一種拋光盤的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及機(jī)加工設(shè)備，特指一種拋光盤。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的拋光機(jī)工件墊塊布置方式(參見圖1)，工件墊塊用膠水粘貼于下拋光盤上，工件墊塊與內(nèi)圓相切，需加工的產(chǎn)品放置于工件墊塊上，從圖1可知，其布片方式空間浪費(fèi)大，工件墊塊數(shù)量少，同時(shí)加工的產(chǎn)品數(shù)量少，單次加工效率低；同時(shí)，因拋光盤空間的浪費(fèi)，拋光盤與產(chǎn)品的拋光過程中，使很大一部分拋光盤沒有參與拋光工作，同等轉(zhuǎn)速下，拋光盤利用率低；而拋光盤磨損后，需對拋光盤進(jìn)行修盤，將未參與工作的拋光盤部分修平，從而導(dǎo)致拋光盤的浪費(fèi)。
[0003]拋光盤靠近圓心位置線速小，因而越靠近圓心的位置拋光能力越差，為保證拋光效果，工件墊塊一般盡量靠近下拋光盤外圓布置，靠近下拋光盤圓心位置盡量少布置工件墊塊或者不布置工件墊塊，最終導(dǎo)致單次加工工件量低，拋光盤空間被嚴(yán)重浪費(fèi)，加工效率低；
[0004]由于工件墊塊與拋光盤的總接觸面積小，上拋光盤未參與拋光的部位會形成突起，為保證拋光精度與效率需要對上拋光盤這部分突起進(jìn)行修平，導(dǎo)致拋光盤消耗嚴(yán)重。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是，克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，提供一種工作效率高、使用壽命更長的拋光盤。
[0006]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方式是，一種拋光盤，包括上拋光盤、下拋光盤以及復(fù)數(shù)個(gè)工件墊塊，所述工件墊塊設(shè)于下拋光盤上，同一橫向截面內(nèi)，所述下拋光盤的圓心與工件墊塊的近圓心長邊中點(diǎn)之間連線與同一長邊之間夾角范圍為40° -50° (優(yōu)選 45° )。
[0007]進(jìn)一步，所述工件墊塊的排列方式為以下拋光盤的圓心為中心點(diǎn)環(huán)形陣列。
[0008]進(jìn)一步，所述工件墊塊為矩形。
[0009]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)緊湊，加工簡單；工作效率高，同一橫向截面內(nèi)，所述下拋光盤的圓心與工件墊塊的近圓心長邊中點(diǎn)之間連線與同一長邊之間夾角為銳角，單次加工工件量明顯增加，相對與現(xiàn)有技術(shù)，對同等數(shù)量工件進(jìn)行拋光，只要將工件盡量靠下拋光盤外圓方向布置，拋光效果明顯增強(qiáng)，下盤的利用率高，減少了空間的浪費(fèi)；拋光盤與工件墊塊的總接觸面積增大，即上拋光盤與工件的總接觸面積增大，上拋光盤出現(xiàn)的磨損較輕，對拋光盤的修平次數(shù)減少，大大延長了拋光盤的使用壽命；拋光盤磨損更均勻，修盤的頻率及工作量減少，降低了加工成本。
【附圖說明】
[0010]圖1為現(xiàn)有技術(shù)下拋光盤的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例的拋光盤結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。
[0013]實(shí)施例
[0014]參照圖2，本實(shí)施例包括下拋光盤1以及復(fù)數(shù)個(gè)工件墊塊2，所述工件墊塊2設(shè)于下拋光盤1上，工件墊塊2以下拋光盤1的圓心為中心點(diǎn)陣列布置；同一橫向截面內(nèi)，下拋光盤1的圓心與工件墊塊2的近圓心長邊中點(diǎn)之間連線與同一長邊之間夾角為45°。
[0015]所述工件墊塊2為矩形。
[0016]同一橫向截面內(nèi)，下拋光盤1的圓心與工件墊塊2的近圓心長邊中點(diǎn)之間連線與同一長邊之間夾角為45°，使得下盤的使用面積能充分的利用，在同等面積下放更多數(shù)量的產(chǎn)品。在工作狀態(tài)下，拋光盤在徑向方向上與產(chǎn)品的接觸面積相對增加，拋光盤參與工作的面積增加，磨損更加均勻。
[0017]使用本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)緊湊，加工簡單；工作效率高，同一橫向截面內(nèi)，所述下拋光盤1的圓心與工件墊塊2的近圓心長邊中點(diǎn)之間連線與同一長邊之間夾角為銳角，單次加工工件量明顯增加，相對與現(xiàn)有技術(shù)，對同等數(shù)量工件進(jìn)行拋光，只要將工件盡量靠下拋光盤1的外圓方向布置，拋光效果明顯增強(qiáng)，下盤的利用率高，減少了空間的浪費(fèi)；拋光盤與工件墊塊2的總接觸面積增大，即上拋光盤與工件的總接觸面積增大，上拋光盤出現(xiàn)的磨損較輕，對拋光盤的修平次數(shù)減少，大大延長了拋光盤的使用壽命；拋光盤磨損更均勻，修盤的頻率及工作量減少，降低了加工成本。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種拋光盤，其特征在于，包括上拋光盤、下拋光盤以及復(fù)數(shù)個(gè)工件墊塊，所述工件墊塊設(shè)于下拋光盤上，同一橫向截面內(nèi)，所述下拋光盤的圓心與工件墊塊的近圓心長邊中點(diǎn)之間連線與同一長邊之間夾角范圍為40° -50°。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光盤，其特征在于，所述下拋光盤的圓心與工件墊塊的近圓心長邊中點(diǎn)之間連線與同一長邊之間夾角為45°。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光盤，其特征在于，所述工件墊塊的排列方式為以下拋光盤的圓心為中心點(diǎn)環(huán)形陣列。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光盤，其特征在于，所述工件墊塊為矩形。
【專利摘要】一種拋光盤，包括上拋光盤、下拋光盤以及復(fù)數(shù)個(gè)工件墊塊，所述工件墊塊設(shè)于下拋光盤上，同一橫向截面內(nèi)，所述下拋光盤的圓心與工件墊塊的近圓心長邊中點(diǎn)之間連線與同一長邊之間夾角范圍為40°-50°。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)緊湊，加工簡單；工作效率高，同一橫向截面內(nèi)單次加工工件量明顯增加，相對與現(xiàn)有技術(shù)，對同等數(shù)量工件進(jìn)行拋光，只要將工件盡量靠下拋光盤外圓方向布置，拋光效果明顯增強(qiáng)，下盤的利用率高，減少了空間的浪費(fèi)；拋光盤與工件墊塊的總接觸面積增大，即上拋光盤與工件的總接觸面積增大，上拋光盤出現(xiàn)的磨損較輕，對拋光盤的修平次數(shù)減少，大大延長了拋光盤的使用壽命；拋光盤磨損更均勻，修盤的頻率及工作量減少，降低了加工成本。
【IPC分類】B24B41/06
【公開號】CN205057784
【申請?zhí)枴緾N201520746476
【發(fā)明人】楊佳葳, 蔣羅雄, 傅盛榮
【申請人】湖南宇晶機(jī)器股份有限公司
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2015年9月24日