拋光用磨皮及采用此磨皮的微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及拋光技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種拋光用磨皮及采用此磨皮的微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法。
【背景技術(shù)】
[0002]陶瓷具有很好的耐磨性，硬度僅次于金剛石達(dá)到莫氏9級(jí)，同時(shí)陶瓷致密性使其具有比鋼化玻璃更強(qiáng)的強(qiáng)度，上述兩個(gè)特性十分適用于高端手表、手機(jī)及其他電子產(chǎn)品的按鍵等。因此，采用更加環(huán)保的陶瓷，取代傳統(tǒng)的塑料，鋼化玻璃材料作為電子產(chǎn)品的按鍵，逐漸由概念變?yōu)楝F(xiàn)實(shí)。
[0003]微小陶瓷產(chǎn)品因?yàn)楫a(chǎn)品細(xì)小，普通拋光技術(shù)難度大，產(chǎn)能低，如直徑3?8mm，厚度
0.3?1.0mm的手表按鍵。
[0004]為了滿足高端微小陶瓷產(chǎn)品器件發(fā)展的要求，獲得高光亮，低粗糙度的弧面，須對(duì)陶瓷進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光，現(xiàn)有技術(shù)中，采用的是磨皮和拋光液的結(jié)合，現(xiàn)有的磨皮均只能實(shí)現(xiàn)平面拋光，且其采用的工藝是:分兩個(gè)工序?qū)崿F(xiàn)，即先通過(guò)粗拋工序去除10?40微米，再通過(guò)精拋工序以達(dá)到表面粗糙度5納米以下，工藝復(fù)雜。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的第一目的在于提供一種拋光用磨皮，具體技術(shù)方案如下:
[0006]一種拋光用磨皮，包括由遠(yuǎn)離待加工產(chǎn)品至靠近待加工產(chǎn)品依次設(shè)置的第一層、第二層以及第三層，所述第一層的材質(zhì)為海綿，所述第二層的材質(zhì)為粘合膠，所述第三層的材質(zhì)為樹(shù)脂。
[0007]以上技術(shù)方案中優(yōu)選的，所述第一層的厚度為2.0-4.0毫米，其壓縮率為10% -30%,其壓縮彈性為70% -95%。
[0008]以上技術(shù)方案中優(yōu)選的，所述第三層的材質(zhì)為聚氨酯，其厚度為1.0-2.0毫米，其硬度為50-80度。
[0009]以上技術(shù)方案中優(yōu)選的，所述第二層的厚度為30?200微米；所述粘合膠為亞克力粘膠。
[0010]應(yīng)用本發(fā)明的拋光用磨皮，具有以下有益效果:
[0011](I)本發(fā)明拋光用磨皮包括由下至上設(shè)置的第一層、第二層以及第三層，所述第一層的材質(zhì)為海綿，所述第二層的材質(zhì)為粘合膠，所述第三層的材質(zhì)為樹(shù)脂，整體結(jié)構(gòu)精簡(jiǎn)，生產(chǎn)方便；拋光用磨皮采用海綿和樹(shù)脂的結(jié)合，使得拋光用磨皮在拋光過(guò)程中能根據(jù)待加工產(chǎn)品的弧面的形狀進(jìn)行變形，實(shí)現(xiàn)全局弧面化無(wú)損傷拋光，實(shí)用性強(qiáng)。
[0012](2)本發(fā)明中所述第一層的厚度為2.0-4.0毫米，其壓縮率為10% _30%，其壓縮彈性為70% -95%，能滿足現(xiàn)實(shí)工藝中拋光過(guò)程中變形的需求。
[0013](3)本發(fā)明中所述第三層的材質(zhì)為聚氨酯，其厚度為1.0-2.0毫米，其硬度為50-80度，拋光過(guò)程中，結(jié)合第一層的變形能很好地配合待加工產(chǎn)品的弧面變形，實(shí)現(xiàn)全局弧面化無(wú)損傷拋光。
[0014](4)本發(fā)明中所述第二層的厚度為30?200微米，所述粘合膠為亞克力粘膠，能很好地將第一層和第三層進(jìn)行固定，且實(shí)現(xiàn)很好地變形。
[0015]本發(fā)明的第二目的在于提供一種采用上述拋光用磨皮的微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法，包括以下步驟:
[0016]第一步:將所述拋光用磨皮固定在拋光機(jī)的下拋光盤上；將直徑為3?60毫米且加工面為弧面的待加工微小陶瓷產(chǎn)品成批貼在陶瓷盤上，并將貼有待加工微小陶瓷產(chǎn)品的陶瓷盤固定在拋光機(jī)的壓頭里，所述待加工微小陶瓷產(chǎn)品的加工面位于所述拋光用磨皮的正上方；
[0017]第二步:設(shè)置拋光機(jī)的壓頭的壓力為50?170千克力；注入拋光液使得拋光液在所述拋光用磨皮的上表面上流動(dòng)；
[0018]第三步:啟動(dòng)拋光機(jī)的開(kāi)關(guān)，采用所述拋光用磨皮配合拋光液對(duì)待加工微小陶瓷產(chǎn)品進(jìn)行拋光，獲得微小陶瓷產(chǎn)品。
[0019]以上技術(shù)方案中優(yōu)選的，所述拋光液為含有二氧化硅微粒的拋光液，其中二氧化硅微粒的直徑為30?100納米，其流量為2-10升每分鐘。
[0020]以上技術(shù)方案中優(yōu)選的，所述拋光盤的轉(zhuǎn)速為30?50轉(zhuǎn)每分鐘；所述拋光機(jī)為4頭拋光機(jī)。
