一種線性蒸發(fā)源、蒸發(fā)源系統(tǒng)及蒸鍍裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種線性蒸發(fā)源、蒸發(fā)源系統(tǒng)及蒸鍍裝置，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，以在采用線性蒸發(fā)源蒸鍍工藝制作有機(jī)電致發(fā)光顯示器的發(fā)光層時(shí)，提高其在線源方向上的膜厚均一性。該線性蒸發(fā)源包括用于蒸發(fā)蒸鍍材料的加熱裝置，加熱裝置的噴嘴安裝面上設(shè)有線性噴嘴組，線性噴嘴組包括沿線源方向設(shè)在噴嘴安裝面的多個(gè)噴嘴；加熱裝置中設(shè)有能夠使加熱裝置的加熱溫度均一的溫度補(bǔ)償板。而蒸發(fā)源系統(tǒng)包括上述提到的線性蒸發(fā)源。本實(shí)用新型提供的線性蒸發(fā)源用于蒸鍍裝置中。
【專利說明】
一種線性蒸發(fā)源、蒸發(fā)源系統(tǒng)及蒸鍍裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種線性蒸發(fā)源、蒸發(fā)源系統(tǒng)及蒸鍍裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)電致發(fā)光顯示器是一種基于有機(jī)電致發(fā)光材料的電流型半導(dǎo)體發(fā)光器件，其主要依靠金屬電極向發(fā)光層施加一定的電壓，使發(fā)光層中的有機(jī)電致發(fā)光材料發(fā)光，從而實(shí)現(xiàn)圖像響應(yīng);它以低功耗、高對(duì)比度、高色域、以及可以實(shí)現(xiàn)柔性顯示的優(yōu)點(diǎn)受到人們的廣發(fā)關(guān)注。
[0003]目前，人們?cè)谥谱饔袡C(jī)電致發(fā)光顯示器時(shí)，一般利用線性蒸發(fā)源蒸鍍工藝將有機(jī)電致發(fā)光材料蒸鍍到目標(biāo)基板上，以制作其中的發(fā)光層，但是制得的發(fā)光層的膜厚在線源方向上膜厚不均勻，使得制成的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的顯示效果比較差。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的在于提供一種線性蒸發(fā)源、蒸發(fā)源系統(tǒng)及蒸鍍裝置，以在采用線性蒸發(fā)源蒸鍍工藝制作有機(jī)電致發(fā)光顯示器的發(fā)光層時(shí)，提高發(fā)光層在線源方向上的膜厚均一性。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0006]—種線性蒸發(fā)源，包括用于蒸發(fā)蒸鍍材料的加熱裝置，所述加熱裝置的噴嘴安裝面上設(shè)有線性噴嘴組，所述線性噴嘴組包括沿線源方向設(shè)在噴嘴安裝面的多個(gè)噴嘴;所述加熱裝置中設(shè)有能夠使所述加熱裝置的加熱溫度均一的溫度補(bǔ)償板。
[0007]優(yōu)選的，所述加熱裝置的加熱部位于溫度補(bǔ)償板內(nèi)，所述加熱部具多個(gè)加熱位置，各所述加熱位置的加熱溫度不同，所述溫度補(bǔ)償板與加熱溫度高的加熱位置對(duì)應(yīng)的部分厚度較薄，所述溫度補(bǔ)償板與加熱溫度低的加熱位置對(duì)應(yīng)的部分厚度較厚。
[0008]優(yōu)選的，所述溫度補(bǔ)償單元為分體式結(jié)構(gòu)或一體式結(jié)構(gòu)。
[0009]較佳的，所述溫度補(bǔ)償板包括多個(gè)溫度補(bǔ)償單元，多個(gè)溫度補(bǔ)償單元沿著線源方向排列。
[0010]優(yōu)選的，從所述線性噴嘴組的中心向所述線性噴嘴組的兩側(cè)，所述線性噴嘴組中噴嘴的孔徑增大或減小。
[0011]本實(shí)用新型還提供了一種蒸發(fā)源系統(tǒng)，包括至少兩個(gè)上述技術(shù)方案所述線性蒸發(fā)源，各所述線性蒸發(fā)源沿線源方向。
[0012]優(yōu)選的，每個(gè)所述線性蒸發(fā)源中，所述噴嘴安裝面上設(shè)有兩個(gè)能夠調(diào)整所述線性蒸發(fā)源的蒸鍍區(qū)域的角度板，所述線性噴嘴組位于兩個(gè)所述角度板之間。
[0013]較佳的，每個(gè)所述線性蒸發(fā)源中，兩個(gè)所述角度板具有能夠調(diào)節(jié)蒸鍍區(qū)域的高度差;所述角度板的高度是指所述角度板伸出所述噴嘴安裝面的長度。
