蒸鍍設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及顯示器制備技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種蒸鍍設(shè)備，包括：工藝坩堝；預(yù)熔坩堝，預(yù)熔坩堝用于熔化和存儲蒸鍍材料；加熱源，為預(yù)熔坩堝提供熱量；搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，用于夾持預(yù)熔坩堝、并驅(qū)動(dòng)預(yù)熔坩堝為工藝坩堝添加液態(tài)化的蒸鍍材料。本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備，通過設(shè)置預(yù)熔坩堝、加熱源和搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，可以使得每次工藝坩堝內(nèi)的蒸鍍材料低于一定質(zhì)量時(shí)，直接將液態(tài)的蒸鍍材料添加至工藝坩堝內(nèi)，這樣可以保持工藝坩堝在高溫狀態(tài)下，直接添加蒸鍍材料，不需要往復(fù)調(diào)節(jié)工藝坩堝的溫度。本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備，可以減少工藝腔體的開腔頻率，也可以減少工藝腔體內(nèi)的氣氛變差現(xiàn)象的發(fā)生，提高蒸鍍設(shè)備蒸鍍的膜的品質(zhì)。
【專利說明】
蒸鍍設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示器制備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種蒸鍍設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]目前的有機(jī)電激光顯示(Organic Light-Emitting D1de，0LED)在制備時(shí)，一般采用真空蒸鍍技術(shù)形成膜層，即利用蒸鍍機(jī)，在真空環(huán)境下，升溫加熱材料，使材料熔化揮發(fā)或者升華，在玻璃基板上沉積一層層有機(jī)材料，形成OLED器件。
[0003]由于OLED器件的陰極一般使用金屬材料，例如鋁、鎂銀合金等。鋁的熔化溫度約750°C，工藝溫度約1200°C，所使用的坩禍材質(zhì)一般為氮化鋁等耐高溫的陶瓷材料。
[0004]目前蒸鍍機(jī)中金屬材料(鋁)的填料裝置和方式有2種:
[0005]第一種:如圖1所示，圖1為現(xiàn)有技術(shù)的填料裝置的一種結(jié)構(gòu)示意圖，填料裝置包括:鋁線盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)01，即加熱源旁邊有鋁線盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，鋁線盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)01轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，鋁線盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)01中的鋁線斜向伸入工藝坩禍02中，此時(shí)工藝坩禍02中的鋁液處于工藝溫度之上，當(dāng)鋁線接近鋁液面時(shí)，鋁線便熔化滴入鋁液中，從而實(shí)現(xiàn)連續(xù)自動(dòng)填料。
[0006]第二種:如圖2所示，圖2為現(xiàn)有技術(shù)的填料裝置的另一種結(jié)構(gòu)示意圖，填料裝置包括:鋁球轉(zhuǎn)盤03，位于鋁球轉(zhuǎn)盤03下方的旋轉(zhuǎn)填料盤04，當(dāng)工藝坩禍02中的鋁液不足于保持膜厚均一性時(shí)，在高于工藝溫度的情況下，工藝坩禍02快速揮發(fā)其內(nèi)的殘余材料，待速率監(jiān)測系統(tǒng)監(jiān)測工藝坩禍02無蒸發(fā)速率后，表示工藝坩禍中的鋁液已揮發(fā)完畢，此時(shí)將工藝坩禍02的溫度逐漸降低至200°C以下，通過鋁球轉(zhuǎn)盤03將鋁顆粒添加到旋轉(zhuǎn)填料盤04內(nèi)，旋轉(zhuǎn)填料盤04旋轉(zhuǎn)至工藝坩禍02上方，將鋁顆粒添加至工藝坩禍02內(nèi)。