[0021]應(yīng)用本發(fā)明的微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法，具有以下有益效果:(I)本發(fā)明的工藝精簡(jiǎn)，生產(chǎn)周期短；(2)結(jié)合機(jī)械磨削和化學(xué)腐蝕技術(shù)，采用精準(zhǔn)的壓力控制，實(shí)現(xiàn)全局弧面化超光滑納米級(jí)無(wú)損傷精密拋光，能實(shí)現(xiàn)陶瓷產(chǎn)品15?50微米的去除量，一次性合格率大于90%，表面粗糙度達(dá)到5納米以下；(3)拋光液采用含有二氧化硅微粒的拋光液，其中二氧化硅微粒的直徑為30?100納米，拋光液容易獲得，成本低；(4)拋光盤的轉(zhuǎn)速為30?50轉(zhuǎn)每分鐘，拋光機(jī)為4頭拋光機(jī)，工藝參數(shù)容易控制，設(shè)備容易獲得，實(shí)用性強(qiáng)。
[0022]除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)之外，本發(fā)明還有其它的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)。下面將參照?qǐng)D，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
【附圖說(shuō)明】
[0023]構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分的附圖用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0024]圖1是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例1的拋光用磨皮的整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖2是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例2中拋光過(guò)程中拋光用磨皮與待加工微小陶瓷產(chǎn)品接觸處的局部結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]1-拋光用磨皮，11-第一層，12-第二層，13-第三層，2_待加工微小陶瓷產(chǎn)品。
【具體實(shí)施方式】
[0027]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但是本發(fā)明可以根據(jù)權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。
[0028]實(shí)施例1:
[0029]一種拋光用磨皮1，其結(jié)構(gòu)詳見(jiàn)圖1，包括使用時(shí)由遠(yuǎn)離待加工產(chǎn)品(待加工微小陶瓷產(chǎn)品)至靠近待加工產(chǎn)品(待加工微小陶瓷產(chǎn)品)依次設(shè)置的第一層11、第二層12以及第三層13，整體結(jié)構(gòu)精簡(jiǎn)。
[0030]所述第一層11的材質(zhì)為海綿，其厚度為2.0-4.0毫米，其壓縮率為10% -30%，其壓縮彈性為70% -95%。
[0031]所述第二層12的材質(zhì)為粘合膠，其厚度為30?200微米，所述粘合膠為亞克力粘膠。
[0032]所述第三層13的材質(zhì)為樹(shù)脂，最好為聚氨酯，其厚度為1.0-2.0毫米，其硬度為50_80 度。
[0033]本發(fā)明拋光用磨皮整體結(jié)構(gòu)精簡(jiǎn)，生產(chǎn)方便；拋光用磨皮采用海綿和樹(shù)脂的結(jié)合，使得拋光用磨皮在拋光過(guò)程中能根據(jù)待加工產(chǎn)品的弧面的形狀進(jìn)行變形，實(shí)現(xiàn)全局弧面化無(wú)損傷拋光；海綿、亞克力粘膠以及聚氨酯的厚度及其他參數(shù)的選擇，能完全滿足現(xiàn)實(shí)工藝中拋光過(guò)程中變形的需求，實(shí)用性強(qiáng)。
[0034]實(shí)施例2:
[0035]本實(shí)施例公開(kāi)了一種采用如實(shí)施例1所述拋光用磨皮的微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法，其拋光過(guò)程中拋光用磨皮與待加工微小陶瓷產(chǎn)品接觸處的示意圖詳見(jiàn)圖2。
[0036]本發(fā)明方法具體包括以下步驟:
[0037]第一步:將所述拋光用磨皮I固定在拋光機(jī)的下拋光盤上；將直徑為3?60毫米且加工面為弧面的待加工微小陶瓷產(chǎn)品2成批貼在陶瓷盤上，并將貼有待加工微小陶瓷產(chǎn)品2的陶瓷盤固定在拋光機(jī)的壓頭里，所述待加工微小陶瓷產(chǎn)品2的加工面位于所述拋光用磨皮的正上方；所述拋光盤的轉(zhuǎn)速為40轉(zhuǎn)每分鐘；所述拋光機(jī)為4頭拋光機(jī)，其拋光頭的轉(zhuǎn)速為40轉(zhuǎn)每分鐘；
[0038]第二步:設(shè)置拋光機(jī)的壓頭的壓力為100千克力；注入拋光液使得拋光液在所述拋光用磨皮的上表面上流動(dòng)，所述拋光液采用含有二氧化硅微粒的拋光液，其中二氧化硅微粒的直徑為35.6納米，其流量為5.0升每分鐘；
