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      一種堿性蝕刻廢液回收再生裝置的制造方法

      文檔序號(hào):8408007閱讀:265來源:國知局
      一種堿性蝕刻廢液回收再生裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及PCB板工業(yè)廢水處理領(lǐng)域,具體涉及一種堿性蝕刻廢液回收再生裝置,特別設(shè)計(jì)一種利用電解法回收再生堿性蝕刻廢液的裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]印制電路板在電子信息產(chǎn)業(yè)鏈中起著承上啟下至關(guān)重要的作用。集成電路離不開印制電路板板,軍事民用、高科技電子產(chǎn)品少不了印制電路板板,印制電路板板是電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)。但是,和其他所有行業(yè)一樣,印制板產(chǎn)業(yè)面臨發(fā)展與資源、發(fā)展與環(huán)境的矛盾。一方面印制板生產(chǎn)中要消耗大量的覆銅板,每年消耗的銅占全國總消耗的三成;另一方面,在生產(chǎn)線蝕刻過程中,基材覆銅板50-60%以上的銅要被蝕刻掉,產(chǎn)生大量的高濃度富含銅的廢蝕刻液,一旦外排,會(huì)嚴(yán)重污染環(huán)境,一直以來被人們當(dāng)作重污染行業(yè)來對(duì)待。
      [0003]其中,堿性蝕刻廢液含有銅離子、C1_、NH3、NH4+等物質(zhì)。研究表明每噸蝕刻廢液中含Cl_250kg以上、銅離子120kg以上、NH3-NH4+80kg左右及其他各種有價(jià)離子,平均每生產(chǎn)Im2的PCB板會(huì)產(chǎn)生2.5L左右的廢蝕刻液。因此,如若處置不當(dāng),容易造成嚴(yán)重的資源浪費(fèi)和環(huán)境污染。有研究表明,IL未經(jīng)處理的堿性蝕刻廢液可以污染100噸以上的水。
      [0004]目前堿性含銅蝕刻廢液處理的方法主要分為化學(xué)法和電解法。其中化學(xué)法包括酸化法、堿化法和萃取法等。采用酸性法可以回收銅,但消耗化學(xué)品較多,能耗大,而且產(chǎn)生難處理的廢水,廢水中Cu離子濃度超標(biāo),廢液中的大量氨也難以降解,需要花大量的成本進(jìn)行再處理。普通的電解法多為萃取反萃取電解法,采用此方法難以避免一部分萃取劑進(jìn)入蝕刻液中,影響蝕刻的效果,時(shí)間稍長甚至破壞蝕刻液,導(dǎo)致蝕刻液必須完全更換。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處,提供一種通過直接電解回收再生堿性蝕刻廢液裝置,該裝置在不破壞蝕刻液的同時(shí),又可高效回收銅。
      [0006]本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的:
      [0007]—種堿性蝕刻廢液回收再生裝置,包括依次連接的蝕刻廢液智能存儲(chǔ)缸、離子膜電解槽、再生液中轉(zhuǎn)缸、配液槽、再生子液存儲(chǔ)槽以及過濾槽,所述智能存儲(chǔ)缸設(shè)置有液位感應(yīng)器、液位報(bào)警器以及攪拌馬達(dá),所述離子膜電解槽還連接有循環(huán)冷卻槽,所述配液槽還連接有添加槽,所述添加槽包括分別與配液槽連通的液氨補(bǔ)給槽、氯化氨補(bǔ)給槽以及添加劑補(bǔ)給槽,所述過濾裝槽設(shè)置有再生液排出口。
      [0008]上述方案中,各組成部分實(shí)現(xiàn)的功能如下:
      [0009]蝕刻廢液智能存儲(chǔ)缸,存儲(chǔ)來自蝕刻生產(chǎn)線產(chǎn)生的廢液。其中:
      [0010]液位感應(yīng)器,其作用是用于感應(yīng)堿性蝕刻廢液的液位高低;
      [0011]液位報(bào)警器,其作用是起警示,當(dāng)堿性蝕刻廢液液位觸及液位感應(yīng)器時(shí),液位報(bào)警器發(fā)出警報(bào),提醒作業(yè)人員儲(chǔ)存罐的液位已達(dá)最高警戒位置,需停止加液;
      [0012]攪拌馬達(dá),起攪拌作用,預(yù)防產(chǎn)生沉淀堵塞管路。
      [0013]離子膜電解槽,將蝕刻廢液中影響蝕刻效果成分的銅進(jìn)行分離,直接電解成銅板進(jìn)行回收;而將剩余液作為蝕刻液再生的基礎(chǔ)。
      [0014]再生液中轉(zhuǎn)缸,存儲(chǔ)從離子膜電解槽電解產(chǎn)生的蝕刻再生液基礎(chǔ)液。
      [0015]添加槽,提供配備再生液其他所需的物質(zhì),如液氨、氯化氨以及添加劑。
      [0016]配液槽,提供配備再生液的場所。
      [0017]再生子液存儲(chǔ)槽,存儲(chǔ)經(jīng)配液槽配置成功的再生子液。
      [0018]過濾槽,將再生子液中的雜質(zhì)進(jìn)行過濾后,輸出蝕刻新液至蝕刻設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn)使用。
      [0019]循環(huán)冷卻槽,對(duì)電解槽電解的高溫蝕刻廢液進(jìn)行適當(dāng)冷卻,提高電解效果。
      [0020]具體的,所述離子膜電解槽包括被離子膜分割的陰極室和陽極室,所述陽極室內(nèi)設(shè)置有純鈦板作為陽極,陰極室設(shè)置有純銅板作為陰極。
