專利名稱：軸瓦減摩層真空鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及鍍膜機(jī)技術(shù)。
近年來，對高負(fù)荷的發(fā)動機(jī)不僅要求其滑動軸承(軸瓦)具有盡可能高的承載能力，而且要求其能對各種惡劣的工作情況具有良好的適應(yīng)能力。為此，人們一方面選用高承載強(qiáng)度的合金作為軸瓦材料；另一方面還在軸瓦的工作表面鍍覆一層軟的減摩合金層，如鋁錫二元合金，鋁錫銅三元合金等。目前國內(nèi)凡制造具有減摩層的軸瓦，均采用電鍍工藝設(shè)備鍍覆，但電鍍不僅造成工人的勞動環(huán)境差，還嚴(yán)重污染周圍的環(huán)境，加之用電鍍工藝設(shè)備鍍覆的減摩層，性能并不很理想。
本實用新型的目的是，提供一種在真空條件下，采用磁控濺射法新工藝，在軸瓦工作面上鍍覆減摩層的軸瓦減摩層真空鍍膜機(jī)。
本實用新型的工作原理是，在真空條件下，采用磁控濺射法鍍膜技術(shù)。
以下結(jié)合附圖，對本實用新型作詳細(xì)說明。
附圖1是本實用新型整機(jī)的結(jié)構(gòu)框圖；附圖2是本實用新型軸瓦減摩層真空鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)圖。
本實用新型的整機(jī)結(jié)構(gòu)框圖，如圖1所示是由軸瓦減摩層真空鍍膜機(jī)，真空抽、放氣系統(tǒng)，真空測量系統(tǒng)，配氣系統(tǒng)，機(jī)械傳動系統(tǒng)，電源及控制系統(tǒng)，溫控系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)以及操作系統(tǒng)組成。
本實用新型軸瓦減摩層真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)如附圖2所示在扁園形的真空室(1)的室壁(14)處，裝有法蘭(16)，在法蘭(16)上裝有密封圈(15)，在真空室(1)內(nèi)的長對稱軸位置上，安有2～5個旋轉(zhuǎn)磁控靶(7)，磁控靶(7)的外圈是靶材料(8)；主動輪(2)、從動輪(9)安裝在長軸位置兩端的對稱處，其上支撐著傳動鏈(3)，軸瓦架(4)緊固在傳動鏈(3)上；每個軸瓦架(4)上都裝有壓板(12)；等離子體處理電極(10)安裝在從動輪(9)的中心位置，通過密封結(jié)構(gòu)和絕緣體(11)固定在真空室(1)的后門上，不接觸從動輪(9)；真空規(guī)管(6)裝在真空室(1)的頂上，進(jìn)氣管(5)從真空室(1)的頂部伸入真空室(1)內(nèi)，其出氣口裝在磁控靶(7)的正上方，且進(jìn)氣管(5)的出氣口與磁控靶(7)的數(shù)目一致；在真空室(1)的下方開有抽氣口(13)。
本實用新型工作時，先將待鍍膜的軸瓦，經(jīng)常規(guī)的除污去油，清洗干燥后，放置在本實用新型的軸瓦架(4)上，并用壓板(12)將其夾牢，關(guān)上真空室的門，啟動真空抽氣系統(tǒng)，使真空室內(nèi)的本體真空度至少達(dá)到1.33×10-3Pa；再送入工作氣體，啟動傳動裝置，使軸瓦隨著軸瓦架(4)和傳動鏈(3)一同做單方向運(yùn)動；經(jīng)過約10分鐘的等離子體處理后，進(jìn)行鍍膜處理；當(dāng)鍍膜厚度達(dá)到要求時，磁控靶停止工作。放氣后，打開真空室(1)，取出加工好的軸瓦。
用本實用新型鍍覆的軸瓦減摩層，在性能上優(yōu)于電鍍法制造的軸瓦減摩層，所鍍覆的膜層致密，無雜質(zhì)，與基底結(jié)合力強(qiáng)，耐疲勞強(qiáng)度等級更高，完全克服了電鍍時形成的惡劣的工作環(huán)境以及對周圍環(huán)境的嚴(yán)重污染，是理想的軸瓦減摩層鍍膜機(jī)。


1、真空室；2、主動輪；3、傳動鍵；4、軸瓦架；5、進(jìn)氣管；6、真空規(guī)管；7、磁控靶；8、靶材；9、從動輪；10、電極；11、絕緣體；12、壓板；13、抽氣口；14、室壁；15、密封圈；16、法蘭。
權(quán)利要求1．一種軸瓦減摩層真空鍍膜機(jī)，其特征是，在扁園形的真空室(1)的室壁(14)處，裝有法蘭(16)，在法蘭(16)上裝有密封圈(15)；在真空室(1)內(nèi)的長對稱軸位置上，安有2～5個旋轉(zhuǎn)磁控靶(7)，磁控靶(7)的外圈是靶材料(8)；主動輪(2)、從動輪(9)安裝在長軸位置兩端的對稱處，其上支撐著傳動鏈(3)，軸瓦架(4)緊固在傳動鏈(3)上；每個軸瓦架(4)上都裝有壓板(12)；等離子體處理電極(10)安裝在從動輪(9)的中心位置，通過密封結(jié)構(gòu)和絕緣體(11)固定在真空室(1)的后門上，不接觸從動輪(9)；真空規(guī)管(6)裝在真空室(1)的頂上；進(jìn)氣管(5)從真空室(1)的頂部伸入真空室(1)內(nèi)，其出氣口裝在磁控靶(7)的正上方，且進(jìn)氣管(5)的出氣口與磁控靶(7)的數(shù)目一致；在真空室(1)的下方開有抽氣口(13)。
專利摘要本實用新型公開了一種軸瓦減摩層真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu):在扁圓形真空室內(nèi)安有旋轉(zhuǎn)磁控靶,其外圈是靶材料;真空室內(nèi)還裝有主、從動輪,其上支撐著傳動鏈,軸瓦架緊固在傳動鏈上;等離子體處理電極安裝在從動輪的中心;真空規(guī)管裝在真空室頂上,進(jìn)氣管從真空室頂部伸入其內(nèi),用本實用新型鍍覆的軸瓦減摩層,膜層致密、無雜質(zhì),與基底結(jié)合力強(qiáng),耐疲勞強(qiáng)度等級更高,完全克服了電鍍時形成的惡劣的工作環(huán)境及對環(huán)境的污染。
文檔編號C23C14/35GK2317235SQ9724749
公開日1999年5月5日 申請日期1997年10月11日 優(yōu)先權(quán)日1997年10月11日
發(fā)明者史義才 申請人:中國科學(xué)院等離子體物理研究所