蒸發(fā)鍍膜工藝中的圓片固定裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體加工設(shè)備,尤其是一種蒸發(fā)鍍膜工藝中的圓片固定裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]蒸發(fā)鍍膜是將熔點(diǎn)較低的金屬進(jìn)行加熱,使得金屬蒸發(fā)并附著于待加工的圓片之上以形成鍍膜的工藝。現(xiàn)有的蒸發(fā)鍍膜工藝中,圓片往往采用夾持固定方式,然而,由于圓片多用于半導(dǎo)體生產(chǎn),其厚度較薄,在長時(shí)間的夾持狀態(tài)下圓片極易發(fā)生損壞。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種蒸發(fā)鍍膜工藝中的圓片固定裝置,其可避免圓片在固定與工作過程中受到損傷。
[0004]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明涉及一種蒸發(fā)鍍膜工藝中的圓片固定裝置,其包括有工作腔室,工作腔室的下端面設(shè)置有用于放置金屬物料的放置臺(tái),放置臺(tái)內(nèi)部設(shè)置有電熱源,工作腔室上端部設(shè)置有用于固定圓片的固定臺(tái),固定臺(tái)由設(shè)置在工作腔室外部的電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng);所述固定臺(tái)的軸線位置設(shè)置有吸附管道,其連通至設(shè)置在工作腔室外部的真空吸附栗;所述吸附管道包括有第一管道與第二管道,第一管道與真空吸附栗進(jìn)行連接,第二管道與固定臺(tái)進(jìn)行連接,第二管道延伸至第一管道內(nèi)部,第一管道與第二管道的連接位置設(shè)置有密封圈;所述第二管道之上設(shè)置有從動(dòng)齒輪,工作腔室的上端部設(shè)置有與從動(dòng)齒輪相嚙合的主動(dòng)齒輪,主動(dòng)齒輪由電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。
[0005]作為本發(fā)明的一種改進(jìn),所述吸附管道中,第二管道于固定臺(tái)一側(cè)的端部直徑至少為固定臺(tái)的直徑的1/3。采用上述設(shè)計(jì),其可確保第二管道對于圓片產(chǎn)生足夠的吸附力。
[0006]作為本發(fā)明的一種改進(jìn),所述吸附管道中,第二管道于固定臺(tái)一側(cè)的端部設(shè)置有多個(gè)沿固定臺(tái)徑向進(jìn)行延伸的輔助吸附管道,多個(gè)輔助吸附管道關(guān)于第二管道的軸線成旋轉(zhuǎn)對稱,每一個(gè)輔助吸附管道均經(jīng)由固定臺(tái)的端面與圓片相接觸。采用上述設(shè)計(jì),其可通過多個(gè)輔助吸附管道對圓片的各個(gè)位置進(jìn)行吸附,從而避免圓片軸心局部受力過大進(jìn)而導(dǎo)致其損壞。
[0007]采用上述技術(shù)方案,其可通過真空吸附栗產(chǎn)生的吸附作用對圓片進(jìn)行固定,并通過主動(dòng)齒輪與從動(dòng)齒輪間的嚙合,以實(shí)現(xiàn)第二管道連通固定臺(tái)進(jìn)行旋轉(zhuǎn),從而使得圓片在實(shí)現(xiàn)其旋轉(zhuǎn)加工的同時(shí),避免常規(guī)固定方式對其表面進(jìn)行損壞。
【附圖說明】
[0008]圖1為本發(fā)明示意圖;
附圖標(biāo)記列表:
1 一工作腔室、2—放置臺(tái)、3—固定臺(tái)、4 一電機(jī)、5—吸附管道、51—第一管道、52—第二管道、53—密封圈、6—真空吸附栗、7—從動(dòng)齒輪、8—主動(dòng)齒輪、9 一輔助吸附管道。
【具體實(shí)施方式】
[0009]下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】,進(jìn)一步闡明本發(fā)明,應(yīng)理解下述【具體實(shí)施方式】僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍。
[0010]實(shí)施例1
如圖1所示的一種蒸發(fā)鍍膜工藝中的圓片固定裝置,其包括有工作腔室1,工作腔室1的下端面設(shè)置有用于放置金屬物料的放置臺(tái)2,放置臺(tái)2內(nèi)部設(shè)置有電熱源,工作腔室1上端部設(shè)置有用于固定圓片的固定臺(tái)3,固定臺(tái)3由設(shè)置在工作腔室1外部的電機(jī)4進(jìn)行驅(qū)動(dòng);所述固定臺(tái)3的軸線位置設(shè)置有吸附管道5,其連通至設(shè)置在工作腔室1外部的真空吸附栗6;所述吸附管道5包括有第一管道51與第二管道52,第一管道51與真空吸附栗6進(jìn)行連接,第二管道52與固定臺(tái)3進(jìn)行連接,第二管道52延伸至第一管道51內(nèi)部,第一管道1與第二管道52的連接位置設(shè)置有密封圈53;所述第二管道52之上設(shè)置有從動(dòng)齒輪7,工作腔室1的上端部設(shè)置有與從動(dòng)齒輪7相嚙合的主動(dòng)齒輪8,主動(dòng)齒輪8由電機(jī)4進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。
