一種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及機械加工技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極。
【背景技術(shù)】
[0002]磁控濺射鍍膜是工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中最主要的技術(shù)之一，與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，磁控濺射鍍膜具有許多優(yōu)點。例如，膜層和基體的附著力強;在大面積連續(xù)基板上可以制取均勻膜層;容易控制膜的成分，可以制取各種不同成分和配比的合金膜;可以進行反應(yīng)濺射、制取多種化合物膜，可方便地鍍制多層膜;便于工業(yè)化生產(chǎn)，易于實現(xiàn)連續(xù)化、自動化操作等。
[0003]鍍膜廠商普遍關(guān)心的問題是如何獲得附著力強、致密性好以及均勻度高的膜層。在濺射過程中，真空室溫度的高低，工藝氣體壓強的大小，靶面到基底的距離，濺射電源的選取等諸多因素都會影響到膜層的質(zhì)量。在正式濺射前也會采取一些措施，例如預(yù)濺射一段時間，在各工藝參數(shù)達到穩(wěn)態(tài)后才會對基底進行鍍膜。
[0004]通常情況下，預(yù)濺射時會有擋板設(shè)置在陰極與基底之間，因為這時從靶面脫離的原子能量不穩(wěn)定，對膜層與基底的附著力和致密性會造成影響；如果靶面被污染，脫離的原子也不單單是陰極靶原子，破壞了膜層的成分。一般情況下，陰極擋板被制作成半圓筒狀，擋板的正常運轉(zhuǎn)需要有制動機構(gòu)和一定的空間，有時也會增加支撐機構(gòu)以保證擋板的轉(zhuǎn)動順暢。但是在濺射過中隨著靶原子的轟擊，擋板的溫度會逐漸升高，以致發(fā)生形變，就會出現(xiàn)運轉(zhuǎn)不暢或卡死的情況。本專利所提供的旋轉(zhuǎn)陰極則是令磁路組件旋轉(zhuǎn)180°，采用此旋轉(zhuǎn)陰極的鍍膜設(shè)備是不需要添加擋板裝置的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0006]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，包括進水管以及設(shè)置在進水管外部的磁路組件，其中，在進水管上端設(shè)置一個進水軸，所述進水軸與水接頭相連接，進水軸與進水管相通，在進水軸的上端設(shè)置一個旋轉(zhuǎn)氣缸。
[0007]—種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，其中，所述旋轉(zhuǎn)氣缸與進水軸通過設(shè)置聯(lián)動法蘭實現(xiàn)傳動。
[0008]—種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，其中，旋轉(zhuǎn)氣缸下方設(shè)置一個氣缸安裝板。
[0009]優(yōu)選的，進水軸與進水管連接處通過設(shè)置軸承傳動。
[0010]優(yōu)選的，所述軸承設(shè)置有油封。
[0011 ]優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)氣缸選用的轉(zhuǎn)動角度為180°的氣缸。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是:
[0013]本專利提供了一種磁路可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，磁路方向轉(zhuǎn)變時，靶原子轟擊的方向相應(yīng)改變，就不需要在陰極和基底之間添加擋板機構(gòu)，可以簡化鍍膜設(shè)備并節(jié)省設(shè)備空間。
【附圖說明】
[0014]圖1是本發(fā)明剖視圖
【具體實施方式】
[0015]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0016]如圖1所示，一種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，包括進水管4以及設(shè)置在進水管4外部的磁路組件，其特征在于:在進水管4上端設(shè)置一個進水軸30，所述進水軸30與水接頭33相連接，進水軸30與進水管4相通，在進水軸30的上端設(shè)置一個旋轉(zhuǎn)氣缸31。
[0017]—種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，其中，所述旋轉(zhuǎn)氣缸31與進水軸30通過設(shè)置聯(lián)動法蘭32實現(xiàn)傳動。
[0018]—種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，其中，旋轉(zhuǎn)氣缸31下方設(shè)置一個氣缸安裝板29。
[0019]作為本發(fā)明的一個優(yōu)選的實施例，進水軸30與進水管4連接處通過設(shè)置軸承27傳動。
[0020]作為本發(fā)明的一個優(yōu)選的實施例，所述軸承27設(shè)置有油封。
[0021]作為本發(fā)明的一個優(yōu)選的實施例，所述旋轉(zhuǎn)氣缸31選用的轉(zhuǎn)動角度為180°的氣缸。
[0022]為了實現(xiàn)磁路轉(zhuǎn)動的目的，將主要圖1驅(qū)動單元的結(jié)構(gòu)和各組件的功能。將磁流體19安裝在驅(qū)動密封座18中，磁流體19外壁加工有膠圈槽和定位孔，膠圈槽用于密封真空，定位孔用于將磁流體19外環(huán)和驅(qū)動密封座18固定，當(dāng)磁流體19內(nèi)環(huán)轉(zhuǎn)動時，磁流體19和驅(qū)動密封座18不會相對滑動。將第一軸承20安裝在驅(qū)動密封座18另一側(cè)，將轉(zhuǎn)軸組件36穿過磁流體19和第一軸承20的內(nèi)孔。轉(zhuǎn)軸組件36外壁有兩道膠圈槽用來和磁流體19內(nèi)表面密封真空，轉(zhuǎn)軸組件36中部突出部分還有一個銷孔，磁流體19內(nèi)環(huán)也加工有一個銷孔，用一個銷子將兩個銷孔連接，就保證了轉(zhuǎn)軸組件36轉(zhuǎn)動時磁流體19內(nèi)環(huán)也會同步轉(zhuǎn)動。將第二墊環(huán)35套在轉(zhuǎn)軸組件36外部，放置在第一軸承20上，再將同步輪21套在轉(zhuǎn)軸組件36外部，在兩者結(jié)合處加工有鍵槽，當(dāng)外部電機轉(zhuǎn)動時，同步輪21、轉(zhuǎn)軸組件36和磁流體19內(nèi)環(huán)會同步轉(zhuǎn)動。將承壓環(huán)22安裝在轉(zhuǎn)軸組件36螺紋處，用來固定組裝件的軸向。
