氣相沉積膜設(shè)備用腔室回填氣體分散裝置的制造方法
【專利說明】
[0001]技術(shù)領(lǐng)域:本發(fā)明涉及一種氣體分散裝置，尤其是一種氣相沉積膜設(shè)備用腔室回填氣體分散裝置。
[0002]【背景技術(shù)】:為滿足氣相沉積膜設(shè)備在沉積時(shí)的反應(yīng)要求，在沉積過程中腔室內(nèi)部需要保持一定的真空。沉積開始前(或結(jié)束后)將襯底送入(或取出)反應(yīng)腔室時(shí)，需要將反應(yīng)腔室內(nèi)的真空回填到與過渡腔室相近，通過兩腔室連接閥口，使用傳遞裝置將襯底從過渡腔室送入至反應(yīng)腔室(或?qū)⒁r底從反應(yīng)腔室取出至過渡腔室)。此時(shí)，需要通過向反應(yīng)腔室通入惰性氣體，使反應(yīng)腔室內(nèi)與過渡腔室內(nèi)部壓力相近。惰性氣體通過與反應(yīng)腔室聯(lián)通的一個(gè)小孔進(jìn)入反應(yīng)腔室，出口位置位于反應(yīng)腔室內(nèi)與過渡腔室之間的襯底傳遞通道下表面。
[0003]
【發(fā)明內(nèi)容】
:為了保證回填的惰性氣體可以均勻的進(jìn)入反應(yīng)腔室，本發(fā)明提供了一種處于反應(yīng)腔室內(nèi)與過渡腔室之間襯底傳遞通道內(nèi)的氣體分散裝置。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:氣相沉積膜設(shè)備用腔室回填氣體分散裝置，為鏟形結(jié)構(gòu)，其前端處于氣相沉積膜設(shè)備的反應(yīng)腔室內(nèi)，本裝置下表面有小孔與反應(yīng)腔室內(nèi)與過渡腔室之間的襯底傳遞通道下表面的惰性氣體通入孔聯(lián)通，在鏟形的圓弧一側(cè)均布?xì)饪着c小孔聯(lián)通。
[0005]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn):
[0006]1、可以使進(jìn)入腔室的惰性氣體按照裝置上表面的若干氣孔流出，起到均勻氣流的作用。
[0007]2、通過此裝置上表面若干氣孔流出的氣體，根據(jù)氣孔排布的方式，可以形成不同形狀，相對(duì)襯底不同位置的氣簾。阻擋沉積時(shí)反應(yīng)腔室通入的反應(yīng)源向襯底傳遞通道逸散。
[0008]3、此裝置可以填充部分襯底傳遞通道的體積，減少腔室真空體積。
【附圖說明】
:
[0009]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2是本發(fā)明的俯視圖。
[0011]圖3是圖2的左視圖。
[0012]圖4是本發(fā)明在氣相沉積膜設(shè)備反應(yīng)腔室內(nèi)的位置示意圖。
【具體實(shí)施方式】
:
[0013]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清晰、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0014]如圖1-圖4所示:氣相沉積膜設(shè)備用腔室回填氣體分散裝置，為鏟形結(jié)構(gòu)，其前端處于氣相沉積膜設(shè)備的反應(yīng)腔室3內(nèi)，反應(yīng)腔室3通過閥門5與過渡腔室6連接。本裝置下表面有小孔I與反應(yīng)腔室內(nèi)與過渡腔室6之間的襯底傳遞通道下表面的惰性氣體通入孔聯(lián)通，在鏟形的圓弧一側(cè)均布?xì)饪?與小孔聯(lián)通。
[0015]在反應(yīng)過程中，該裝置前部氣孔2流出氣體形成氣簾，保護(hù)反應(yīng)空間，阻擋沉積時(shí)反應(yīng)腔室通入的反應(yīng)源向襯底傳遞通道逸散。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.氣相沉積膜設(shè)備用腔室回填氣體分散裝置，氣特征在于:為鏟形結(jié)構(gòu)，其前端處于氣相沉積膜設(shè)備的反應(yīng)腔室內(nèi)，本裝置下表面有小孔與反應(yīng)腔室內(nèi)與過渡腔室之間的襯底傳遞通道下表面的惰性氣體通入孔聯(lián)通，在鏟形的圓弧一側(cè)均布?xì)饪着c小孔聯(lián)通。
【專利摘要】氣相沉積膜設(shè)備用腔室回填氣體分散裝置，為鏟形結(jié)構(gòu)，其前端處于氣相沉積膜設(shè)備的反應(yīng)腔室內(nèi)，本裝置下表面有小孔與反應(yīng)腔室內(nèi)與過渡腔室之間的襯底傳遞通道下表面的惰性氣體通入孔聯(lián)通，在鏟形的圓弧一側(cè)均布?xì)饪着c小孔聯(lián)通。本發(fā)明可以使進(jìn)入腔室的惰性氣體按照裝置上表面的若干氣孔流出，起到均勻氣流的作用。通過此裝置上表面若干氣孔流出的氣體，根據(jù)氣孔排布的方式，可以形成不同形狀，相對(duì)襯底不同位置的氣簾。阻擋沉積時(shí)反應(yīng)腔室通入的反應(yīng)源向襯底傳遞通道逸散。此裝置可以填充部分襯底傳遞通道的體積，減少腔室真空體積。
【IPC分類】C23C16-44
【公開號(hào)】CN104878365
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510262564
【發(fā)明人】王燚, 劉億軍
【申請(qǐng)人】沈陽拓荊科技有限公司
【公開日】2015年9月2日
【申請(qǐng)日】2015年5月21日