一種靶式濺射鍍膜機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及鍍膜機(jī)領(lǐng)域，尤其是一種靶式濺射鍍膜機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]石英晶體諧振器是一種用于穩(wěn)定頻率和選擇頻率的電子元件，被廣泛的應(yīng)用在電子產(chǎn)品上。隨著產(chǎn)品生產(chǎn)自動(dòng)化程度的提高，產(chǎn)品品質(zhì)要求也越來越高，已經(jīng)成為一個(gè)企業(yè)生存的關(guān)鍵。晶片鍍膜是石英晶體生產(chǎn)的重要環(huán)節(jié)，它關(guān)系到成品的各項(xiàng)技術(shù)參數(shù)是否合格?，F(xiàn)有的鍍膜機(jī)都是通過銀在真空狀態(tài)高溫形成銀蒸氣，然后再附著到晶體表面。采用此工藝存在以下兩方面問題:一是采用銀蒸發(fā)，達(dá)不到連續(xù)蒸發(fā)，影響產(chǎn)品品質(zhì)；二是鍍層分布不均，鍍層與鍍件結(jié)合不牢固。因此，需要一種新的技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種靶式濺射鍍膜機(jī)，該鍍膜機(jī)通過采用磁控濺射原理，實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜，可以有效地解決原有鍍膜工藝的缺點(diǎn)，提高產(chǎn)品質(zhì)量。
[0004]本發(fā)明采用的技術(shù)方案是，一種靶式濺射鍍膜機(jī)，包括接地板、靶體、所述靶體安裝在接地板上，兩者之間安裝有靶體絕緣墊，并且靶體的腔內(nèi)裝有靶磁續(xù)，靶磁續(xù)可以使得磁場產(chǎn)生的磁力線閉合；所述靶磁續(xù)上安裝有靶中心墊和環(huán)形磁鐵組成；所述靶體前端有靶頭，靶頭將靶體的內(nèi)腔密封；所述靶頭凹槽內(nèi)裝有銀靶，銀靶通過邊框固定在靶頭上，所述接地板前端安裝有靶護(hù)罩，靶護(hù)罩前端安裝有靶前護(hù)罩，所述靶體后側(cè)安裝孔內(nèi)安裝有接頭。所述靶中心墊與靶磁續(xù)接觸一側(cè)有若干個(gè)凹槽。
[0005]本發(fā)明的靶安裝真空環(huán)境下，環(huán)境內(nèi)充氬氣。直流磁控激射電源電源正極連接真空罩，負(fù)極連接靶。真空罩內(nèi)產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象，從而產(chǎn)生帶電的離子，帶電離子在電場的作用下加速飛向被鍍件，這個(gè)過程中與IS原子發(fā)生碰撞，電尚出大量的IS尚子和電子，電子飛向被鍍件，氬離子在電場的作用下加速轟擊銀靶，濺射出大量的銀原子，呈中性的銀原子(或分子)沉積在被鍍件上成膜。二次電子在加速飛向被鍍件的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近銀靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞銀靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長，在運(yùn)動(dòng)過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊銀靶，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離銀靶，最終沉積在被鍍件上。同時(shí)從接頭打入冷卻水，通過靶中心墊上的凹槽，使得靶體均勻冷卻。
[0006]本發(fā)明的有益效果是，提供了一種靶式濺射鍍膜機(jī)，采用磁控濺射原理，實(shí)現(xiàn)了濺射鍍膜，使鍍膜過程中銀能夠連續(xù)蒸發(fā)，改善了鍍層分布不均的問題，提高了產(chǎn)品質(zhì)量。
【附圖說明】
[0007]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。
[0008]圖1為靶式濺射鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖2為靶式濺射鍍膜機(jī)側(cè)視圖。
