連續(xù)掩膜擋板傳動裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及一種薄膜鍍膜用設(shè)備，特別涉及一種薄膜連續(xù)掩膜擋板傳動裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]薄膜鍍膜作業(yè)是在真空條件下利用鍍膜設(shè)備通過不同的鍍膜工藝(例如:物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積等)對工件進(jìn)行鍍膜，但現(xiàn)有薄膜鍍膜設(shè)備無法完成對膜厚變化有要求的鍍膜作業(yè)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)簡單、鍍膜效果好的連續(xù)掩膜擋板傳動裝置。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種連續(xù)掩膜擋板傳動裝置，包括電機、掩膜擋板、安裝支架、傳動組件和底座，安裝支架內(nèi)開有貫穿上、下端面的鍍膜槽口，鍍膜槽口內(nèi)側(cè)壁上開有至少一條滑槽，掩膜擋板在所述滑槽內(nèi)移動，底座放置在鍍膜槽口下側(cè)；
[0005]傳動組件至少包括傳動絲桿，傳動絲桿包括螺桿和螺母，螺桿支撐在安裝支架上，螺桿的放置走向與滑槽的走向一致，螺母固定在掩膜擋板上；
[0006]電機帶動傳動組件的螺桿轉(zhuǎn)動。
[0007]采用這樣的結(jié)構(gòu)后，初始狀態(tài)下掩膜擋板完全遮擋待鍍膜的工件，電機驅(qū)動傳動組件帶動掩膜擋板移動，使工件逐步暴露在掩膜擋板外，配合外部鍍膜設(shè)備對工件持續(xù)鍍膜，進(jìn)而達(dá)到漸進(jìn)式鍍膜的目的，滿足對工件鍍膜厚度的變化要求。
[0008]本連續(xù)掩膜擋板傳動裝置允許用戶通過手動或自動控制，精確控制掩膜擋板在鍍膜過程中的傳動走位，適用于多種鍍膜機的工藝開發(fā)。
[0009]為了更好的理解本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容，以下將本連續(xù)掩膜擋板傳動裝置簡稱為本傳動裝置。
[0010]本傳動裝置的傳動組件還包括真空磁流體動密封件、聯(lián)軸器、渦輪和渦桿，螺桿一端裝有渦輪，渦輪與渦桿配合，渦桿通過聯(lián)軸器與真空磁流體動密封件連接，真空磁流體動密封件與電機的輸出軸連接;采用這樣的結(jié)構(gòu)后，通過真空磁流體動密封件將電機設(shè)置在真空作業(yè)空間外，可以提高真空作業(yè)空間的使用效率;渦輪和蝸桿可以改變輸出軸的方向，便于合理布置位置，使本裝置適用于更多作業(yè)場所。
【附圖說明】
[0011 ]圖1是本傳動裝置實施例的主視圖。
[0012]圖2是圖1沿A-A方向剖視圖。
【具體實施方式】
[0013]如圖1至2所示
[0014]本傳動裝置包括電機5、掩膜擋板3、安裝支架1、傳動組件和底座2。
[0015]安裝支架I水平放置，安裝支架I內(nèi)開有貫穿上、下端面的鍍膜槽口11，鍍膜槽口 11延伸至安裝支架I的右端面，鍍膜槽口 11中部固定有支撐桿12，支撐桿12兩端分別與鍍膜槽口 11前、后側(cè)壁固定，鍍膜槽口 11的前、后側(cè)壁上分別開有左、右走向滑槽13，兩條滑槽13的位置對應(yīng)。
[0016]底座2放置在安裝支架I下側(cè)，底座2上端面為放置工件6的置物平臺，置物平臺對準(zhǔn)安裝支架I的鍍膜槽口 11。
[0017]掩膜擋板3為長方形板體，掩膜擋板3前、后部分別伸入兩個滑槽13內(nèi)，并且掩膜擋板3可以沿兩個滑槽13的走向左右往復(fù)移動。
[0018]傳動組件包括傳動絲桿、真空磁流體動密封件43、聯(lián)軸器44、渦輪45和渦桿46，傳動絲桿包括螺桿41和螺母42，螺桿41的左端通過軸承支撐在安裝支架I左部，螺桿41的右端通過軸承支撐在安裝支架I的支撐桿12上，螺桿41可以相對安裝支架I自用自由轉(zhuǎn)動，螺桿41的放置走向與滑槽13的走向一致，螺母42與螺桿41配合，并且螺母42與掩膜擋板3下端面固定；
