專利名稱：用于氣相沉積的自動化鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于氣相沉積的自動化真空鍍膜裝置目前國內(nèi)外用于氣相沉積的真空鍍膜裝置大多采用鐘罩式上蓋，為了打開真空室，必須先把鐘罩向上升起，然后轉(zhuǎn)向旁邊，如果用于大型設(shè)備，則需復(fù)雜龐大的向上推舉裝置，且轉(zhuǎn)向旁邊后，還要占用同樣大小的廠房空間。加熱裝置多采用單相電源，容量大時，造成電網(wǎng)的三相不平衡。手工操作，無法保正鍍膜質(zhì)量，難以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)，故穩(wěn)定性差，重復(fù)性不好。
本實(shí)用新型的目的是提供一種能附加電腦控制，產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)，簡化設(shè)備裝置，節(jié)約用地，使產(chǎn)品質(zhì)量優(yōu)良穩(wěn)定的自動化真空鍍膜裝置。
一種用于氣相沉積的自動化真空鍍膜裝置，其特征在于真空室安裝于真空室支架[14]上，其外殼由上蓋[9]和底殼[15]構(gòu)成，上蓋與底殼周邊分別有一圈上蓋法蘭[11]和空心的水冷發(fā)蘭[13]，發(fā)蘭之間為密封圈[12]，上蓋一側(cè)焊有固定在減速機(jī)轉(zhuǎn)動軸[2]上的轉(zhuǎn)動臂[3]，減速機(jī)[1]在真空室一側(cè)固定在真空室支架上，上蓋頂部有放氣孔[7]，內(nèi)有上電極支架[8]固定上電極[5]，上電極通過導(dǎo)線連接上蓋上的高頻插座[4]，上蓋上還焊有工作氣導(dǎo)管[10]，底殼中心處安置抽氣孔[18]，其周圍稍對稱的裝有真空規(guī)[16]和電源插座[20]，其上部固定下電極支架[17]，下電極支架上以序分別裝置遠(yuǎn)紅外平板加熱器[19]，與外殼接地的下電極[21]，絕緣層[22]，導(dǎo)熱板[23]，導(dǎo)熱板上有傳感溫度的熱電偶[24]，遠(yuǎn)紅外平板加熱器用導(dǎo)線連接到電源插座[20]上。
本實(shí)用新型的工作原理簡述如下，工件置于導(dǎo)熱板上后，蓋上上蓋，水冷發(fā)蘭通水，循環(huán)水保證了密封圈不因真空室高溫而老化，外接真空泵通過抽氣孔抽氣，維持真空室內(nèi)的真空。圓盤形上電極通過上電極支架固定在真空室上蓋上，而下電極與固定支架之間裝有遠(yuǎn)紅外平板加熱器。氣源導(dǎo)入管把外界氣源導(dǎo)入真空室內(nèi)。外接高頻電源通過高頻插座連接到上電極和下電極上，尊照等離子體化學(xué)的原理，真空室內(nèi)的工作氣體通過高頻作用下輝光放電，在金屬工件表面氣相沉積陶瓷薄膜，在陶瓷滲入(擴(kuò)散)金屬表面的同時，金屬離子也向薄膜內(nèi)部滲透，通過雙向擴(kuò)散，形成金屬陶瓷復(fù)合薄膜，為加速沉積過程，通過遠(yuǎn)紅外平板加熱器對工件加熱，為保證加熱的均勻穩(wěn)定，工件放在導(dǎo)熱板上，導(dǎo)熱板與被加熱的下電極之間由絕緣板隔開，溫度傳感器由熱電偶組成，外接電腦自控系統(tǒng)，按照檢測到的實(shí)際溫度通過加熱電源調(diào)節(jié)遠(yuǎn)紅外平板加熱器的加熱能量，保證不同材質(zhì)沉積所需溫度。根據(jù)真空規(guī)檢測的真空度，調(diào)節(jié)外接輔助氣源，保證特定工件所需工作氣的密度，外接氣源的配比，決定陶瓷薄膜的成分，各參量的綜合監(jiān)控，保證工件所要求的鍍膜效果。當(dāng)加工完成后，通過接在放氣孔的放氣閥放氣，啟動減速機(jī)，真空室上蓋將向上轉(zhuǎn)動而升起，打開真空室，真空室打開后上蓋在轉(zhuǎn)動軸上方，避免了把上蓋轉(zhuǎn)向旁邊占用廠房空間，而且節(jié)省掉了使上蓋旋轉(zhuǎn)前先上升所需的復(fù)雜推舉裝置，降低了設(shè)備成本。