用于研磨拋光設(shè)備上的精確配重機構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于研磨拋光設(shè)備上的精確配重機構(gòu)，包括上定盤和下定盤；所述的上定盤的上表面上安裝有至少兩條滑道，每條滑道上都匹配有可以在滑道上移動的配重塊；所述的滑道繞上定盤的軸心呈中心對稱；所述滑道自上定盤轉(zhuǎn)軸軸心向上定盤邊緣方向半徑逐漸增大。本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點和效果：增加這個配重裝置后，可以通過配重塊在滑道上滑動來微調(diào)上定盤的重心，由于滑道為漸開線狀，因此即使配重塊在移動較多的情況下，重心偏移也很小，因此，工作人員更易找到平衡點。此時可保證整個上定盤的盤面與下定盤的盤面同時接觸，從而不會損傷被加工件，提高了材料利用率，節(jié)約成本。
【專利說明】
用于研磨拋光設(shè)備上的精確配重機構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及一種調(diào)節(jié)裝置，具體為一種用于研磨拋光設(shè)備上的精確配重機構(gòu)，屬于研磨拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]研磨拋光設(shè)備廣泛應(yīng)用于IC、IT行業(yè)中如碳化硅、蘭寶石、壓電晶體、壓電陶瓷、鉬片、半導(dǎo)體芯片、硅片以及光學(xué)光電子、液晶顯示及LED、手機配件(金屬、玻璃)、記憶硬盤、金屬加工制造等硬脆易碎材料的研磨和拋光。
[0003]通常的研磨拋光設(shè)備一般包括包括操作面板，收容控制電路、多個驅(qū)動電機和減速機的機柜，機柜頂部為與驅(qū)動電機輸出軸傳動連接的水平下定盤，機柜的兩側(cè)設(shè)置有支撐柱，支撐柱的上方為水平的橫梁;所述的橫梁上豎直固定有主氣缸，主氣缸頂桿在橫梁的下方做豎直方向移動，主氣缸頂桿端部為副氣缸，副氣缸頂桿端部與上定盤上方安裝的上盤懸吊板剛性連接，上盤懸吊板與上定盤之間通過定盤支柱固定和連接。
[0004]目前常用的研磨拋光設(shè)備在運行過程中，緩慢放下上定盤部時，上定盤會因為自身原因，盤面會傾斜著落下，與下定盤的盤面不平行。這樣極易損壞被加工件，增加了產(chǎn)品的損耗量，降低了資源利用率。目前市面上有通過在盤面上方加裝若干直型滑道，滑道里裝配有配重塊的配重裝置，通過移動配重塊來實現(xiàn)平衡。但這種配種裝置稍微移動一點，重心就會發(fā)生很大偏移，給工作人員帶來不便。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，使用方便的一種用于研磨拋光設(shè)備上的精確配重機構(gòu)，以克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足。
[0006]本實用新型的目的是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的:
[0007]—種用于研磨拋光設(shè)備上的精確配重機構(gòu)，包括上定盤和下定盤;所述的上定盤的上表面上安裝有至少兩條滑道，每條滑道上都匹配有可以在滑道上移動的配重塊;所述的滑道繞上定盤的軸心呈中心對稱;所述滑道自上定盤轉(zhuǎn)軸軸心向上定盤邊緣方向半徑逐漸增大。
[0008]配重塊上設(shè)置有一個或兩個以上的螺孔和與螺孔匹配的限位螺釘，配重塊通過限位螺釘與滑道限位。
[0009]本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點和效果:增加這個配重裝置后，可以通過配重塊在滑道上滑動來微調(diào)上定盤的重心，由于滑道為漸開線狀，因此即使配重塊在移動較多的情況下，重心偏移也很小，因此，工作人員更易找到平衡點。此時可保證整個上定盤的盤面與下定盤的盤面同時接觸，從而不會損傷被加工件，提高了材料利用率，節(jié)約成本。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；(圖中省略了其他未改進的部位)
[0011]圖中:1、上定盤2、滑道3、配重塊。
【具體實施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖與具體實施例進一步闡述本實用新型的結(jié)構(gòu)特點:
[0013]如圖1所示，一種用于研磨拋光設(shè)備上的精確配重機構(gòu)，包括上定盤I和下定盤;所述的上定盤I的上表面上安裝有至少兩條滑道2，每條滑道2上都匹配有可以在滑道2上移動的配重塊3 ；所述的滑道2繞上定盤I的軸心呈中心對稱;所述滑道2自上定盤I轉(zhuǎn)軸軸心向上定盤I邊緣方向半徑逐漸增大。
[0014]配重塊3上設(shè)置有一個或兩個以上的螺孔和與螺孔匹配的限位螺釘，配重塊3通過限位螺釘與滑道限位。
[0015]使用時，先通過配重塊3在滑道2上滑動來微調(diào)上定盤I的重心，待測定好上定盤I水平后，旋緊限位螺釘。此時再讓上定盤I落下，這樣可保證整個上定盤I的盤面與下定盤的盤面同時接觸，不會損傷被加工件，提高了材料利用率，節(jié)約成本。
【主權(quán)項】
1.一種用于研磨拋光設(shè)備上的精確配重機構(gòu)，包括上定盤和下定盤;其特征在于:所述的上定盤的上表面上安裝有至少兩條滑道，每條滑道上都匹配有可以在滑道上移動的配重塊;所述的滑道繞上定盤的軸心呈中心對稱;所述滑道自上定盤轉(zhuǎn)軸軸心向上定盤邊緣方向半徑逐漸增大。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于研磨拋光設(shè)備上的精確配重機構(gòu)，其特征在于:配重塊上設(shè)置有一個或兩個以上的螺孔和與螺孔匹配的限位螺釘，配重塊通過限位螺釘與滑道限位。
【文檔編號】B24B37/34GK205438162SQ201521132841
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2015年12月30日
【發(fā)明人】石會會
【申請人】浙江森永光電設(shè)備有限公司