)表面潤(rùn)滑。在固定時(shí)間間隔內(nèi)，增加作用于定子夾具1上的力，將定子夾具1產(chǎn)生的扭矩T通過(guò)不銹鈉纖維6作用在測(cè)壓儀7上，該扭矩T是由于轉(zhuǎn)子4旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致試件5與磨盤(pán)2之間產(chǎn)生摩擦而造成。扭矩T的任何變化均可由動(dòng)態(tài)應(yīng)變檢測(cè)儀8所檢測(cè)出來(lái)并用記錄器9記錄。如果扭矩T突然增加，則認(rèn)為檢測(cè)出發(fā)生了咬住，基于此時(shí)的接觸表面壓力來(lái)判斷咬住性能是否合格。磨盤(pán)2所用的材質(zhì)是鐵，特別是FC250(JIS，即日本標(biāo)準(zhǔn)，相當(dāng)于美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)的ASTMNo.4012)。試驗(yàn)條件如下摩擦速度8m/秒磨盤(pán)FC250接觸表面壓力以20kgf/cm2表面壓力進(jìn)行平滑之后，以10kgf/cm2的增值使壓力增大，直到發(fā)生咬住。在每個(gè)表面壓力數(shù)值下均保持3分鐘。潤(rùn)滑劑#30馬達(dá)油溫度80℃供油率250cc/分鐘測(cè)量結(jié)果列于表3中。表3</tables>對(duì)比FC250制成的磨盤(pán)，本發(fā)明的樣品在281-290kgf/cm2表面壓力出現(xiàn)咬住。這大于對(duì)比試樣的鍍鉻樣品的253kgf/cm2值，而與僅由CrN組成的膜(對(duì)比例3)的值相當(dāng)，說(shuō)明具有優(yōu)異的抗咬住性。雖然金屬鉻組織分散在氮化鉻膜中，當(dāng)金屬鉻組織粗大并且其面積比大時(shí)(對(duì)比例6)，該作用是小的。[耐磨性]用KaKen型耐磨試驗(yàn)機(jī)對(duì)本發(fā)明的材料進(jìn)行磨蝕試驗(yàn)。制備由SKD-6組成的基體材料的試件。每個(gè)試件長(zhǎng)5mm，寬5mm，高20mm，將每個(gè)試件的一個(gè)端面磨成半徑R為6mm的曲面。用上述實(shí)施例的膜和用對(duì)比例的膜將這些試樣的端面涂覆至厚度20-35μm。還有，用另一試樣也進(jìn)行類(lèi)似試驗(yàn)，通過(guò)在上述試件的圓端面上形成100μm厚度的電鍍膜而制得該試樣(對(duì)比例7)。在該試驗(yàn)中，將試樣的表面處理的圓端面與筒形關(guān)聯(lián)部件的外圓部分接觸，其方式為筒形關(guān)聯(lián)部件的曲面與試樣的曲面為線接觸，施加預(yù)定載荷，并以預(yù)定速度旋轉(zhuǎn)該筒形關(guān)聯(lián)部件。在接觸部分滴加固定量的PH調(diào)至2的硫酸水溶液而產(chǎn)生潤(rùn)滑，由此產(chǎn)生酸性氣氛。試驗(yàn)條件筒材質(zhì)FC250摩擦速度0.25m/秒摩擦?xí)r間6小時(shí)接觸載荷4kg氣氛以1.5cc/分速率將PH調(diào)至2的硫酸水溶液滴加在滑動(dòng)部分。測(cè)得的膜磨損量的結(jié)果列于表4。表4</tables>*將鍍鉻樣品的磨損量值定為100的相對(duì)值。結(jié)果以相對(duì)值表示，將鍍鉻膜的磨損值定為100。本發(fā)明的樣品的磨損值降至了對(duì)比例的鍍鉻樣品磨損值的1/20-1/25。本發(fā)明樣品的磨損量相當(dāng)于僅由CrN組成的膜(對(duì)比例3)的磨損量，其耐磨性是突出的。雖然金屬鉻組織分散在氮化鉻膜中，當(dāng)金屬鉻組織粗大且其面積比大時(shí)(對(duì)比例6)，其作用是小的。[抗剝落性]用輥式疲勞試驗(yàn)機(jī)(輥式前后顛波試驗(yàn)機(jī))評(píng)估本發(fā)明的膜涂覆件的抗剝落性，輥式疲勞試驗(yàn)機(jī)是利用滑動(dòng)式的。試件的基體材質(zhì)是滲碳的SCM420(JIS，鉻鉬鋼)，形狀是輥式，其尺寸為直徑26mm，長(zhǎng)28mm。將本發(fā)明的膜和對(duì)比例的膜鍍覆到該輥的外圓表面上，厚度約為50μm。通過(guò)調(diào)整鍍覆時(shí)間使各種膜的厚度均勻。該前后顛波試驗(yàn)機(jī)的配置及該試驗(yàn)所用條件如下圖4圖示說(shuō)明了該試驗(yàn)裝置。該裝置包括一個(gè)試驗(yàn)輥11，該輥上附著有試件13，試件13的直徑為26mm，長(zhǎng)度為28mm，一個(gè)載荷輥，該載荷輥與試驗(yàn)輥11相對(duì)配置。施加預(yù)定壓力。由驅(qū)動(dòng)裝置(未示出)將試驗(yàn)輥11以預(yù)定速度旋轉(zhuǎn)。