[0007]此兩種方式均有不足之處，第一種方式中，由于鋁線是斜向伸入坩禍中的，鋁線要接近鋁液面才能熔化，若故障，鋁線添加不及時(shí)，導(dǎo)致鋁液面低于一定程度，再次恢復(fù)添加鋁線時(shí)，鋁線無法接觸到鋁液面，而是直接觸碰到坩禍內(nèi)壁，由于坩禍?zhǔn)堑X之類的陶瓷材料，而且在1200°C的高溫下，坩禍極容易開裂損壞，從而導(dǎo)致整個(gè)坩禍里的鋁液泄漏至加熱源里，損毀加熱源;第二種方式，雖然不會直接損毀坩禍，但是由于每次使用完鋁液后，需要高溫加熱，并往復(fù)升降溫，嚴(yán)重縮短使用壽命，且整個(gè)非使用時(shí)間大約有8小時(shí)，填料效率較低，同時(shí)也會降低工藝坩禍的蒸鍍效率。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0008]本實(shí)用新型提供了一種蒸鍍設(shè)備，用以提高蒸鍍設(shè)備蒸鍍的膜的品質(zhì)，提高蒸鍍效率。
[0009]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案:
[0010]本實(shí)用新型提供了一種蒸鍍設(shè)備，包括:
[0011]工藝坩禍；
[0012]預(yù)熔坩禍，所述預(yù)熔坩禍用于熔化和存儲蒸鍍材料；
[0013]加熱源，為所述預(yù)熔坩禍提供熱量；
[0014]搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，用于夾持所述預(yù)熔坩禍、并驅(qū)動(dòng)所述預(yù)熔坩禍為所述工藝坩禍添加液態(tài)化的蒸鍍材料。
[0015]本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備，通過設(shè)置預(yù)熔坩禍、加熱源和搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，可以使得每次工藝坩禍內(nèi)的蒸鍍材料低于一定質(zhì)量時(shí)，直接將液態(tài)的蒸鍍材料添加至工藝坩禍內(nèi)，這樣可以保持工藝坩禍在高溫狀態(tài)下，直接添加蒸鍍材料，不需要往復(fù)調(diào)節(jié)工藝坩禍的溫度。
[0016]由于本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備，可以直接為工藝坩禍添加液態(tài)的蒸鍍材料，故，本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備，可以減少工藝腔體的開腔頻率，也可以減少工藝腔體內(nèi)的氣氛變差現(xiàn)象的發(fā)生，提高蒸鍍設(shè)備蒸鍍的膜的品質(zhì)。
[0017]為了保持預(yù)熔坩禍內(nèi)蒸鍍材料的量，可以設(shè)置一填料裝置，可以為預(yù)熔坩禍不斷添加固態(tài)的蒸鍍材料。
[0018]在一些可選的實(shí)施方式中，所述搬運(yùn)機(jī)構(gòu)為機(jī)械手。
[0019]在一些可選的實(shí)施方式中，所述機(jī)械手的夾持端上均設(shè)有絕熱單元。絕熱單元的設(shè)置一方面可以防止預(yù)熔坩禍溫度過高，對機(jī)械手的夾持端造成腐蝕，另一方面可以減緩預(yù)熔坩禍溫度降低的速度。上述絕熱單元的材料可以為石英棉等，這里就不再一一贅述。
[0020]在一些可選的實(shí)施方式中，所述絕熱單元與所述預(yù)熔坩禍接觸的部分上均設(shè)有用于給所述預(yù)熔坩禍加熱的加熱單元。加熱單元的設(shè)置可以保證預(yù)熔坩禍在被從加熱源中移出進(jìn)行填料時(shí)，預(yù)熔坩禍的溫度降低的現(xiàn)象的發(fā)生，進(jìn)而可以減少液態(tài)的蒸鍍材料再次凝固的現(xiàn)象的發(fā)生。
[0021]在一些可選的實(shí)施方式中，所述預(yù)熔坩禍外露出所述加熱源的部分為所述預(yù)熔坩禍高度的1/3?1/10。這樣的設(shè)置，便于搬運(yùn)機(jī)構(gòu)夾持預(yù)熔坩禍。
[0022]在一些可選的實(shí)施方式中，所述預(yù)熔坩禍的外輪廓為圓柱形，所述預(yù)熔坩禍的一端設(shè)有導(dǎo)液口。導(dǎo)熱口的設(shè)置便于預(yù)熔坩禍傾倒蒸鍍材料。
[0023]在一些可選的實(shí)施方式中，所述機(jī)械手的夾持端包括:兩個(gè)半圓形的子夾持部。可以使得夾持端可以夾持不同半徑的圓柱形的預(yù)熔坩禍。
[0024]在一些可選的實(shí)施方式中，所述預(yù)熔坩禍為金屬材料的預(yù)熔坩禍。金屬材料的預(yù)熔坩禍的導(dǎo)熱性較好，便于其內(nèi)的蒸鍍材料熔化。
