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      一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號(hào):10072412閱讀:494來(lái)源:國(guó)知局
      一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng)的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及廢液處理系統(tǒng),特別是一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng)。
      【背景技術(shù)】
      [0002]酸性蝕刻液是一種用于印制電路板精細(xì)線路制作、多層板內(nèi)層制作的蝕刻液。現(xiàn)代電子工業(yè)的高速發(fā)展,電路板生產(chǎn)企業(yè)迅猛增加,此類企業(yè)的工業(yè)廢水對(duì)環(huán)境污染比較嚴(yán)重,而此類工業(yè)廢水中銅離子含量很高,因此由線路板生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)生的廢水、廢液所造成嚴(yán)重的環(huán)境污染和資源浪費(fèi)問(wèn)題日益受到社會(huì)的普遍關(guān)注。為了避免浪費(fèi)以及保護(hù)環(huán)境,需要對(duì)酸性蝕刻液進(jìn)行回收再利用。
      [0003]酸性蝕刻舊液的再生主要通過(guò)化學(xué)、電化學(xué)方法將其轉(zhuǎn)變?yōu)楹线m比重、透明和高氧化還原電位的酸性溶液,以維持印制電路板的穩(wěn)定、快速的蝕刻。其中化學(xué)再生是酸性氯化銅蝕刻液再生的主要方法,其原理是通過(guò)排放一定比例的蝕刻舊液(高比重),加入一定量的子液(低比重),或者在補(bǔ)加一定量的水,來(lái)調(diào)節(jié)蝕刻液的比重。同時(shí)子液中的氧化劑將一價(jià)銅離子氧化為二價(jià)銅離子,或者單獨(dú)加入氧化劑,提高蝕刻液氧化還原電位,從而恢復(fù)蝕刻液的原有性能。常見(jiàn)的氧化劑有空氣、氧氣、氯氣、臭氧、次氯酸鈉、氯酸鈉、雙氧水等。但是總銅不斷增加,最終需要對(duì)外排除一部分的酸性蝕刻液以維持一定的總銅濃度,不僅污染環(huán)境,還會(huì)造成大量銅和酸的浪費(fèi);電化學(xué)再生法,是一種在線的再生方法,通過(guò)電解可以產(chǎn)出具有商業(yè)價(jià)值的金屬銅,但同時(shí)會(huì)產(chǎn)生氯氣,形成具有污染的尾氣,不僅污染環(huán)境還造成浪費(fèi)。
      [0004]中國(guó)專利申請(qǐng)?zhí)枮?01020567155.0的專利,公開了一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng),該系統(tǒng)用于在線處理酸性蝕刻液,受到蝕刻線生產(chǎn)時(shí)間的限制,只能與蝕刻線同步生產(chǎn),并且其系統(tǒng)內(nèi)部的廢氣處理裝置,消耗了系統(tǒng)內(nèi)部的氯元素,雖然實(shí)現(xiàn)了環(huán)保,但導(dǎo)致資源的浪費(fèi),使得系統(tǒng)內(nèi)部氯元素流失,需要額外添加酸液以保證蝕刻液的效益。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0005]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),提供一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng)。
      [0006]本實(shí)用新型的目的通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn):一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng),包括蝕刻液處理系統(tǒng)、再生液循環(huán)系統(tǒng)、配液系統(tǒng)和氯氣回收系統(tǒng),蝕刻液處理系統(tǒng)包括蝕刻生產(chǎn)線、母液儲(chǔ)存罐、電解槽和溶解吸收系統(tǒng),電解槽包括陰極槽、膜和陽(yáng)極槽,母液儲(chǔ)存罐、陰極槽、陽(yáng)極槽、溶解吸收系統(tǒng)依次連通,蝕刻生產(chǎn)線分別與母液儲(chǔ)存罐和溶解吸收系統(tǒng)連通,溶解吸收系統(tǒng)與蝕刻生產(chǎn)線連通;
      [0007]氯氣回收系統(tǒng)包括洗氣系統(tǒng)和尾氣處理系統(tǒng),陽(yáng)極槽、洗氣系統(tǒng)和尾氣處理系統(tǒng)依次連通。
      [0008]所述的過(guò)濾膜為隔膜、陽(yáng)離子膜或陰離子膜。
      [0009]所述的陰極槽通過(guò)電解得到電解銅。
