光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，包括交替排列的拋光機(jī)構(gòu)和研磨機(jī)構(gòu)，拋光機(jī)構(gòu)包括基座、固定于基座的支撐桿、拋光輔具和拋光工作盤，拋光輔具與支撐桿相連，研磨機(jī)構(gòu)通過搖桿與支撐桿末端相連，支撐桿末端底部還設(shè)有滑塊，與支撐桿末端相鄰的另一拋光機(jī)構(gòu)具有滑臺，支撐桿連有第一動力裝置，在所述第一動力裝置的帶動下，滑塊沿滑臺滑動，拋光輔具和研磨機(jī)構(gòu)隨支撐桿擺動，研磨機(jī)構(gòu)包括與搖桿相連的偏心研磨輪。本發(fā)明的研磨拋光系統(tǒng)設(shè)計(jì)合理，能夠有效提高研磨拋光效果，可跟據(jù)需要連接相關(guān)子設(shè)備，合理安排空間。
【專利說明】
光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，屬于玻璃研磨拋光裝置技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，光學(xué)晶體、精密閥門、光學(xué)玻璃、平板顯示器的需求日益增加，這些材料主要通過研磨拋光手段達(dá)到使用要求。玻璃深加工制作光學(xué)玻璃的過程中，需要對玻璃進(jìn)行研磨然后再拋光，然而，現(xiàn)有的研磨裝置對玻璃表面的研磨拋光效果有待提高，設(shè)備所占空間較大，不能根據(jù)需要合理安排。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，該研磨拋光系統(tǒng)設(shè)計(jì)合理，能夠有效提高研磨拋光效果，可跟據(jù)需要連接相關(guān)子設(shè)備，合理安排空間。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，包括交替排列的拋光機(jī)構(gòu)和研磨機(jī)構(gòu)，所述拋光機(jī)構(gòu)包括基座、固定于基座的支撐桿、拋光輔具和拋光工作盤，拋光輔具與支撐桿相連，所述研磨機(jī)構(gòu)通過搖桿與支撐桿末端相連，支撐桿末端底部還設(shè)有滑塊，與支撐桿末端相鄰的另一拋光機(jī)構(gòu)具有滑臺，所述支撐桿連有第一動力裝置，在所述第一動力裝置的帶動下，滑塊沿滑臺滑動，拋光輔具和研磨機(jī)構(gòu)隨支撐桿擺動，所述研磨機(jī)構(gòu)包括與搖桿相連的偏心研磨輪。
[0005]優(yōu)選地，所述拋光工作盤包括裝有待磨玻璃的上料盤、裝有拋光墊的下磨盤和拋光漿池，下磨盤置于所述拋光漿池內(nèi)，且所述下磨盤連有帶動下磨盤自傳的第二動力裝置，所述拋光輔具末端具有抵觸部，所述抵觸部連有觸棒，所述上料盤頂部具有與所述觸棒相抵觸的連接塊。
[0006]優(yōu)選地，所述拋光輔具還包括輔具主體和定位機(jī)構(gòu)，所述輔具主體上具有限高孔，所述抵觸部設(shè)于所述輔具主體，所述定位機(jī)構(gòu)一端套設(shè)于所述支撐桿上，另一端沿所述限高孔向下延伸，調(diào)整好所述抵觸部相對于支撐桿的高度差后，利用緊固件穿過限高孔抵住定位機(jī)構(gòu)定位。
[0007]優(yōu)選地，所述滑臺為具有弧度的板件，所述滑臺表面具有沿滑動方向設(shè)置的凹槽，所述凹槽呈曲線或折線，所述凹槽內(nèi)裝有潤滑液。
[0008]優(yōu)選地，所述上料盤包括盤殼和載具，所述載具部分容置于盤殼內(nèi)，所述載具表面粘接有若干待磨玻璃。
[0009]優(yōu)選地，所述拋光機(jī)構(gòu)和研磨機(jī)構(gòu)排列成環(huán)形或線形生產(chǎn)線。
[0010]本發(fā)明所達(dá)到的有益效果:
