用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型與半導(dǎo)體圓片制程有關(guān)，特別是指一種用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)在的半導(dǎo)體芯片都是以立體或是多層布線方式架構(gòu)出成千上萬個(gè)晶體管，因此利用化學(xué)機(jī)械研磨(Chemical Mechanical Polishing，CMP)處理半導(dǎo)體圓片表面，進(jìn)而讓圓片表面平坦化，成為半導(dǎo)體圓片制程的重要步驟。
[0003]如圖7所示，目前的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備主要是把大量的漿料80直接注入至旋轉(zhuǎn)的研磨墊81表面，漿料80再隨著研磨墊81的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)入圓片82與研磨墊81之間，用以達(dá)成研磨、清洗，以及潤滑圓片的作用，使圓片表面被研磨出適當(dāng)?shù)谋砻尜|(zhì)量狀態(tài)。
[0004]但是，由于上述以單一注入漿料于研磨墊的方式，容易讓大量的漿料散布在無法被研磨的范圍，漿料的分布狀態(tài)非常不均勻，因此使?jié){料的使用過于浪費(fèi)，增加成本與環(huán)保問題，同時(shí)也無法提升半導(dǎo)體圓片的研磨效果。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的主要目的乃在于提供一種用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送裝置，其可于研磨過程中均勻地分布漿料，可適當(dāng)?shù)乜刂茲{料的使用量、漿料的分布方向與范圍，而且便于清洗與維修。
[0006]為了達(dá)成前揭目的，本實(shí)用新型所提供用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送裝置，包括一本體與一輸出件，該本體具有一施放端，該本體可受帶動(dòng)而于一研磨平面上方原地偏擺；該輸出件設(shè)有一通道與多個(gè)連通該通道的噴孔，該通道沿一中心軸延伸，所述噴孔沿一路徑排列于該輸出件，且各該噴孔朝向該研磨平面，該輸出件樞設(shè)于該施放端，使該漿料流動(dòng)于該通道，且自各該噴孔流向該研磨平面。
[0007]其中，該輸出件為管體，所述噴孔呈直線排列于該輸出件的管壁。
[0008]其中，該施放端具有一頂部，該頂部具有一第一邊，該第一邊凹設(shè)一凹陷部，該頂部下方形成出二相互間隔的側(cè)壁，該輸出件樞設(shè)于該二側(cè)壁之間。
[0009]其中，該本體具有一定位端，該施放端與該定位端之間具有一身部，該身部底面設(shè)有多個(gè)朝向該研磨平面的噴嘴。
[0010]其中，該輸出件為可樞設(shè)與可拆卸地設(shè)于該施放端。
[0011]本實(shí)用新型的有益效果:通過上述構(gòu)件，本實(shí)用新型即可達(dá)成可均勻地分布漿料，可適當(dāng)?shù)乜刂茲{料的使用量、漿料的分布方向與范圍，以及便于清洗與維修等技術(shù)功效。
[0012]有關(guān)本實(shí)用新型所提供的詳細(xì)架構(gòu)、特點(diǎn)、或技術(shù)內(nèi)容將于后續(xù)的實(shí)施方式詳細(xì)說明中予以描述。然而，在本實(shí)用新型領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者應(yīng)能了解，所述詳細(xì)說明以及實(shí)施本實(shí)用新型所列舉的特定實(shí)施例，僅是用于說明本實(shí)用新型，并非用以限制本實(shí)用新型的專利申請(qǐng)范圍。
【附圖說明】
[0013]圖1為本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的俯視圖。
[0014]圖2為本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的立體圖，主要顯示本體的底部狀態(tài)。
[0015]圖3為本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的局部視圖，主要顯示本體的施放端的結(jié)構(gòu)。
[0016]圖4類同于圖3，主要是從另一角度顯示本體的施放端的結(jié)構(gòu)，其中只顯示出輸出件的部分結(jié)構(gòu)。
[0017]圖5為本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例應(yīng)用于化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的俯視圖。
[0018]圖6為本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例應(yīng)用于化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的側(cè)視圖。
[0019]圖7為現(xiàn)有化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的側(cè)視圖。
[0020]【符號(hào)說明】
[0021]本體10施放端20 頂部22
[0022]第一邊24凹陷部26 側(cè)壁28
[0023]定位端30身部40 噴嘴42
[0024]研磨平面50輸出件60 通道62
[0025]噴孔64中心軸63 管壁66
【具體實(shí)施方式】
[0026]以下通過所列舉的較佳實(shí)施例配合圖式，詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容及特征。如圖1至圖4所示為本實(shí)用新型所提供用于化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)的漿料傳送裝置，其包括一本體10與一輸出件60。