      [0021]作為改進(jìn)技術(shù)方案,所述離子膜電解槽還包括:
      [0022]溫控器,監(jiān)控所述離子膜電解槽的工作溫度,預(yù)防過高損壞設(shè)備,過低電解效率低的問題;
      [0023]升降機(jī),當(dāng)所述銅板上的單質(zhì)銅的重量過重時(shí)時(shí),調(diào)出銅板,換上新銅板。
      [0024]本發(fā)明相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)及有益效果:
      [0025](I)本發(fā)明通過直接電解回收再生堿性蝕刻廢液裝置,該裝置在不破壞蝕刻液的同時(shí),又可高效回收銅;
      [0026](2)本發(fā)明通過設(shè)置蝕刻廢液智能存儲(chǔ)缸,提高蝕刻廢液存儲(chǔ)及輸送的智能化水平;
      [0027](3)本發(fā)明通過循環(huán)冷卻槽為參與電解的蝕刻廢液進(jìn)行循環(huán)降溫,從而提高電解能力;
      [0028](4)本發(fā)明的離子膜電解槽通過設(shè)置溫控器,監(jiān)控槽內(nèi)的工作溫度,預(yù)防過高損壞設(shè)備,過低電解效率低的問題;
      [0029](5)本發(fā)明利用升降機(jī)取出銅板上沉積的較高重量的銅,提高了工作效率。
      【附圖說明】
      [0030]圖1為本實(shí)施例結(jié)構(gòu)框圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0031]下面結(jié)合實(shí)施例及附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的描述,但本發(fā)明創(chuàng)造的實(shí)施方式不限于此。
      [0032]實(shí)施例
      [0033]如圖1所示,本實(shí)施例提供了一種堿性蝕刻廢液回收再生裝置,包括依次連接的蝕刻廢液智能存儲(chǔ)缸、離子膜電解槽、再生液中轉(zhuǎn)缸、配液槽、再生子液存儲(chǔ)槽以及過濾槽,智能存儲(chǔ)缸設(shè)置有液位感應(yīng)器、液位報(bào)警器以及攪拌馬達(dá),離子膜電解槽還連接有循環(huán)冷卻槽,配液槽還連接有添加槽,添加槽包括分別與配液槽連通的液氨補(bǔ)給槽、氯化氨補(bǔ)給槽以及添加劑補(bǔ)給槽,過濾裝槽設(shè)置有再生液排出口。
      [0034]另外,離子膜電解槽包括被離子膜分割的陰極室和陽極室,陽極室內(nèi)設(shè)置有純鈦板作為陽極,陰極室設(shè)置有純銅板作為陰極。
      [0035]離子膜電解槽還包括溫控器和升降機(jī)。
      [0036]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并不能因此而理解為對(duì)本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此,本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種堿性蝕刻廢液回收再生裝置,其特征在于:包括依次連接的蝕刻廢液智能存儲(chǔ)缸、離子膜電解槽、再生液中轉(zhuǎn)缸、配液槽、再生子液存儲(chǔ)槽以及過濾槽,所述智能存儲(chǔ)缸設(shè)置有液位感應(yīng)器、液位報(bào)警器以及攪拌馬達(dá),所述離子膜電解槽還連接有循環(huán)冷卻槽,所述配液槽還連接有添加槽,所述添加槽包括分別與配液槽連通的液氨補(bǔ)給槽、氯化氨補(bǔ)給槽以及添加劑補(bǔ)給槽,所述過濾裝槽設(shè)置有再生液排出口。
      2.根據(jù)權(quán)利要求2所述的堿性蝕刻廢液回收再生裝置,其特征在于:所述離子膜電解槽包括被離子膜分割的陰極室和陽極室,所述陽極室內(nèi)設(shè)置有純鈦板作為陽極,陰極室設(shè)置有純銅板作為陰極。
      3.根據(jù)權(quán)利要求3所述的堿性蝕刻廢液回收再生裝置,其特征在于:所述離子膜電解槽還包括溫控器和升降機(jī)。
      【專利摘要】本發(fā)明提供了一種堿性蝕刻廢液回收再生裝置,包括依次連接的蝕刻廢液智能存儲(chǔ)缸、離子膜電解槽、再生液中轉(zhuǎn)缸、配液槽、再生子液存儲(chǔ)槽以及過濾槽,所述智能存儲(chǔ)缸設(shè)置有液位感應(yīng)器、液位報(bào)警器以及攪拌馬達(dá),所述離子膜電解槽還連接有循環(huán)冷卻槽,所述配液槽還連接有添加槽,所述添加槽包括分別與配液槽連通的液氨補(bǔ)給槽、氯化氨補(bǔ)給槽以及添加劑補(bǔ)給槽,所述過濾裝槽設(shè)置有再生液排出口。本發(fā)明通過直接電解回收再生堿性蝕刻廢液裝置,該裝置在不破壞蝕刻液的同時(shí),又可高效回收銅。
      【IPC分類】C25C1-12, C25C7-00, C23F1-46
      【公開號(hào)】CN104726865
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201310724283
      【發(fā)明人】張逸
      【申請(qǐng)人】張逸
      【公開日】2015年6月24日
      【申請(qǐng)日】2013年12月24日
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