      [0010]所述的電解槽內(nèi)設(shè)有離子濃度檢測(cè)裝置。
      [0011]所述的該系統(tǒng)內(nèi)的裝置以及管道都使用耐酸、耐堿、耐腐蝕的材料制成。
      [0012]本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):
      [0013]1.該系統(tǒng)用于處理酸性蝕刻廢液,能夠在提取金屬銅的同時(shí)使蝕刻液再生循環(huán)回用,實(shí)現(xiàn)蝕刻液處理能夠離線進(jìn)行,提高了處理效率,有利于通過(guò)合理地分配資源使得蝕刻與蝕刻液處理達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡,避免資源浪費(fèi),實(shí)現(xiàn)可持續(xù)生產(chǎn);
      [0014]3.通過(guò)本實(shí)用新型可以回收電解氯氣,與產(chǎn)線聯(lián)動(dòng)時(shí)氯氣去溶解吸收系統(tǒng)與亞銅離子發(fā)生反應(yīng)生成二價(jià)銅離子,再生成蝕刻液直接回到產(chǎn)線循環(huán)利用,若沒(méi)有與蝕刻產(chǎn)線聯(lián)動(dòng),電解氯氣可以通過(guò)水洗和進(jìn)一步處理,制成含氯的有價(jià)產(chǎn)品,以此可以避免污染環(huán)境、浪費(fèi)資源,實(shí)現(xiàn)氯元素和水在系統(tǒng)內(nèi)的循環(huán),減少額外添加添加劑或氧化劑,降低了生產(chǎn)成本,節(jié)約了資源。
      【附圖說(shuō)明】
      [0015]圖1為一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0016]圖中,1-蝕刻生產(chǎn)線,2-母液儲(chǔ)存罐,3-陰極槽,4-過(guò)濾膜,5-陽(yáng)極槽,6_溶解吸收系統(tǒng),7-洗氣系統(tǒng),8-尾氣處理系統(tǒng),9-電解銅。
      【具體實(shí)施方式】
      [0017]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的描述,本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不局限于以下所述:
      [0018]如圖1所示,一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng),包括蝕刻液處理系統(tǒng)、再生液循環(huán)系統(tǒng)、配液系統(tǒng)和氯氣回收系統(tǒng),蝕刻液處理系統(tǒng)包括蝕刻生產(chǎn)線1、母液儲(chǔ)存罐2、電解槽和溶解吸收系統(tǒng)6,電解槽包括陰極槽3、膜4和陽(yáng)極槽5,母液儲(chǔ)存罐
      2、陰極槽3、陽(yáng)極槽5、溶解吸收系統(tǒng)6依次連通,蝕刻生產(chǎn)線1分別與母液儲(chǔ)存罐2和溶解吸收系統(tǒng)6連通,溶解吸收系統(tǒng)6與蝕刻生產(chǎn)線1連通;
      [0019]氯氣回收系統(tǒng)包括洗氣系統(tǒng)7和尾氣處理系統(tǒng)8,陽(yáng)極槽5、洗氣系統(tǒng)7和尾氣處理系統(tǒng)8依次連通
      [0020]本實(shí)施例中,所述的過(guò)濾膜4為隔膜、陽(yáng)離子膜或陰離子膜,可以根據(jù)具體的生產(chǎn)情況來(lái)選擇使用具體的哪一類過(guò)濾膜。
      [0021]本實(shí)施例中,所述的陰極槽3通過(guò)電解得到電解銅9,以此可以使液體中的銅離子達(dá)到平衡,保證蝕刻液的效益,并且避免銅以離子形態(tài)流失導(dǎo)致環(huán)境污染,而銅金屬可以作為具有商業(yè)價(jià)值的商品。
      [0022]本實(shí)施例中,所述的電解槽內(nèi)設(shè)有離子濃度檢測(cè)裝置,通過(guò)離子濃度檢測(cè)裝置檢測(cè)液體內(nèi)的離子濃度,根據(jù)檢測(cè)到的信息進(jìn)行合理的分配資源以及調(diào)控流量,使得蝕刻生產(chǎn)與蝕刻液處理能夠達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡,有利于可以持續(xù)生產(chǎn)的實(shí)現(xiàn)。
      [0023]本實(shí)施例中,所述的該系統(tǒng)內(nèi)的裝置以及管道都使用耐酸、耐堿、耐腐蝕的材料制成,以此可以增加系統(tǒng)的使用壽命,降低維護(hù)保養(yǎng)的難度。
      [0024]本實(shí)用新型的工作過(guò)程如下:蝕刻生產(chǎn)線1上流出的蝕刻液部分進(jìn)入溶解吸收系統(tǒng)6進(jìn)行儲(chǔ)存,另一部分進(jìn)入母液儲(chǔ)存罐2進(jìn)行儲(chǔ)存,由母液儲(chǔ)存罐2控制流量使母液儲(chǔ)存罐2內(nèi)的蝕刻液進(jìn)入陰極槽3,在陰極槽3內(nèi)的電解作用下,亞銅離子被還原成二價(jià)銅離子,二價(jià)銅離子被還原成電解銅,電解銅經(jīng)過(guò)洗銅裝置9清洗之后回收利用。剩余的未被還原的銅離子以及其他離子通過(guò)膜4進(jìn)入陽(yáng)極槽5。