[0011]作為本發(fā)明的一種改進(jìn),所述吸附管道中,第二管道52于固定臺(tái)3—側(cè)的端部直徑為固定臺(tái)3的直徑的1/3。采用上述設(shè)計(jì),其可確保第二管道對于圓片產(chǎn)生足夠的吸附力。
[0012]采用上述技術(shù)方案,其可通過真空吸附栗產(chǎn)生的吸附作用對圓片進(jìn)行固定,并通過主動(dòng)齒輪與從動(dòng)齒輪間的嚙合,以實(shí)現(xiàn)第二管道連通固定臺(tái)進(jìn)行旋轉(zhuǎn),從而使得圓片在實(shí)現(xiàn)其旋轉(zhuǎn)加工的同時(shí),避免常規(guī)固定方式對其表面進(jìn)行損壞。
[0013]實(shí)施例2
作為本發(fā)明的一種改進(jìn),所述吸附管道5中,第二管道52于固定臺(tái)3—側(cè)的端部設(shè)置有四個(gè)沿固定臺(tái)3徑向進(jìn)行延伸的輔助吸附管道9,多個(gè)輔助吸附管道9關(guān)于第二管道52的軸線成旋轉(zhuǎn)對稱,每一個(gè)輔助吸附管道9均經(jīng)由固定臺(tái)3的端面與圓片相接觸。采用上述設(shè)計(jì),其可通過多個(gè)輔助吸附管道對圓片的各個(gè)位置進(jìn)行吸附,從而避免圓片軸心局部受力過大進(jìn)而導(dǎo)致其損壞。
[0014]本實(shí)施例其余特征與優(yōu)點(diǎn)均與實(shí)施例1相同。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種蒸發(fā)鍍膜工藝中的圓片固定裝置,其包括有工作腔室,工作腔室的下端面設(shè)置有用于放置金屬物料的放置臺(tái),放置臺(tái)內(nèi)部設(shè)置有電熱源,工作腔室上端部設(shè)置有用于固定圓片的固定臺(tái),固定臺(tái)由設(shè)置在工作腔室外部的電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng);其特征在于,所述固定臺(tái)的軸線位置設(shè)置有吸附管道,其連通至設(shè)置在工作腔室外部的真空吸附栗;所述吸附管道包括有第一管道與第二管道,第一管道與真空吸附栗進(jìn)行連接,第二管道與固定臺(tái)進(jìn)行連接,第二管道延伸至第一管道內(nèi)部,第一管道與第二管道的連接位置設(shè)置有密封圈;所述第二管道之上設(shè)置有從動(dòng)齒輪,工作腔室的上端部設(shè)置有與從動(dòng)齒輪相嚙合的主動(dòng)齒輪,主動(dòng)齒輪由電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。2.按照權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)鍍膜工藝中的圓片固定裝置,其特征在于,所述吸附管道中,第二管道于固定臺(tái)一側(cè)的端部直徑至少為固定臺(tái)的直徑的1/3。3.按照權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)鍍膜工藝中的圓片固定裝置,其特征在于,所述吸附管道中,第二管道于固定臺(tái)一側(cè)的端部設(shè)置有多個(gè)沿固定臺(tái)徑向進(jìn)行延伸的輔助吸附管道,多個(gè)輔助吸附管道關(guān)于第二管道的軸線成旋轉(zhuǎn)對稱,每一個(gè)輔助吸附管道均經(jīng)由固定臺(tái)的端面與圓片相接觸。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種蒸發(fā)鍍膜工藝中的圓片固定裝置,其包括有工作腔室,工作腔室上端部設(shè)置有固定臺(tái);所述固定臺(tái)的軸線位置設(shè)置有吸附管道,其連通至設(shè)置在工作腔室外部的真空吸附泵;所述吸附管道包括有第一管道與第二管道,第一管道與真空吸附泵進(jìn)行連接,第二管道與固定臺(tái)進(jìn)行連接,第二管道延伸至第一管道內(nèi)部,第一管道與第二管道的連接位置設(shè)置有密封圈;所述第二管道之上設(shè)置有從動(dòng)齒輪,工作腔室的上端部設(shè)置有與從動(dòng)齒輪相嚙合的主動(dòng)齒輪,主動(dòng)齒輪由電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng);采用上述技術(shù)方案,其可使得圓片在實(shí)現(xiàn)其旋轉(zhuǎn)加工的同時(shí),避免常規(guī)固定方式對其表面進(jìn)行損壞。
【IPC分類】C23C14/50, C23C14/24
【公開號】CN105441897
【申請?zhí)枴緾N201510806316
【發(fā)明人】史進(jìn), 伍志軍
【申請人】蘇州賽森電子科技有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2015年11月20日