[0025]在一些可選的實(shí)施方式中，所述蒸鍍材料為鋁，所述預(yù)熔坩禍被所述加熱源加熱時(shí)的溫度為850°C?1100°C之間。鋁的熔化溫度大約在750°C左右，鋁發(fā)生揮發(fā)的溫度大約在1200°C左右，故將所述坩禍被所述加熱源加熱時(shí)的溫度控制在850°C?1100°C之間，可以即保證鋁熔化，用保證鋁不會大量揮發(fā)。
[0026]在一些可選的實(shí)施方式中，上述蒸鍍設(shè)備還包括:
[0027]用于容納所述工藝坩禍的第一腔室；
[0028]用于容納所述預(yù)熔坩禍的第二腔室，且所述第一腔室和所述第二腔室通過閥門連通。當(dāng)不需要給工藝坩禍填料時(shí)，保持第一腔室是封閉狀態(tài)，當(dāng)需要填料時(shí)再第一腔室打開，可以避免第一腔室溫度不斷變化的現(xiàn)象的發(fā)生，因?yàn)樵谡翦兂赡r(shí)，第一腔室內(nèi)部會沉積一層金屬薄膜，金屬薄膜特別是Ag薄膜很容易氧化，并且吸水，第一腔室溫度變化，會使得金屬薄膜吸附的水和氧等慢慢的釋放，使得工藝腔體的氣氛變差，從而影響后續(xù)的成膜品質(zhì)。
【附圖說明】
[0029]此處所說明的附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本實(shí)用新型的一部分，本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0030]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的填料裝置的一種結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031 ]圖2為現(xiàn)有技術(shù)的填料裝置的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖3為本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖4為本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備的一種使用狀態(tài)圖；
[0034]圖5為本實(shí)用新型提供的機(jī)械手的夾持端的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0035]圖中:
[0036]01-鋁線盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)02-工藝坩禍
[0037]03-鋁球轉(zhuǎn)盤04-旋轉(zhuǎn)填料盤
[0038]1-工藝坩禍2-預(yù)熔坩禍
[0039]3-搬運(yùn)機(jī)構(gòu)31-子夾持部
[0040]4-第一腔室5-第二腔室[0041 ] 6-傳感器
【具體實(shí)施方式】
[0042]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。
[0043]如圖3所示，圖3為本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；本實(shí)用新型提供了一種蒸鍍設(shè)備，包括:
[0044]工藝坩禍I;
[0045]預(yù)熔坩禍2，預(yù)熔坩禍2用于熔化和存儲蒸鍍材料；
[0046]加熱源，為預(yù)熔坩禍2提供熱量；
[0047]搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3，用于夾持預(yù)熔坩禍2、并驅(qū)動(dòng)預(yù)熔坩禍2為工藝坩禍I添加液態(tài)化的蒸鍍材料。
[0048]本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備，通過設(shè)置預(yù)熔坩禍2、加熱源和搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3，可以使得每次工藝坩禍I內(nèi)的蒸鍍材料低于一定質(zhì)量時(shí)，直接將液態(tài)的蒸鍍材料添加至工藝坩禍I內(nèi)，這樣可以保持工藝坩禍I在高溫狀態(tài)下，直接添加蒸鍍材料，不需要往復(fù)調(diào)節(jié)工藝坩禍I的溫度。
[0049]由于本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備，可以直接為工藝坩禍I添加液態(tài)的蒸鍍材料，故，本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備，可以減少工藝腔體的開腔頻率，也可以減少工藝腔體內(nèi)的氣氛變差現(xiàn)象的發(fā)生，提高蒸鍍設(shè)備蒸鍍的膜的品質(zhì)。