[0039]第三步:啟動(dòng)拋光機(jī)的開(kāi)關(guān)，采用所述拋光用磨皮配合拋光液對(duì)待加工微小陶瓷產(chǎn)品2進(jìn)行拋光80分鐘，獲得微小陶瓷產(chǎn)品。
[0040]應(yīng)用本發(fā)明的微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法，具有以下有益效果:(I)本發(fā)明的工藝精簡(jiǎn)，拋光工藝參數(shù)容易控制，生產(chǎn)周期短；(2)拋光液、拋光機(jī)部件容易獲得，成本低；
(3)結(jié)合機(jī)械磨削和化學(xué)腐蝕技術(shù)，采用精準(zhǔn)的壓力控制，實(shí)現(xiàn)全局弧面化超光滑納米級(jí)無(wú)損傷精密拋光，能實(shí)現(xiàn)陶瓷產(chǎn)品15?50微米的去除量，一次性合格率大于98%，表面粗糙度3.5納米。
[0041]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種拋光用磨皮，其特征在于:包括由遠(yuǎn)離待加工產(chǎn)品至靠近待加工產(chǎn)品依次設(shè)置的第一層(11)、第二層(12)以及第三層(13)，所述第一層(11)的材質(zhì)為海綿，所述第二層(12)的材質(zhì)為粘合膠，所述第三層(13)的材質(zhì)為樹(shù)脂。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光用磨皮，其特征在于:所述第一層(11)的厚度為2.0-4.0毫米，其壓縮率為10% -30%,其壓縮彈性為70% -95%。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光用磨皮，其特征在于:所述第三層(13)的材質(zhì)為聚氨酯，其厚度為1.0-2.0毫米，其硬度為50-80度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的拋光用磨皮，其特征在于:所述第二層(12)的厚度為30?200微米；所述粘合膠為亞克力粘膠。
5.一種采用如權(quán)利要求1-4任意一項(xiàng)所述拋光用磨皮的微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法，其特征在于:包括以下步驟: 第一步:將所述拋光用磨皮固定在拋光機(jī)的下拋光盤上；將直徑為3?60毫米且加工面為弧面的待加工微小陶瓷產(chǎn)品成批貼在陶瓷盤上，并將貼有待加工微小陶瓷產(chǎn)品的陶瓷盤固定在拋光機(jī)的壓頭里，所述待加工微小陶瓷產(chǎn)品的加工面位于所述拋光用磨皮的正上方； 第二步:設(shè)置拋光機(jī)的壓頭的壓力為50?170千克力；注入拋光液使得拋光液在所述拋光用磨皮的上表面上流動(dòng)； 第三步:啟動(dòng)拋光機(jī)的開(kāi)關(guān)，采用所述拋光用磨皮配合拋光液對(duì)待加工微小陶瓷產(chǎn)品進(jìn)行拋光，獲得微小陶瓷產(chǎn)品。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法，其特征在于:所述拋光液為含有二氧化硅微粒的拋光液，其中二氧化硅微粒的直徑為30?100納米，其流量為2-10升每分鐘。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法，其特征在于:所述拋光盤的轉(zhuǎn)速為30?50轉(zhuǎn)每分鐘；所述拋光機(jī)為4頭拋光機(jī)。
【專利摘要】本發(fā)明的第一目的在于提供一種拋光用磨皮，包括依次設(shè)置的第一層、第二層以及第三層，第一層的材質(zhì)為海綿，第二層的材質(zhì)為粘合膠，第三層的材質(zhì)為樹(shù)脂。本發(fā)明拋光用磨整體結(jié)構(gòu)精簡(jiǎn)，生產(chǎn)方便；采用海綿和樹(shù)脂的結(jié)合，使得拋光用磨皮在拋光過(guò)程中能根據(jù)待加工產(chǎn)品的弧面的形狀進(jìn)行變形，實(shí)現(xiàn)全局弧面化無(wú)損傷拋光，實(shí)用性強(qiáng)。本發(fā)明的第二目的在于提供一種微小陶瓷產(chǎn)品弧面拋光方法，工藝精簡(jiǎn)，生產(chǎn)周期短；部件容易獲得，成本低；結(jié)合機(jī)械磨削和化學(xué)腐蝕技術(shù)，采用精準(zhǔn)的壓力控制，實(shí)現(xiàn)全局弧面化超光滑納米級(jí)無(wú)損傷精密拋光，能實(shí)現(xiàn)陶瓷產(chǎn)品15～50微米的去除量，一次性合格率大于90％，表面粗糙度達(dá)到5納米以下。
【IPC分類】B32B5-18, B24B19-26, B32B27-06, B24D11-02
【公開(kāi)號(hào)】CN104742034
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510138283
【發(fā)明人】周群飛, 饒橋兵, 鄭濤
【申請(qǐng)人】藍(lán)思科技股份有限公司
【公開(kāi)日】2015年7月1日
【申請(qǐng)日】2015年3月27日