本發(fā)明的研磨拋光系統(tǒng)設(shè)計(jì)合理，能夠有效提高研磨拋光效果，可跟據(jù)需要連接相關(guān)子設(shè)備，合理安排空間。系統(tǒng)中拋光機(jī)構(gòu)和研磨機(jī)構(gòu)交替排列，而研磨機(jī)構(gòu)與下一組中的拋光機(jī)構(gòu)通過滑臺型銜接，因此可根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)情況選擇合適數(shù)量的拋光機(jī)構(gòu)和研磨機(jī)構(gòu)，多組拋光機(jī)構(gòu)和研磨機(jī)構(gòu)可以連接成線形生產(chǎn)線或環(huán)形生產(chǎn)線。
【附圖說明】
[0011]圖1是優(yōu)選實(shí)施例中研磨拋光系統(tǒng)的俯視圖；
圖2是圖1中拋光工作盤的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3是圖2中上料盤的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4是圖1中拋光輔具的側(cè)視圖；
圖5是圖1中研磨機(jī)構(gòu)在系統(tǒng)中的俯視圖；其中:
1.拋光工作盤，11.上料盤，111.連接塊，112.盤殼，113.載具，114.膠條，115.待磨玻璃，12.下磨盤，121.拋光墊，13.拋光漿池，2.拋光機(jī)構(gòu)，21.輔具主體，22.定位機(jī)構(gòu)，23.抵觸部，24.觸棒，3.研磨機(jī)構(gòu)，33.研磨輪，331.導(dǎo)向桿，333.凹槽，34.搖桿，342.固定頭，35.滑臺，351.溝槽，36.緊固件，37.限高孔，4.基座，5.支撐桿，51.滑塊。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而不能以此來限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0013]如圖1-5所不，一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，包括交替排列的拋光機(jī)構(gòu)2和研磨機(jī)構(gòu)3，拋光機(jī)構(gòu)2包括基座4、固定于基座4的支撐桿5、拋光輔具和拋光工作盤I，拋光輔具與支撐桿5相連，研磨機(jī)構(gòu)3通過搖桿34與支撐桿末5端相連，支撐桿5末端底部還設(shè)有滑塊51，與支撐桿5末端相鄰的另一拋光機(jī)構(gòu)具有滑臺35，支撐桿5連有第一動力裝置，在第一動力裝置的帶動下，滑塊51沿滑臺35滑動，拋光輔具和研磨機(jī)構(gòu)3隨支撐桿5擺動，研磨機(jī)構(gòu)3包括與搖桿34相連的偏心研磨輪33。
[0014]具體地，研磨輪33上沿直徑方向開設(shè)凹槽333，該凹槽333的長度大于或等于研磨輪33半徑的長度，且凹槽333內(nèi)沿長度方向設(shè)有導(dǎo)向桿331。搖桿34與研磨輪33連接的一端具有固定頭342，固定頭342能夠沿導(dǎo)向桿331移動，通過調(diào)節(jié)固定頭342在導(dǎo)向桿331的位置來改變搖桿34和研磨輪33固定點(diǎn)與研磨輪33圓心的距離，即調(diào)節(jié)偏心的程度。偏心研磨更有利于充分研磨，提高研磨質(zhì)量。
[0015]拋光工作盤I包括裝有待磨玻璃的上料盤11、裝有拋光墊121的下磨盤12和拋光漿池13，下磨盤12置于所述拋光漿池13內(nèi)，且下磨盤12連有帶動下磨盤12自傳的第二動力裝置，拋光輔具末端具有抵觸部23，抵觸部23連有觸棒24，上料盤11頂部具有與觸棒24相抵觸的連接塊111。上料盤11包括盤殼112和載具113，載具113部分容置于盤殼112內(nèi)，載具113表面粘接有若干待磨玻璃115，盤殼112具有向其內(nèi)壁延伸的膠條114，載具113通過膠條114與載具113固定。待磨玻璃(片)115通過膠粘固定于載具113上，載具113上可以固定多個大小形狀相同或不同的待磨玻璃片115，簡單實(shí)用，提高加工效率。
[0016]拋光輔具還包括輔具主體21和定位機(jī)構(gòu)22，輔具主體21上具有限高孔37，抵觸部設(shè)于輔具主體21，定位機(jī)構(gòu)22—端套設(shè)于支撐桿5上，另一端沿限高孔37向下延伸，調(diào)整好抵觸部23相對于支撐桿5的高度差后，利用緊固件36穿過限高孔37抵住定位機(jī)構(gòu)22定位。