[0050]上述搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3的具體結(jié)構(gòu)可以有多種，可選的，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3為機(jī)械手。機(jī)械手可以各個(gè)方向上自由移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)。
[0051]進(jìn)一步的，機(jī)械手的夾持端上均設(shè)有絕熱單元。絕熱單元的設(shè)置一方面可以防止預(yù)熔坩禍2溫度過高，對機(jī)械手的夾持端造成腐蝕，另一方面可以減緩預(yù)熔坩禍2溫度降低的速度。上述絕熱單元的材料可以為石英棉等，這里就不再一一贅述。
[0052]更進(jìn)一步的，絕熱單元與預(yù)熔坩禍2接觸的部分上均設(shè)有用于給預(yù)熔坩禍2加熱的加熱單元。加熱單元的設(shè)置可以保證預(yù)熔坩禍2在被從加熱源中移出進(jìn)行填料時(shí)，預(yù)熔坩禍2的溫度降低的現(xiàn)象的發(fā)生，進(jìn)而可以減少液態(tài)的蒸鍍材料再次凝固的現(xiàn)象的發(fā)生。
[0053]為了便于搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3夾持預(yù)熔坩禍2，預(yù)熔坩禍2外露出加熱源的部分為預(yù)熔坩禍2高度的1/3?1/10。
[0054]上述預(yù)熔坩禍2的外輪廓的具體形狀可以有多種，可選的，如圖4所示，圖4為本實(shí)用新型提供的蒸鍍設(shè)備的一種使用狀態(tài)圖；預(yù)熔坩禍2的外輪廓為圓柱形，預(yù)熔坩禍2的一端設(shè)有導(dǎo)液口。導(dǎo)熱口的設(shè)置便于預(yù)熔坩禍2傾倒蒸鍍材料。預(yù)熔坩禍2上還設(shè)有蓋，可以進(jìn)一步防止其內(nèi)的蒸鍍材料揮發(fā)。
[0055]為了便于對預(yù)熔坩禍2進(jìn)行夾持，如圖5所示，圖5為本實(shí)用新型提供的機(jī)械手的夾持端的結(jié)構(gòu)示意圖，機(jī)械手的夾持端包括:兩個(gè)半圓形的子夾持部31?？梢允沟脢A持端可以夾持不同半徑的圓柱形的預(yù)熔坩禍2。
[0056]優(yōu)選的，上述預(yù)熔坩禍2為金屬材料的預(yù)熔坩禍2。金屬材料的預(yù)熔坩禍2的導(dǎo)熱性較好，便于其內(nèi)的蒸鍍材料熔化。
[0057]現(xiàn)有的蒸鍍材料一般為鋁，當(dāng)蒸鍍材料為鋁時(shí)，預(yù)熔坩禍2被加熱源加熱時(shí)的溫度為850°C?1100°C之間。鋁的熔化溫度大約在750°C左右，鋁發(fā)生揮發(fā)的溫度大約在1200°C左右，故將坩禍被加熱源加熱時(shí)的溫度控制在850°C?1100°C之間，可以即保證鋁熔化，用保證鋁不會大量揮發(fā)。
[0058]如圖1所示，上述蒸鍍設(shè)備還包括:
[0059]用于容納工藝坩禍I的第一腔室4;
[0060]用于容納預(yù)熔坩禍2的第二腔室5，且第一腔室4和第二腔室5通過閥門連通。當(dāng)不需要給工藝坩禍I填料時(shí)，保持第一腔室4是封閉狀態(tài)，當(dāng)需要填料時(shí)再第一腔室4打開，可以避免第一腔室4溫度不斷變化的現(xiàn)象的發(fā)生，因?yàn)樵谡翦兂赡r(shí)，第一腔室4內(nèi)部會沉積一層金屬薄膜，金屬薄膜特別是Ag薄膜很容易氧化，并且吸水，第一腔室4溫度變化，會使得金屬薄膜吸附的水和氧等慢慢的釋放，使得工藝腔體的氣氛變差，從而影響后續(xù)的成膜品質(zhì)。
[0061]進(jìn)一步，如圖5所示，圖5為本實(shí)用新型提供的機(jī)械手的夾持端的結(jié)構(gòu)示意圖。上述蒸鍍設(shè)備還包括:
[0062]用于檢測工藝坩禍I內(nèi)的蒸鍍材料重量的傳感器6;
[0063]與傳感器6、閥門以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3信號連接的控制器，控制器用于:
[0064]當(dāng)坩禍內(nèi)的蒸鍍材料的重量小于第一預(yù)設(shè)值時(shí)，控制閥門打開、搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3驅(qū)動(dòng)預(yù)熔坩禍2由第二腔室5移動(dòng)至第一腔室4為工藝坩禍I添加液態(tài)化的蒸鍍材料；
