Rh真空室合金溜槽的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種RH真空室合金溜槽，屬于冶金窯爐技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，RH真空室合金溜槽本體由合金溜槽方磚砌筑而成，溜槽本體的四周由襯磚砌筑而成，在使用過程中合金溜槽方磚易損壞。合金溜槽方磚的損壞主要有2個方面:1、受物料墮落沖擊，機(jī)械損壞；2、預(yù)熱器燒嘴火焰的強(qiáng)力沖擊使內(nèi)襯強(qiáng)度下降，氧化合金與高溫下的耐火磚之間產(chǎn)生反應(yīng)而受到侵蝕，從而引起損毀。對合金溜槽方磚進(jìn)行挖補是延長真空室的使用壽命的重要手段。現(xiàn)有技術(shù)中，襯磚的砌筑結(jié)構(gòu)不合理，挖補時除合金溜槽方磚需要拆除和更換外，合金溜槽方磚上方的襯磚也要拆除和更換，導(dǎo)致用磚量較大，且工期較長，制約了真空室的使用效率。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是:提供一種結(jié)構(gòu)更合理、易于維修的RH真空室合金溜槽。
[0004]為解決上述技術(shù)問題本實用新型所采用的技術(shù)方案是:RH真空室合金溜槽，包括由合金溜槽方磚砌筑而成的溜槽本體，溜槽本體的四周為由襯磚砌筑形成的襯磚區(qū)，襯磚區(qū)內(nèi)設(shè)有鎖磚區(qū)，鎖磚區(qū)由鎖磚砌筑而成，鎖磚具有沿溜槽本體寬度方向呈相對設(shè)置的第一側(cè)面和第二側(cè)面，第一側(cè)面具有凸塊、第二側(cè)面具有凹槽，相鄰兩件鎖磚通過凸塊與凹槽相配合實現(xiàn)鎖扣，鎖磚區(qū)設(shè)于溜槽本體上方，且使得鎖磚區(qū)在水平面的投影可將溜槽本體在水平面的投影完全覆蓋。
[0005]進(jìn)一步的是:溜槽本體頂面與襯磚區(qū)底面之間設(shè)有第一襯磚區(qū)，溜槽本體底部下方設(shè)有第二襯磚區(qū)，第一襯磚區(qū)的寬度、第二襯磚區(qū)的寬度均與溜槽本體的寬度相同，第一襯磚區(qū)的襯磚、第二襯磚區(qū)的襯磚豎向設(shè)置，襯磚區(qū)除去第一襯磚區(qū)、第二襯磚區(qū)的部分，其襯磚橫向設(shè)置。
[0006]進(jìn)一步的是:凸塊的高度為1mm?15mm，凹槽的深度為1mm?15mm。
[0007]本實用新型的有益效果是:對合金溜槽方磚進(jìn)行挖補時，拆除過程中鎖磚區(qū)及其上方的襯磚不會垮塌，只需對合金溜槽方磚及其周圍的少量襯磚進(jìn)行拆除和恢復(fù)，減少了用磚量，縮短了工期。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0009]圖中零部件、部位及編號:1-溜槽本體、2-襯磚區(qū)、21-第一襯磚區(qū)、22-第二襯磚區(qū)、3-鎖磚區(qū)、31-鎖磚、311-第一側(cè)面、312-第二側(cè)面。
【具體實施方式】
[0010]下面結(jié)合附圖對本實用新型作進(jìn)一步說明。
[0011]如圖1所示，本實用新型包括由合金溜槽方磚砌筑而成的溜槽本體1，溜槽本體I的四周為由襯磚砌筑形成的襯磚區(qū)2，襯磚區(qū)2內(nèi)設(shè)有鎖磚區(qū)3，鎖磚區(qū)3由鎖磚31砌筑而成，鎖磚31具有沿溜槽本體I寬度方向呈相對設(shè)置的第一側(cè)面311和第二側(cè)面312，第一側(cè)面311具有凸塊、第二側(cè)面312具有凹槽，相鄰兩件鎖磚31通過凸塊與凹槽相配合實現(xiàn)鎖扣，鎖磚區(qū)3設(shè)于溜槽本體I上方，且使得鎖磚區(qū)3在水平面的投影可將溜槽本體I在水平面的投影完全覆蓋。
[0012]對合金溜槽方磚進(jìn)行挖補時，拆除過程中鎖磚區(qū)3及其上方的襯磚不會垮塌，只需對合金溜槽方磚及其周圍的少量襯磚進(jìn)行拆除和恢復(fù)，減少了用磚量，縮短了工期。鎖磚區(qū)3的寬度比合金溜槽方磚挖補區(qū)的寬度略大即可。