采用遠(yuǎn)紅外平板加熱系統(tǒng)，熱效率高，并且加熱均勻穩(wěn)定，三相平衡接法，消除了單相不平衡的電網(wǎng)負(fù)擔(dān)，提高電源穩(wěn)定性，真空室密封圈下用水冷法蘭避免老化。工件放在絕緣的導(dǎo)熱板上，加熱均勻穩(wěn)定。整個鍍膜全過程在電腦控制下自動化運(yùn)行，加以方便的漢字操作界面，便于工業(yè)化生產(chǎn)。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，占用空間少，產(chǎn)品質(zhì)量高，性能穩(wěn)定，經(jīng)濟(jì)效益顯著，便于工業(yè)化自動化規(guī)?；a(chǎn)。
附圖
為自動化真空鍍膜裝置的示意圖。其中，1-減速機(jī)，2-轉(zhuǎn)動軸，3-轉(zhuǎn)動臂，4-高頻插座，5-上電極，6-工件，7-放氣孔，8-上電極支架，9-上蓋，10-工作氣導(dǎo)管，11-上蓋法蘭，12-密封圈，13-水冷法蘭，14-真空室支架，15-底殼，16-真空規(guī)，17-下電極支架，18-抽氣孔，19-遠(yuǎn)紅外平板加熱器，20-加熱電源插座，21-下電極，22-絕緣層，23-導(dǎo)熱板，24-熱電偶。
本實(shí)用新型的實(shí)施是用鋼板加工成圓球形上蓋與底殼，并在相應(yīng)位置開孔，焊接安裝轉(zhuǎn)動臂，高頻插座，上電極支架與上電極放氣孔，工作氣導(dǎo)管與上蓋部分，熱電偶，加熱電源插座，抽氣孔，真空規(guī)于底殼表面處。在內(nèi)部固定下電極支架，并在其上依序分別安裝遠(yuǎn)紅外平板加熱器，下電極，絕緣層與導(dǎo)熱板，導(dǎo)熱板上安裝熱電偶，上蓋與底殼周邊分別焊上法蘭，法蘭之間置上密封圈，真空室與其旁的減速機(jī)同時安放在角鋼焊接的真空室支架上，減速機(jī)之軸與轉(zhuǎn)動軸相接。
權(quán)利要求一種用于氣相沉積的自動化真空鍍膜裝置，其特征在于真空室安裝于真空室支架[14]上，其外殼由上蓋[9]和底殼[15]構(gòu)成，法蘭之間為密封圈[12]，上蓋一側(cè)焊有固定在減速機(jī)轉(zhuǎn)動軸[2]上的轉(zhuǎn)動臂[3]，減速機(jī)[1]在真空室一側(cè)固定在真空室支架上，上上蓋與底殼周邊分別有一圈上蓋法蘭[11]和空心的水冷法蘭[13]，蓋頂部有放氣孔[7]，內(nèi)有上電極支架[8]固定上電極[5]，上電極通過導(dǎo)線連接上蓋上的高頻插座[4]，上蓋上還焊有工作氣導(dǎo)管[10]，底殼中心處安置抽氣孔[18]，其周圍稍對稱的裝有真空規(guī)[16]和電源插座[20]，其上部固定下電極支架[17]，下電極支架上以序分別裝置遠(yuǎn)紅外平板加熱器[19]，與外殼接地的下電極[21]，絕緣層[22]，導(dǎo)熱板[23]，導(dǎo)熱板上有傳感溫度的熱電偶[24]，遠(yuǎn)紅外平板加熱器用導(dǎo)線連接到電源插座[20]上。
專利摘要本實(shí)用新型用于氣相沉積的自動化真空鍍膜裝置屬機(jī)電自動化真空鍍膜裝置。它由裝有轉(zhuǎn)動臂,高頻插座,上電極支架與上電極,放氣孔,工作氣導(dǎo)管的上蓋,表面裝有熱電偶,加熱電源插座,抽氣孔,真空規(guī),內(nèi)部固定下電極支架,并依序裝有遠(yuǎn)紅外平板加熱器,下電極,絕緣層與導(dǎo)熱板的底殼與減速機(jī)組成。它結(jié)構(gòu)簡單,操作方便,占用空間少,產(chǎn)品質(zhì)量好,性能穩(wěn)定,經(jīng)濟(jì)效益顯著,便于工業(yè)化自動化規(guī)模化生產(chǎn)。
文檔編號C23C16/50GK2360422SQ9822252
公開日2000年1月26日 申請日期1998年10月6日 優(yōu)先權(quán)日1998年10月6日
發(fā)明者安德祥 申請人:安德祥