[0017]滑臺35為具有弧度的板件，滑臺35表面具有沿滑動方向設(shè)置的溝槽351，溝槽351呈曲線或折線，溝槽351內(nèi)裝有潤滑液。
[0018]拋光機(jī)構(gòu)2和研磨機(jī)構(gòu)3排列成環(huán)形或線形生產(chǎn)線。當(dāng)是線形生產(chǎn)線時，該生產(chǎn)線兩端均為拋光機(jī)構(gòu)，且第一個拋光機(jī)構(gòu)上不設(shè)置滑臺，當(dāng)是環(huán)形生產(chǎn)線時，第一個拋光機(jī)構(gòu)設(shè)置滑臺，用來與最后一個研磨機(jī)構(gòu)銜接呈環(huán)。
[0019]本系統(tǒng)在使用時，包含一個拋光機(jī)構(gòu)和研磨機(jī)構(gòu)為一組計(jì)，每組的支撐桿一端固定于基座上，在第一動力裝置的帶動下，拋光輔具擺動，在拋光輔具的帶動下，觸棒抵住的上料盤也隨之?dāng)[動，此時緊貼上料盤的下磨盤自傳，對玻璃拋光，而支撐桿另一端的滑塊沿滑臺滑動，與滑塊相連的搖桿帶動研磨輪偏心轉(zhuǎn)動，研磨與拋光兩道工序同時進(jìn)行。
[0020]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變形，這些改進(jìn)和變形也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，其特征在于，包括交替排列的拋光機(jī)構(gòu)和研磨機(jī)構(gòu)，所述拋光機(jī)構(gòu)包括基座、固定于基座的支撐桿、拋光輔具和拋光工作盤，拋光輔具與支撐桿相連，所述研磨機(jī)構(gòu)通過搖桿與支撐桿末端相連，支撐桿末端底部還設(shè)有滑塊，與支撐桿末端相鄰的另一拋光機(jī)構(gòu)具有滑臺，所述支撐桿連有第一動力裝置，在所述第一動力裝置的帶動下，滑塊沿滑臺滑動，拋光輔具和研磨機(jī)構(gòu)隨支撐桿擺動，所述研磨機(jī)構(gòu)包括與搖桿相連的偏心研磨輪。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述拋光工作盤包括裝有待磨玻璃的上料盤、裝有拋光墊的下磨盤和拋光漿池，下磨盤置于所述拋光漿池內(nèi)，且所述下磨盤連有帶動下磨盤自傳的第二動力裝置，所述拋光輔具末端具有抵觸部，所述抵觸部連有觸棒，所述上料盤頂部具有與所述觸棒相抵觸的連接塊。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述拋光輔具還包括輔具主體和定位機(jī)構(gòu)，所述輔具主體上具有限高孔，所述抵觸部設(shè)于所述輔具主體，所述定位機(jī)構(gòu)一端套設(shè)于所述支撐桿上，另一端沿所述限高孔向下延伸，調(diào)整好所述抵觸部相對于支撐桿的高度差后，利用緊固件穿過限高孔抵住定位機(jī)構(gòu)定位。4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述滑臺為具有弧度的板件，所述滑臺表面具有沿滑動方向設(shè)置的凹槽，所述凹槽呈曲線或折線，所述凹槽內(nèi)裝有潤滑液。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述上料盤包括盤殼和載具，所述載具部分容置于盤殼內(nèi)，所述載具表面粘接有若干待磨玻璃。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)玻璃研磨拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述拋光機(jī)構(gòu)和研磨機(jī)構(gòu)排列成環(huán)形或線形生產(chǎn)線。
【文檔編號】B24B37/34GK105834860SQ201610366384
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年5月30日
【發(fā)明人】陳洪良
【申請人】蘇州微米光學(xué)科技有限公司