[0013]凸塊的高度優(yōu)選為1mm?15mm，凹槽的深度優(yōu)選為1mm?15mm，可使得結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定，保證拆除過程中鎖磚及其上方的襯磚不會垮塌。
[0014]作為對本實用新型的改進(jìn)，溜槽本體I頂面與襯磚區(qū)2底面之間設(shè)有第一襯磚區(qū)21，溜槽本體I底部下方設(shè)有第二襯磚區(qū)22，第一襯磚區(qū)21的寬度、第二襯磚區(qū)22的寬度均與溜槽本體I的寬度相同，第一襯磚區(qū)21的襯磚、第二襯磚區(qū)22的襯磚豎向設(shè)置，襯磚區(qū)2除去第一襯磚區(qū)21、第二襯磚區(qū)22的部分，其襯磚橫向設(shè)置。采用該結(jié)構(gòu)，可方便襯磚的拆除，提尚維修效率。
【主權(quán)項】
1.RH真空室合金溜槽，包括由合金溜槽方磚砌筑而成的溜槽本體(I)，所述溜槽本體(I)的四周為由襯磚砌筑形成的襯磚區(qū)(2)，其特征在于:所述襯磚區(qū)(2)內(nèi)設(shè)有鎖磚區(qū)(3)，所述鎖磚區(qū)(3)由鎖磚(31)砌筑而成，所述鎖磚(31)具有沿溜槽本體(I)寬度方向呈相對設(shè)置的第一側(cè)面(311)和第二側(cè)面(312)，所述第一側(cè)面(311)具有凸塊、第二側(cè)面(312)具有凹槽，相鄰兩件鎖磚(31)通過凸塊與凹槽相配合實現(xiàn)鎖扣，所述鎖磚區(qū)(3)設(shè)于溜槽本體(I)上方，且使得鎖磚區(qū)(3)在水平面的投影可將溜槽本體(I)在水平面的投影完全覆蓋。
2.如權(quán)利要求1所述的RH真空室合金溜槽，其特征在于:所述溜槽本體(I)頂面與襯磚區(qū)(2)底面之間設(shè)有第一襯磚區(qū)(21)，所述溜槽本體(I)底部下方設(shè)有第二襯磚區(qū)(22)，所述第一襯磚區(qū)(21)的寬度、第二襯磚區(qū)(22)的寬度均與溜槽本體(I)的寬度相同，所述第一襯磚區(qū)(21)的襯磚、第二襯磚區(qū)(22)的襯磚豎向設(shè)置，所述襯磚區(qū)(2)除去第一襯磚區(qū)(21)、第二襯磚區(qū)(22)的部分，其襯磚橫向設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1所述的RH真空室合金溜槽，其特征在于:所述凸塊的高度為1mm?15_，所述凹槽的深度為1mm?15_。
【專利摘要】本實用新型涉及一種RH真空室合金溜槽，屬于冶金窯爐技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型包括由合金溜槽方磚砌筑而成的溜槽本體，溜槽本體的四周為由襯磚砌筑形成的襯磚區(qū)，襯磚區(qū)內(nèi)設(shè)有鎖磚區(qū)，鎖磚區(qū)由鎖磚砌筑而成，鎖磚具有沿溜槽本體寬度方向呈相對設(shè)置的第一側(cè)面和第二側(cè)面，第一側(cè)面具有凸塊、第二側(cè)面具有凹槽，相鄰兩件鎖磚通過凸塊與凹槽相配合實現(xiàn)鎖扣，鎖磚區(qū)設(shè)于溜槽本體上方，且使得鎖磚區(qū)在水平面的投影可將溜槽本體在水平面的投影完全覆蓋。采用本實用新型后，對合金溜槽方磚進(jìn)行挖補時，拆除過程中鎖磚區(qū)及其上方的襯磚不會垮塌，只需對合金溜槽方磚及其周圍的少量襯磚進(jìn)行拆除和恢復(fù)，減少了用磚量，縮短了工期。
【IPC分類】C21C7-10
【公開號】CN204490932
【申請?zhí)枴緾N201520158256
【發(fā)明人】童賢強(qiáng), 鄒秀梅, 李平凡, 楊森祥, 解明科, 秦劍峰
【申請人】攀鋼集團(tuán)攀枝花鋼釩有限公司
【公開日】2015年7月22日
【申請日】2015年3月19日