在該試件13的外圓表面上形成有表面處理的涂層。載荷輥12的直徑為130mm，長(zhǎng)度為18mm，其外圓部分被磨圓成直徑為300mm，因此，當(dāng)用顯微鏡觀察時(shí)，該載荷輥12和試件13變?yōu)辄c(diǎn)接觸。這樣配置使得可施加大的壓力。還有，通過(guò)齒輪(來(lái)示出)該載荷輥12跟著試驗(yàn)輥11旋轉(zhuǎn)，同時(shí)相對(duì)于試驗(yàn)輥11滑動(dòng)。用(U13-U12)/U13表示滑動(dòng)因子，其中U13表示試件13的邊周速度，而U12表示載荷輥12的邊周速度。可以任意地選擇該滑動(dòng)因子。通過(guò)潤(rùn)滑通道(未示出)將潤(rùn)滑油引入載荷輥12和試件13的接觸部分。將預(yù)定壓力加到試件13上，使試件13與接觸輥12以預(yù)定表面壓力相接觸，使載荷輥12旋轉(zhuǎn)，同時(shí)以預(yù)定潤(rùn)滑速率加油使接觸部分潤(rùn)滑，使載荷輥12以預(yù)定滑動(dòng)因子旋轉(zhuǎn)。試驗(yàn)過(guò)程中，非常仔細(xì)地觀察試件表面，用直到在試件表面產(chǎn)生碎片型剝落時(shí)的總轉(zhuǎn)數(shù)，來(lái)判斷抗剝落性是否合格。作為關(guān)聯(lián)部件的載荷輥12由FC250制成。試驗(yàn)條件如下表面壓力[赫茲(hertz)應(yīng)力]160kgf/mm2試件的邊周速率82m/s滑動(dòng)因子20％所用油#30(基油)油的流速1200cc/分油溫80℃測(cè)量結(jié)果列于表5。表5本發(fā)明制備的樣品具有非常優(yōu)于對(duì)比例的硬質(zhì)氮化鉻的樣品的抗剝落性。對(duì)比例4和5說(shuō)明，雖然金屬鉻組織分散在氮化鉻膜中，如果該組織的尺寸太小或表面比太小，也發(fā)生剝落傾向。因此，如上所述，通過(guò)PVD法在基體表面形成復(fù)合膜，本發(fā)明提供了一種滑動(dòng)部件，其耐磨性和抗咬住性?xún)?yōu)于常規(guī)所用的硬質(zhì)膜，并且不易發(fā)生碎落和剝落，其中，該膜的主相或組分是CrN和Cr2N并含有分散的金屬鉻組織。本發(fā)明還提供了一種制備該滑動(dòng)部件的方法。本發(fā)明提供的滑動(dòng)部件非常適于用作滑動(dòng)零件，例如發(fā)動(dòng)機(jī)零件如活塞環(huán)和凸輪頂桿，以及壓縮機(jī)零件如滑塊盤(pán)(shoedisk)。該滑動(dòng)部件也可用于各種切削工具。因?yàn)樵诓幻撾x本發(fā)明的精神和范圍條件下可以作出多種明顯不同的實(shí)施方案，因而應(yīng)理解地是，除了所附權(quán)利要求的定義之外，本發(fā)明并不限這些具體實(shí)施例。權(quán)利要求1.一種滑動(dòng)部件，它包括具有復(fù)合組織的膜和涂覆有該膜的基體，該膜的主相或組分是金屬鉻和氮化鉻，所述金屬鉻分散在所述膜中并具有0.2-5μm尺寸的組織。2.權(quán)利要求1的滑動(dòng)部件，其中在所述膜中的所述氮化鉻具有含由CrN或Cr2N組成的化學(xué)組分和其混合物的組織。3.權(quán)利要求1或2的滑動(dòng)部件，其中在所述膜和所述基體之間介入含鉻的底涂層。4.權(quán)利要求1-3中任一種滑動(dòng)部件，其中所述的滑動(dòng)部件是活塞環(huán)。5.一種滑動(dòng)部件，它涂覆有氮化鉻復(fù)合膜，在該氮化鉻復(fù)合膜中分散有金屬鉻組織，其中所述的分散的金屬鉻組織具有1-20％的面積比，所述面積比表明了所述金屬鉻組織占所述膜總面積的百分比。6.權(quán)利要求5的滑動(dòng)部件，其中在所述膜中的所述氮化鉻具有含由CrN或Cr2N組成的化學(xué)組分和其混合物的組織。7.權(quán)利要求5或6的滑動(dòng)部件，其中在所述膜和所述基體之間介入含鉻的底涂層。8.權(quán)利要求5-7中任一種滑動(dòng)部件，其中所述的滑動(dòng)部件是活塞環(huán)。9.一種制備權(quán)利要求1-8中任一種滑動(dòng)部件的方法，該方法包括用物理汽相沉積方法將由鉻和氮混合物組成的氣相與基體接觸的步驟，由此在所述基體上形成所述的膜。全文摘要本發(fā)明公開(kāi)了一種耐磨并抗咬住的滑動(dòng)部件，它具有主相或組分是CrN和Cr文檔編號(hào)C23C14/06GK1154420SQ9611210公開(kāi)日1997年7月16日申請(qǐng)日期1996年7月25日優(yōu)先權(quán)日1995年7月25日發(fā)明者小室壽朗申請(qǐng)人:株式會(huì)社理研