純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及材料表面處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)。
【背景技術(shù)】
[0002]純離子鍍膜裝置廣泛應(yīng)用在零件的外表面鍍膜生產(chǎn)中，生產(chǎn)后的待鍍膜零件上利用純離子鍍膜裝置在零件的表面鍍設(shè)一層或者數(shù)層涂層，以改變被鍍零部件的表面性能。純離子鍍膜裝置主要由真空抽氣系統(tǒng)、陰極靶材、陽極、過濾器、鍍膜腔室、基片和一些輔助零部件構(gòu)成，其中，所述的過濾器整體呈現(xiàn)直角彎管狀結(jié)構(gòu)。從陰極靶材表面激發(fā)出來的等離子體向過濾器方入口向移動，過濾器的另一端出口與鍍膜腔室連通，所述待鍍膜的基片設(shè)置在鍍膜腔室內(nèi)，過濾后的離子束通過過濾器并沉降在基片上，從而完成鍍膜過程，其中，過濾器一方面構(gòu)成等離子體的通道，另一方面起到吸收或儲存雜質(zhì)顆粒，阻止較大的顆粒穿過過濾器，從而減少顆?；覊m對鍍膜腔室的污染，起到保持鍍膜腔室的清潔的作用。
[0003]在陽極與過濾器進料口之間還設(shè)置有絕緣板擋環(huán)，絕緣板擋環(huán)起到增強陽極和過濾器的絕緣性能的作用，然而在鍍膜過程中，絕緣板擋環(huán)一方面吸收射向表面的顆?；覊m，另一方面已經(jīng)被吸附在表面的顆?；覊m被后來濺射到表面的等離子體轟擊而脫離表面，大量濺射的顆粒在垂直轟擊表面方向上遵守余弦分布。由于現(xiàn)有技術(shù)中的絕緣板擋環(huán)為圓柱管結(jié)構(gòu)，表面吸附的灰塵受到等離子體的轟擊后，顆粒飛逸出過濾器而污染鍍膜腔室的概率比較大。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型的目的在于:提供一種純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)，在確保等離子體能夠通過的同時，能夠降低灰塵顆粒由過濾器而進入污染鍍膜腔室的概率。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案是:一種純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)，包括陰極靶材，所述陰極靶材產(chǎn)生的等離子體向過濾器的入口移動，陰極靶材周圍設(shè)置有陽極，過濾器的出口與鍍膜腔室連通，所述鍍膜腔室內(nèi)放置基片，所述過濾器的入口位置處設(shè)置有絕緣板擋環(huán)，所述絕緣板擋環(huán)呈圓錐管狀，絕緣板擋環(huán)的一端大管徑端與過濾器的入口固定，絕緣板擋環(huán)的另一端小管徑端指向過濾器內(nèi)。
[0006]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具備的技術(shù)效果為:所述陰極靶材產(chǎn)生的等離子體形成的離子束向過濾器入口方向行進，在過濾器的入口位置處設(shè)置的絕緣板擋環(huán)，絕緣板擋板設(shè)置成圓錐管狀結(jié)構(gòu)，其圓錐狀管內(nèi)壁可對大部分灰塵的有效阻擋，既把絕緣板和灰塵隔離開來，提高了絕緣板的維護周期，又減少了灰塵顆粒由過濾器進入鍍膜腔室的概率，從而確保鍍膜質(zhì)量。
【附圖說明】
[0007]圖1是純離子鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0008]圖2是絕緣板擋環(huán)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0009]結(jié)合圖1和圖2，對本實用新型作進一步地說明:
[0010]一種純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)，包括陰極靶材10，所述陰極靶材10產(chǎn)生的等離子體向過濾器20的入口移動，陰極靶材10周圍設(shè)置有陽極30，過濾器20的出口與鍍膜腔室40連通，所述鍍膜腔室40內(nèi)放置基片50，所述過濾器20的入口位置處設(shè)置有絕緣板擋環(huán)60，所述絕緣板擋環(huán)60呈圓錐管狀，絕緣板擋環(huán)60的一端大管徑端與過濾器20的進料口固定，絕緣板擋環(huán)60的另一端小管徑端指向過濾器20內(nèi)。
[0011]所述陰極靶材10產(chǎn)生的等離子體形成的離子束a向過濾器20入口方向行進，在過濾器20的入口位置處設(shè)置的絕緣板擋環(huán)60，絕緣板擋環(huán)60設(shè)置成圓錐管狀結(jié)構(gòu)，其圓錐狀管內(nèi)壁可對大多數(shù)灰塵的有效阻擋，既把絕緣板和灰塵隔離開來，提高了絕緣板的維護周期，又減少了灰塵顆粒由過濾器20進入鍍膜腔室40的概率，從而確保鍍膜質(zhì)量。