[0027]本體10具有一施放端20與一定位端30，施放端20與定位端30之間具有一身部40，本體10是以定位端30設(shè)于研磨機(jī)臺(tái)(圖中未示)，使本體10可受帶動(dòng)而于一研磨平面50上方原地偏擺。施放端20具有一頂部22，頂部22具有一第一邊24，第一邊24凹設(shè)一凹陷部26，使頂部22下方形成出二相互間隔的側(cè)壁28。身部40底面另設(shè)有多個(gè)噴嘴42，而且其中一噴嘴42位于凹陷部26。本體10內(nèi)部可導(dǎo)通用以洗滌、清潔半導(dǎo)體圓片與研磨墊的清洗液(例如水)，使清洗液經(jīng)由各噴嘴42朝研磨平面50噴灑。
[0028]輸出件60于本較佳實(shí)施例為管體，輸出件60內(nèi)部具有一通道62，通道62沿一中心軸63延伸于輸出件60，輸出件60設(shè)有多個(gè)自外周面連通于通道62的噴孔64，噴孔64沿著預(yù)定路徑延伸于輸出件60的管壁，于本較佳實(shí)施例的噴孔64是沿平行于輸出件60的中心軸63地直線排列于管壁66，而且各噴孔64皆朝向研磨平面50。當(dāng)然在同樣的設(shè)計(jì)概念下，噴孔64也可依非直線方式，例如曲線狀排列于管壁66。輸出件60 二端樞設(shè)于施放端20的二側(cè)壁28，使輸出件60形成橫設(shè)于施放端20的頂部22下方，同時(shí)鄰近且概略平行于第一邊24。輸出件60的通道62連通至本體10內(nèi)部導(dǎo)引的漿料，通道用以供漿料流動(dòng)，且自各噴孔64流向研磨平面50。
[0029]經(jīng)由上述本實(shí)用新型的組成構(gòu)件說明，如圖5所示，由于本體10可偏轉(zhuǎn)地設(shè)于研磨機(jī)臺(tái)，當(dāng)本體10偏轉(zhuǎn)且施放端20位于研磨平面50上方，如圖6所示，借著本實(shí)用新型所提供的噴孔64與傳統(tǒng)漿料輸出管體之間存在尺寸上的差異，噴孔64的孔徑尺寸小于傳統(tǒng)漿料輸出管體的孔徑，多個(gè)噴孔64所流出的漿料即可呈線狀朝研磨平面50方向噴灑，再透過旋轉(zhuǎn)的研磨平面50使?jié){料均勻涂布在研磨平面50，不會(huì)如現(xiàn)有化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備將大量漿料噴在研磨平面般地浪費(fèi)。
[0030]再者，由于輸出件60樞設(shè)于施放端20，輸出件60可以依使用需要而調(diào)整角度，甚至是拆卸于施放端20，讓噴孔64能夠隨著輸出件60相對(duì)于施放端20的位置調(diào)整涂布方向與區(qū)域，增加化學(xué)機(jī)械研磨制程的適用范圍，以及便于維修的增進(jìn)功效，進(jìn)而達(dá)成本實(shí)用新型的實(shí)用新型目的。
[0031]最后，必須再次說明，本實(shí)用新型于前揭實(shí)施例中所揭露的構(gòu)成元件僅為舉例說明，并非用來限制本案的范圍，其他等效元件的替代或變化，亦應(yīng)為本案的申請(qǐng)專利范圍所涵蓋。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送裝置，其特征在于包括: 一本體，具有一施放端，該本體可受帶動(dòng)而于一研磨平面上方原地偏擺；以及 一輸出件，設(shè)有一通道與多個(gè)連通該通道的噴孔，該通道沿一中心軸延伸，所述噴孔沿一路徑排列于該輸出件，且各該噴孔朝向該研磨平面，該輸出件樞設(shè)于該施放端，使該漿料流動(dòng)于該通道，且自各該噴孔流向該研磨平面。
2.如權(quán)利要求1所述用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送裝置，其特征在于，該輸出件為管體，所述噴孔呈直線排列于該輸出件的管壁。
3.如權(quán)利要求1所述用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送裝置，其特征在于，該施放端具有一頂部，該頂部具有一第一邊，該第一邊凹設(shè)一凹陷部，該頂部下方形成出二相互間隔的側(cè)壁，該輸出件樞設(shè)于該二側(cè)壁之間。
4.如權(quán)利要求1所述用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送裝置，其特征在于，該本體具有一定位端，該施放端與該定位端之間具有一身部，該身部底面設(shè)有多個(gè)朝向該研磨平面的噴嘴。
5.如權(quán)利要求1所述用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送裝置，其特征在于，該輸出件為可樞設(shè)與可拆卸地設(shè)于該施放端。
【專利摘要】本實(shí)用新型是一種用于化學(xué)機(jī)械研磨的漿料傳送裝置，包括一本體與一輸出件，本體具有一施放端，本體可受帶動(dòng)而于一研磨平面上方原地偏擺，輸出件設(shè)有一通道與多個(gè)連通通道的噴孔，通道沿一中心軸延伸，各噴孔沿一路徑排列于輸出件，且各噴孔朝向研磨平面，輸出件樞設(shè)于施放端，使?jié){料流動(dòng)于通道，且自各噴孔流向研磨平面；通過上述構(gòu)件，本實(shí)用新型即可達(dá)成可均勻地分布漿料，可適當(dāng)?shù)乜刂茲{料的使用量、漿料的分布方向與范圍，以及便于清洗與維修等技術(shù)功效。
【IPC分類】B24B57-02
【公開號(hào)】CN204450229
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420867613
【發(fā)明人】劉元周
【申請(qǐng)人】科建國際實(shí)業(yè)股份有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請(qǐng)日】2014年12月31日