[0019]渦輪45安裝在螺桿41左端部，渦輪45與渦桿46配合，渦桿46通過聯(lián)軸器44與真空磁流體動密封件43連接，真空磁流體動密封件43與電機5的輸出軸連接。
[0020]鍍膜作業(yè)時，將待鍍膜的工件6放置在底座2上，掩膜擋板3處于其行程的最右側(cè)位置，待鍍膜的工件6此時完全被掩膜擋板3遮擋，啟動外部的鍍膜設(shè)備，本轉(zhuǎn)動裝置的電機5帶動真空磁流體動密封件43轉(zhuǎn)動，經(jīng)過渦輪45和渦桿46的傳動，進(jìn)而驅(qū)動傳動絲桿的螺桿41轉(zhuǎn)動，掩膜擋板3在螺母42的帶動下向左側(cè)緩慢移動，待鍍膜的工件6則逐步脫離掩膜擋板3的遮擋，達(dá)到漸進(jìn)式鍍膜的目的；
[0021]掩膜擋板3處于其行程的最左側(cè)位置，工件6則暴露在鍍膜設(shè)備的鍍膜范圍內(nèi)，鍍膜作業(yè)完畢后，啟動電機5反轉(zhuǎn)使掩膜擋板3回到右側(cè)的初始位置。
[0022]本傳動裝置可以采用以下步驟進(jìn)行:
[0023]1.手動或自動程序精確控制電機5，控制掩膜擋板3從原始的“右側(cè)”位置向“左側(cè)”位置運動，運動可以是連續(xù)，可以是漸進(jìn)，由手動或自動程序控制。
[0024]2.鍍膜工藝完成后，手動或自動程序控制掩膜擋板3復(fù)位到“左側(cè)”位置。
[0025]以上所述的僅是本發(fā)明的一種實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以作出若干變型和改進(jìn)，這些也應(yīng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項】
1.一種連續(xù)掩膜擋板傳動裝置，其特征是:包括電機、掩膜擋板、安裝支架、傳動組件和底座，安裝支架內(nèi)開有貫穿上、下端面的鍍膜槽口，鍍膜槽口內(nèi)側(cè)壁上開有至少一條滑槽，掩膜擋板在所述滑槽內(nèi)移動，底座放置在鍍膜槽口下側(cè)； 傳動組件至少包括傳動絲桿，傳動絲桿包括螺桿和螺母，螺桿支撐在安裝支架上，螺桿的放置走向與滑槽的走向一致，螺母固定在掩膜擋板上； 電機帶動傳動組件的螺桿轉(zhuǎn)動。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)掩膜擋板傳動裝置，其特征是: 所述傳動組件還包括真空磁流體動密封件、聯(lián)軸器、渦輪和渦桿，螺桿一端裝有渦輪，渦輪與渦桿配合，渦桿通過聯(lián)軸器與真空磁流體動密封件連接，真空磁流體動密封件與電機的輸出軸連接。
【專利摘要】本發(fā)明給出了一種連續(xù)掩膜擋板傳動裝置,包括電機、掩膜擋板、安裝支架、傳動組件和底座，安裝支架內(nèi)開有貫穿上、下端面的鍍膜槽口，鍍膜槽口內(nèi)側(cè)壁上開有至少一條滑槽，掩膜擋板在所述滑槽內(nèi)移動，底座放置在鍍膜槽口下側(cè)；傳動組件至少包括傳動絲桿，傳動絲桿包括螺桿和螺母，螺桿支撐在安裝支架上，螺桿的放置走向與滑槽的走向一致，螺母固定在掩膜擋板上；電機帶動傳動組件的螺桿轉(zhuǎn)動。初始狀態(tài)下掩膜擋板完全遮擋待鍍膜的工件，電機驅(qū)動傳動組件帶動掩膜擋板移動，使工件逐步暴露在掩膜擋板外，配合外部鍍膜設(shè)備對工件持續(xù)鍍膜，進(jìn)而達(dá)到漸進(jìn)式鍍膜的目的，滿足對工件鍍膜厚度的變化要求。
【IPC分類】C23C14/54, C23C16/52, C23C16/04, C23C14/04
【公開號】CN105525257
【申請?zhí)枴緾N201511033444
【發(fā)明人】郭祖華, 葛懷慶, 練菊, 朱向煒
【申請人】蚌埠雷諾真空技術(shù)有限公司
【公開日】2016年4月27日
【申請日】2015年12月31日