[0012]作為本實用新型的優(yōu)選方案，所述絕緣板擋環(huán)60圓錐管狀母線與其軸芯線之間的夾角范圍為10°?20°，結(jié)合圖2所示，b的角度即為絕緣板擋環(huán)60圓錐管狀母線與其軸芯線之間的夾角，上述的角度范圍能確保等離子體產(chǎn)生的離子束a順利的通過絕緣板擋環(huán)60。濺射出的大量灰塵顆粒，在垂直于絕緣板的絕緣板擋環(huán)60內(nèi)表面的方向上，也就是絕緣板擋環(huán)60的內(nèi)錐面上，遵守余玄分布，圓錐設(shè)計使得顆粒飛逸出過濾器20而污染鍍膜腔室40的概率相對小得多，保證了鍍膜環(huán)境的清潔。
[0013]進一步地，所述絕緣板擋環(huán)60的大管徑端設(shè)置有翻邊61，所述翻邊61與過濾器20的入口固連，絕緣板擋環(huán)60的圓錐管身伸入絕緣板擋環(huán)60的入口內(nèi)部。
[0014]所述過濾器20整體呈直角彎管狀結(jié)構(gòu)，過濾器20整體呈現(xiàn)的直角彎管狀結(jié)構(gòu)，進入過濾器20內(nèi)的灰塵絕大多數(shù)被阻擋在過濾器的彎管處的管壁上，這樣就極大的減少了灰塵顆粒的數(shù)量，確保了鍍膜的質(zhì)量，過濾器20的一端管口構(gòu)成入口，過濾器20的另一端的管口構(gòu)成出口，過濾器20的出口與鍍膜腔室40密封連接。
[0015]所述陽極30呈管狀結(jié)構(gòu)，所述陰極靶材10設(shè)置在陽極30的管腔內(nèi)，陽極30的管端與過濾器20的入口構(gòu)成密封連接。
【主權(quán)項】
1.一種純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)，包括陰極靶材(10)，所述陰極靶材(10)產(chǎn)生的等離子體向過濾器(20)的入口移動，陰極靶材(10)周圍設(shè)置有陽極(30)，過濾器(20)的出口與鍍膜腔室(40)連通，所述鍍膜腔室(40)內(nèi)放置基片(50)，其特征在于:所述過濾器(20 )的入口位置處設(shè)置有絕緣板擋環(huán)(60 )，所述絕緣板擋環(huán)(60 )呈圓錐管狀，絕緣板擋環(huán)(60)的一端大管徑端與過濾器(20)的入口固定，絕緣板擋環(huán)(60)的另一端小管徑端指向過濾器(20)內(nèi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)，其特征在于:所述絕緣板擋環(huán)(60)圓錐管狀母線與其軸芯線之間的夾角范圍為10°?20°。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)，其特征在于:所述絕緣板擋環(huán)(60)的大管徑端設(shè)置有翻邊(61)，所述翻邊(61)與過濾器(20)的入口固連，絕緣板擋環(huán)(60)的圓錐管身伸入絕緣板擋環(huán)(60)的入口內(nèi)部。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)，其特征在于:所述過濾器(20 )整體呈直角彎管狀結(jié)構(gòu)，過濾器(20 )的一端管口構(gòu)成入口，過濾器(20 )的另一端的管口構(gòu)成出口，過濾器(20 )的出口與鍍膜腔室(40 )密封連接。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)，其特征在于:所述陽極(30)呈管狀結(jié)構(gòu)，所述陰極靶材(10)設(shè)置在陽極(30)的管腔內(nèi)，陽極(30)的管端與過濾器(20)的入口構(gòu)成密封連接。
【專利摘要】本實用新型涉及一種純離子鍍膜裝置過濾器的絕緣板擋環(huán)，其中陰極靶材產(chǎn)生的等離子體向過濾器的入口移動，陰極靶材周圍設(shè)置有陽極，過濾器的出口與鍍膜腔室連通，鍍膜腔室內(nèi)放置基片，過濾器的入口位置處設(shè)置有絕緣板擋環(huán)，絕緣板擋環(huán)呈圓錐管狀，絕緣板擋環(huán)的一端大管徑端與過濾器的入口固定，絕緣板擋環(huán)的另一端小管徑端指向過濾器內(nèi)，所述陰極靶材產(chǎn)生的等離子體在陽極的作用下向過濾器入口方向行進，在過濾器的入口位置處設(shè)置的絕緣板擋板，絕緣板擋板設(shè)置成圓錐管狀結(jié)構(gòu)，其圓錐狀管內(nèi)壁可對大部分灰塵的有效阻擋，既把絕緣板和灰塵隔離開來，提高了絕緣板的維護周期，又減少灰塵進入過濾器的量，進而減少灰塵顆粒由過濾器進入鍍膜腔室的概率，從而確保鍍膜質(zhì)量。
【IPC分類】C23C14/46
【公開號】CN205024317
【申請?zhí)枴緾N201520813164
【發(fā)明人】張心鳳, 鄭杰, 尹輝
【申請人】安徽純源鍍膜科技有限公司
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2015年10月21日