[0065]當(dāng)坩禍內(nèi)的蒸鍍材料的重量大于第二預(yù)設(shè)值時(shí)，控制搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3停止為工藝坩禍I添加液態(tài)化的蒸鍍材料，返回第二腔室5，并控制閥門關(guān)閉，其中:第二預(yù)設(shè)值大于第一預(yù)設(shè)值。便于蒸鍍設(shè)備自動(dòng)填料，可以進(jìn)一步提高蒸鍍效率。上述第一預(yù)設(shè)值和第二預(yù)設(shè)值可以根據(jù)實(shí)際需要設(shè)定，第一預(yù)設(shè)值可以為工藝坩禍I總量的1%?50%，第二預(yù)設(shè)值可以為工藝坩禍I總量的50%?90%。
[0066]上述蒸鍍設(shè)備的具體填料過程為:
[0067]在預(yù)熔坩禍2里添加鋁顆粒，然后加熱熔融，并保持溫度在100tC左右，使鋁不會固化，也不會有較高的蒸發(fā)速率。第一腔室4的工藝坩禍I里的材料通過傳感器6監(jiān)測，當(dāng)監(jiān)測到的鋁的重量低于坩禍填料總量的1%_50%時(shí)，開始準(zhǔn)備填料，連通第一腔室4和第二腔室5的閥門打開，機(jī)械手臂取出預(yù)熔坩禍2，移動(dòng)到需要填料的工藝坩禍I上方，機(jī)械手臂開始旋轉(zhuǎn)，使鋁液流出，從預(yù)熔坩禍2內(nèi)落入工藝坩禍I，當(dāng)傳感器6監(jiān)測到的鋁的重量超過填料總量的50%-90%時(shí)，機(jī)械手臂回轉(zhuǎn)，停止倒入鋁液。填料結(jié)束后，機(jī)械手臂收回到第二腔室5，把預(yù)熔坩禍2放入加熱源里，并通過一填料裝置，向預(yù)熔坩禍2內(nèi)倒入鋁顆粒，使預(yù)熔坩禍2里保持下一次需要的填料量。
[0068]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種蒸鍍設(shè)備，其特征在于，包括: 工藝坩禍； 預(yù)熔坩禍，所述預(yù)熔坩禍用于熔化和存儲蒸鍍材料； 加熱源，為所述預(yù)熔坩禍提供熱量； 搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，用于夾持所述預(yù)熔坩禍、并驅(qū)動(dòng)所述預(yù)熔坩禍為所述工藝坩禍添加液態(tài)化的蒸鍍材料。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述搬運(yùn)機(jī)構(gòu)為機(jī)械手。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述機(jī)械手的夾持端上均設(shè)有絕熱單J L ο4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述絕熱單元與所述預(yù)熔坩禍接觸的部分上均設(shè)有用于給所述預(yù)熔坩禍加熱的加熱單元。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述預(yù)熔坩禍外露出所述加熱源的部分為所述預(yù)熔坩禍高度的1/3?1/10。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述預(yù)熔坩禍的外輪廓為圓柱形，所述預(yù)熔坩禍的一端設(shè)有導(dǎo)液口。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述機(jī)械手的夾持端包括:兩個(gè)半圓形的子夾持部。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述預(yù)熔坩禍為金屬材料的預(yù)熔坩禍。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述蒸鍍材料為鋁，所述預(yù)熔坩禍被所述加熱源加熱時(shí)的溫度為850 °C?1100 °C之間。10.根據(jù)權(quán)利要求1?9任一項(xiàng)所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，還包括: 用于容納所述工藝坩禍的第一腔室； 用于容納所述預(yù)熔坩禍的第二腔室，且所述第一腔室和所述第二腔室通過閥門連通。
【文檔編號】C23C14/24GK205420530SQ201620212216
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年3月17日
【發(fā)明人】鄒清華, 姚固, 王玉, 曾蘇偉
【申請人】合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司