一種高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種沸騰焙燒、循環(huán)流化床焙燒中焙砂水淬處理技術(shù)，尤其涉及一種高溫焙砂(>600 °C )直接水淬系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]難處理金礦是指金被硫化物、砷化物、脈石包裹或在浸金過程中砷、銻、炭等有害物干擾，難以用常規(guī)的氰化法提取黃金的金礦，通過預(yù)處理以后的礦石方可采用常規(guī)的方法提金。目前，常用的預(yù)處理方法有:氧化焙燒、還原焙燒、硫化焙燒、化學(xué)氧化、生物氧化法、加壓氧化法以及專門處理銻礦物的高壓低堿氧化法等等。
[0003]目前，在難處理金精礦的焙燒預(yù)處理過程中，焙燒后的焙砂經(jīng)過焙燒冷卻器后通過刮板運(yùn)輸機(jī)或滾筒排渣機(jī)運(yùn)輸至水淬設(shè)備進(jìn)行水淬。焙砂由機(jī)械設(shè)備轉(zhuǎn)運(yùn)至水淬設(shè)備的過程中，有部分熱量在運(yùn)輸過程中損失掉，沒有得到充分的利用。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種焙砂熱量利用率高的高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)。
[0005]本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0006]本實(shí)用新型的高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)，包括焙燒設(shè)備、回料設(shè)備，所述回料設(shè)備的下方設(shè)有水淬設(shè)備，所述回料設(shè)備下部的出料口與所述水淬設(shè)備上部的進(jìn)料口通過下料管直接連接。
[0007]由上述本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)，由于回料設(shè)備下部的出料口與所述水淬設(shè)備上部的進(jìn)料口通過下料管直接連接。減少了機(jī)械運(yùn)輸設(shè)備，能更加有效的利用焙砂熱量。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0009]下面將對本實(shí)用新型實(shí)施例作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
[0010]本實(shí)用新型的高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)，其較佳的【具體實(shí)施方式】是:
[0011]包括焙燒設(shè)備、回料設(shè)備，所述回料設(shè)備的下方設(shè)有水淬設(shè)備，所述回料設(shè)備下部的出料口與所述水淬設(shè)備上部的進(jìn)料口通過下料管直接連接。
[0012]所述水淬設(shè)備的上部設(shè)有捕塵器。
[0013]本實(shí)用新型的高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)，具有工藝流程短、故障率低、熱損耗低、能有效的利用焙砂的溫度提高水淬效率等優(yōu)點(diǎn)?？善毡檫m用于沸騰焙燒、循環(huán)流化床焙燒中高溫焙砂直接水淬處理，可工業(yè)化生產(chǎn)。
[0014]能更加有效利用焙砂帶出熱量，排除了機(jī)械運(yùn)輸設(shè)備的使用，減少了機(jī)械設(shè)備轉(zhuǎn)運(yùn)過程中的熱量損失，減少機(jī)械設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)的故障，更加節(jié)能并有效的提高焙砂水淬中有價(jià)金屬的浸出率。
[0015]具體實(shí)施例:
[0016]如圖1所示，包括:
[0017]焙燒設(shè)備I一一此為焙燒設(shè)備，難處理金精礦在此設(shè)備中完成焙燒過程；
[0018]回料設(shè)備2—一此為回料設(shè)備，高溫焙砂通過此設(shè)備直接卸料(通過低壓風(fēng)輸送)；
[0019]水淬設(shè)備3--此為水淬設(shè)備，高溫焙砂在此設(shè)備中進(jìn)行水淬浸出；
[0020]捕塵器4——此為捕塵設(shè)備，捕收水淬蒸汽帶走的焙砂。
[0021]以上所述，僅為本實(shí)用新型較佳的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型披露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)，包括焙燒設(shè)備、回料設(shè)備，其特征在于，所述回料設(shè)備的下方設(shè)有水淬設(shè)備，所述回料設(shè)備下部的出料口與所述水淬設(shè)備上部的進(jìn)料口通過下料管直接連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)，其特征在于，所述水淬設(shè)備的上部設(shè)有捕塵器。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種高溫焙砂直接水淬系統(tǒng)，包括焙燒設(shè)備、回料設(shè)備，回料設(shè)備的下方設(shè)有水淬設(shè)備，回料設(shè)備下部的出料口與水淬設(shè)備上部的進(jìn)料口通過下料管直接連接。水淬設(shè)備的上部設(shè)有捕塵器。工藝流程短、故障率低、熱損耗低、能有效的利用焙砂的溫度提高水淬效率。可普遍適用于沸騰焙燒、循環(huán)流化床焙燒中高溫焙砂直接水淬處理。
【IPC分類】C22B1-00
【公開號(hào)】CN204569998
【申請?zhí)枴緾N201520241539
【發(fā)明人】孫聰, 王云, 郭持皓, 袁朝新, 常耀超, 孫留根, 李云, 黃海輝, 李大江, 徐曉輝, 彭達(dá)順, 劉大學(xué), 余群波, 韋其晉, 胡磊, 王為振, 梁東東
【申請人】北京礦冶研究總院
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2015年4月20日