[0023]將第一油封24和水接頭33安裝在出水法蘭25相應(yīng)位置處，就組成了出水組件，將出水組件固定在水路安裝法蘭23上，進而安裝在驅(qū)動密封座18上。
[0024]將進水管4按照圖示和進水軸30焊接在一起，將焊接件穿過進水法蘭26，在進水法蘭26兩端分別一次安裝第二油封28、第一墊環(huán)34和第二軸承27，注意第二油封28的唇口方向，再將水接頭33安裝在相應(yīng)位置，就組成了進水組件?？蓪⑦M水組件安裝在出水法蘭25上，再將氣缸安裝板29用螺栓固定在進水法蘭26上。聯(lián)動法蘭32安裝在旋轉(zhuǎn)氣缸31上，中心有一個方形孔，可以套在進水軸30上方，并將旋轉(zhuǎn)氣缸31固定在氣缸安裝板29上，這時，驅(qū)動單元組裝完成。
[0025]在開始正式的磁控濺射鍍膜前的，還需要一項準(zhǔn)備工作，稱之為預(yù)濺射，用來清除靶表面的吸附氣體、各種污染物和氧化物。因此，在靶面與基底之間都會有一個活動擋板使基底免受污染，也可以去除前期非穩(wěn)態(tài)時的粘附力弱的靶原子。本專利因為在進水組件兩端增加了第二油封28和第二軸承27，并改變了進水管的結(jié)構(gòu)，增加了一段可以轉(zhuǎn)動的進水軸30，添加了制動機構(gòu)旋轉(zhuǎn)氣缸31，當(dāng)旋轉(zhuǎn)氣缸31在壓縮空氣的作用下轉(zhuǎn)動時，就會帶動聯(lián)動法蘭32、進水軸焊接件和磁路組件一起轉(zhuǎn)動。這時再次開啟預(yù)濺射時，因為磁路方向發(fā)生變化，就不會有本段落開頭部分所描述的靶表面的吸附氣體、污染物、氧化物和粘附力低的靶原子沉積在基底表面，就不需要傳統(tǒng)的擋板再對基底進行遮擋。其中，第二油封28的作用是密封冷卻水，保證進水軸30轉(zhuǎn)動時，水不會漏出；第二軸承27的作用是支撐進水軸30轉(zhuǎn)動，降低其運動過程中的摩擦，并保證回轉(zhuǎn)精度;進水軸30的作用是增加冷卻水流量并支撐第二油封28，上方的矩形部分是和聯(lián)動法蘭32連接，使旋轉(zhuǎn)氣缸31的動力得以傳輸?shù)竭M水軸30上;旋轉(zhuǎn)氣缸31優(yōu)先選取轉(zhuǎn)角180°，氣缸的載荷需考慮進水軸焊接件所連接的磁路組件的重量和靶管內(nèi)部的冷卻水對磁路轉(zhuǎn)動帶來的阻力。
[0026]對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本發(fā)明不限于上述示范性實施例的細節(jié)，而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實現(xiàn)本發(fā)明。因此，無論從哪一點來看，均應(yīng)將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0027]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個整體，各實施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實施方式。
【主權(quán)項】
1.一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，包括進水管以及設(shè)置在進水管外部的磁路組件，其特征在于:在進水管上端設(shè)置一個進水軸，所述進水軸與水接頭相連接，進水軸與進水管相通，在進水軸的上端設(shè)置一個旋轉(zhuǎn)氣缸。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)氣缸與進水軸通過設(shè)置聯(lián)動法蘭實現(xiàn)傳動。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，旋轉(zhuǎn)氣缸下方設(shè)置一個氣缸安裝板。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，進水軸與進水管連接處通過設(shè)置軸承傳動。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，所述軸承設(shè)置有油封。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)氣缸選用的轉(zhuǎn)動角度為180°的氣缸。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種預(yù)濺射時磁路組件可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，包括進水管以及設(shè)置在進水管外部的磁路組件，其中，在進水管上端設(shè)置一個進水軸，所述進水軸與水接頭相連接，進水軸與進水管相通，在進水軸的上端設(shè)置一個旋轉(zhuǎn)氣缸。所述旋轉(zhuǎn)氣缸與進水軸通過設(shè)置聯(lián)動法蘭實現(xiàn)傳動。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明提供了一種磁路可以轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)陰極，磁路方向轉(zhuǎn)變時，靶原子轟擊的方向相應(yīng)改變，就不需要在陰極和基底之間添加擋板機構(gòu)，可以簡化鍍膜設(shè)備并節(jié)省設(shè)備空間。
【IPC分類】H01J37/34, C23C14/35
【公開號】CN105624628
【申請?zhí)枴緾N201610160459
【發(fā)明人】楊元才, 錢鵬亮, 鄭戰(zhàn)偉, 朱振東, 林晨, 周通, 譚新
【申請人】上海福宜真空設(shè)備有限公司
【公開日】2016年6月1日
【申請日】2016年3月21日