[0010]圖3為靶式濺射鍍膜機(jī)俯視圖。
[0011]圖4為本發(fā)明靶中心墊結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖5為本發(fā)明靶中心墊俯視圖。
[0013]圖中1.接地板，2.靶體，3.靶體絕緣墊，4.靶磁續(xù)，5.靶中心墊，6.環(huán)形磁鐵組成，7.靶頭，8.銀靶，9.邊框，10.靶護(hù)罩，11.靶前護(hù)罩，12.接頭，13.凹槽。
[0014]【具體實(shí)施方式】:
參照附圖，一種靶式濺射鍍膜機(jī)，包括接地板I和靶體2，所述靶體2安裝在接地板I上，兩者之間設(shè)有靶體絕緣墊3，所述靶體2的空腔內(nèi)裝有靶磁續(xù)4，靶磁續(xù)4上安裝有靶中心墊5和環(huán)形磁鐵6，所述靶體2前端有靶頭7，將靶體的內(nèi)腔密封，所述靶頭7凹槽內(nèi)裝有銀靶8，通過邊框9將銀靶8固定在靶頭7上，所述接地板I前端安裝有靶護(hù)罩10，所述靶護(hù)罩10前端安裝有靶前護(hù)罩11，所述靶體2后側(cè)設(shè)有安裝孔，安裝孔內(nèi)裝有接頭12。所述靶中心墊5與靶磁續(xù)4接觸一側(cè)有多個(gè)凹槽13。靶安裝真空環(huán)境下，環(huán)境內(nèi)充氬氣。直流磁控濺射電源，電源正極連接真空罩，負(fù)極連接靶。真空罩內(nèi)產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象，從而產(chǎn)生帶電的離子，帶電離子在電場的作用下加速飛向被鍍件，這個(gè)過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向被鍍件，氬離子在電場的作用下加速轟擊銀靶，濺射出大量的銀原子，呈中性的銀原子(或分子)沉積在被鍍件上成膜。二次電子在加速飛向被鍍件的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近銀靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞銀靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長，在運(yùn)動(dòng)過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊銀靶8，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離銀靶8，最終沉積在被鍍件上。同時(shí)從接頭12打入冷卻水，通過靶中心墊5上的凹槽，使得靶體均勻冷卻。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種靶式濺射鍍膜機(jī)，包括接地板和靶體，其特征在于:靶體安裝在接地板上，靶體與接地板之間加有靶體絕緣墊，所述靶體的腔內(nèi)裝有靶磁續(xù)，靶磁續(xù)上裝有中心墊和環(huán)形磁鐵，靶體前端有靶頭，將靶體腔密封，靶頭上設(shè)有凹槽，凹槽內(nèi)裝有銀靶，銀靶通過邊框固定在靶頭上，所述接地板前端裝有靶護(hù)罩，所述靶護(hù)罩前端安裝有靶前護(hù)罩，所述靶體后側(cè)設(shè)有安裝孔，安裝孔內(nèi)裝有接頭。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶式濺射鍍膜機(jī)，其特征在于:所述靶中心墊與靶磁續(xù)接觸的一側(cè)有若干個(gè)凹槽。
【專利摘要】本發(fā)明涉及鍍膜機(jī)領(lǐng)域，尤其是一種靶式濺射鍍膜機(jī)，包括接地板、靶體、所述靶體安裝在接地板上，兩者之間安裝有靶體絕緣墊，并且靶體的腔內(nèi)裝有靶磁續(xù)，靶磁續(xù)可以使得磁場產(chǎn)生的磁力線閉合；本發(fā)明采用磁控濺射原理，實(shí)現(xiàn)了濺射鍍膜，鍍膜過程中銀能夠連續(xù)蒸發(fā)，改善了鍍層分布不均的問題，提高了產(chǎn)品質(zhì)量。
【IPC分類】C23C14-35
【公開號】CN104775098
【申請?zhí)枴緾N201410011781
【發(fā)明人】呂春哲, 孫旭東
【申請人】煙臺力凱電子科技有限公司
【公開日】2015年7月15日
【申請日】2014年1月11日