      [0025]氯離子在陽(yáng)極槽5內(nèi)的電解作用下被氧化形成氯氣,當(dāng)蝕刻生產(chǎn)線1在生產(chǎn)時(shí),氯氣進(jìn)入溶劑吸收系統(tǒng)6,與亞銅離子發(fā)生氧化還原反應(yīng)得到銅離子以及酸性液體,該液體能夠作為蝕刻液進(jìn)入蝕刻生產(chǎn)線1完成生產(chǎn);當(dāng)蝕刻生產(chǎn)線1未生產(chǎn)時(shí),氯氣進(jìn)入洗氣系統(tǒng)7內(nèi)除雜后得到純氯氣,純氯氣進(jìn)入尾氣處理系統(tǒng)8后經(jīng)過(guò)反應(yīng)制成有價(jià)的含氯產(chǎn)品,其可以用于增加該系統(tǒng)的酸性或使亞銅離子還原成銅離子,實(shí)現(xiàn)部分氯元素的循環(huán),并保護(hù)環(huán)境不受到污染。通過(guò)控制電解的程度以及液體的流量可以實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)平衡,有利于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)以及酸性蝕刻廢液離線處理。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于:包括蝕刻液處理系統(tǒng)、再生液循環(huán)系統(tǒng)、配液系統(tǒng)和氯氣回收系統(tǒng),蝕刻液處理系統(tǒng)包括蝕刻生產(chǎn)線(I)、母液儲(chǔ)存罐(2 )、電解槽和溶解吸收系統(tǒng)(6 ),電解槽包括陰極槽(3 )、膜(4 )和陽(yáng)極槽(5 ),母液儲(chǔ)存罐(2 )、陰極槽(3 )、陽(yáng)極槽(5 )、溶解吸收系統(tǒng)(6 )依次連通,蝕刻生產(chǎn)線(I)分別與母液儲(chǔ)存罐(2)和溶解吸收系統(tǒng)(6)連通,溶解吸收系統(tǒng)(6)與蝕刻生產(chǎn)線(I)連通; 氯氣回收系統(tǒng)包括洗氣系統(tǒng)(7)和尾氣處理系統(tǒng)(8),陽(yáng)極槽(5)、洗氣系統(tǒng)(7)和尾氣處理系統(tǒng)(8)依次連通。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于:所述的膜(4)為隔膜、陽(yáng)離子膜或陰離子膜。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于:所述的陰極槽(3 )通過(guò)電解得到電解銅(9 )。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于:所述的電解槽內(nèi)設(shè)有離子濃度檢測(cè)裝置。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于:所述的蝕刻液處理系統(tǒng)、再生液循環(huán)系統(tǒng)、配液系統(tǒng)和氯氣回收系統(tǒng)都使用耐酸、耐堿、耐腐蝕的材料制成。
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種具有尾氣處理功能的酸性蝕刻廢液循環(huán)再生系統(tǒng),包括蝕刻液處理系統(tǒng)和氯氣回收系統(tǒng),蝕刻液處理系統(tǒng)包括蝕刻生產(chǎn)線(1)、母液儲(chǔ)存罐(2)、電解槽和溶解吸收系統(tǒng)(6),電解槽包括陰極槽(3)和陽(yáng)極槽(5),母液儲(chǔ)存罐(2)、陰極槽(3)、陽(yáng)極槽(5)、溶解吸收系統(tǒng)(6)依次連通,蝕刻生產(chǎn)線(1)分別與母液儲(chǔ)存罐(2)和溶解吸收系統(tǒng)(6)連通,氯氣回收系統(tǒng)包括洗氣系統(tǒng)(7)和尾氣處理系統(tǒng)(8),陽(yáng)極槽(5)、洗氣系統(tǒng)(7)和尾氣處理系統(tǒng)(8)依次連通。本實(shí)用新型的有益效果是:該系統(tǒng)用于處理酸性蝕刻廢液,具有可離線生產(chǎn)、節(jié)約成本、節(jié)約資源、能夠防止環(huán)境污染等優(yōu)點(diǎn)。
      【IPC分類】C23F1/46, C25B9/00
      【公開號(hào)】CN204982053
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520694115
      【發(fā)明人】韋建敏, 吳梅, 趙興文, 張曉蓓, 張小波
      【申請(qǐng)人】成都虹華環(huán)??萍脊煞萦邢薰?br>【公開日】2016年1月20日
      【申請(qǐng)日】2015年9月9日
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