[0014]較佳的，所述線性蒸發(fā)源的數(shù)目為兩個(gè)時(shí)，各所述線性蒸發(fā)源的蒸鍍角均為40°-55° 或70° -90。ο
[0015]本實(shí)用新型還提供了一種蒸鍍裝置，包括上述技術(shù)方案所述的線性蒸發(fā)源或上述技術(shù)方案所述的蒸發(fā)源系統(tǒng)。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型提供的線性蒸發(fā)源具有以下有益效果:
[0017]本實(shí)用新型提供的線性蒸發(fā)源中，由于加熱裝置中設(shè)有溫度補(bǔ)償板，且溫度補(bǔ)償板能夠使得加熱裝置的加熱溫度均一，這樣加熱裝置在加熱蒸鍍材料時(shí)，蒸鍍材料的蒸發(fā)速度就會(huì)一致，使得蒸鍍材料蒸發(fā)后形成的蒸鍍氣體從每個(gè)噴嘴噴出后，蒸鍍到目標(biāo)底基板時(shí)，所形成的蒸鍍膜的膜厚就會(huì)趨向一致;而多個(gè)噴嘴沿著線源方向設(shè)在噴嘴安裝面上，且由于每個(gè)噴嘴噴出的蒸鍍氣體蒸鍍到目標(biāo)基板時(shí)，所形成的蒸鍍膜的膜厚趨向一致，因此，當(dāng)使用該線性蒸發(fā)源將蒸鍍材料蒸鍍到目標(biāo)基板時(shí)，制得的蒸鍍膜在線源方向上的膜厚均一性比較好;而有機(jī)電致發(fā)光材料是一種具體的蒸鍍材料，所以，當(dāng)蒸鍍材料為有機(jī)電致發(fā)光材料時(shí)，可以利用本實(shí)用新型提供的線性蒸發(fā)源蒸鍍有機(jī)電致發(fā)光材料，提高有機(jī)電致發(fā)光材料在目標(biāo)基板上形成的發(fā)光層在線源方向上的膜厚均一性。
【附圖說明】
[0018]此處所說明的附圖用來提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本實(shí)用新型的一部分，本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0019]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例中的加熱部在溫度補(bǔ)償前和溫度補(bǔ)償后的蒸鍍膜的膜厚均一性測試圖；
[0021]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供中的噴嘴孔徑改變前和噴嘴孔徑改變后，蒸鍍膜的膜厚均一性測試圖；
[0022]圖4為現(xiàn)有技術(shù)中雙主體線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的蒸發(fā)源系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的蒸發(fā)源系統(tǒng)中，各線性蒸發(fā)源的蒸鍍角均為70°-90°時(shí)，雙主體蒸鍍膜的混合均一性測試圖；
[0025]圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的蒸發(fā)源系統(tǒng)中，各線性蒸發(fā)源的蒸鍍角均為40°-55°時(shí)，雙主體蒸鍍膜的混合均一性測試圖；
[0026]圖8為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的蒸發(fā)源系統(tǒng)中，各線性蒸發(fā)源的噴嘴孔徑增大，噴嘴安裝角度減小后，蒸鍍膜的混合均一性測試圖；
[0027]附圖標(biāo)記:
[0028]1-加熱裝置，10-加熱部；
[0029]2-線性噴嘴組，20-噴嘴；
[0030]3-溫度補(bǔ)償板，30-溫度補(bǔ)償單元；
[0031]4-雙主體蒸鍍膜，41-第一材料層；
[0032]42-第二材料層；
[0033]100-第一線性蒸發(fā)源，101-第一左側(cè)角度板；
[0034]102-第一右側(cè)角度板，200-第二線性蒸發(fā)源；
[0035]201-第二左側(cè)角度板，202-第二右側(cè)角度板。
【具體實(shí)施方式】
[0036]為了進(jìn)一步說明本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種線性蒸發(fā)源、蒸發(fā)源系統(tǒng)及蒸鍍裝置，下面結(jié)合說明書附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0037]請(qǐng)參閱圖1，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的線性蒸發(fā)源，包括用于蒸發(fā)蒸鍍材料的加熱裝置I，加熱裝置I的噴嘴安裝面上設(shè)有線性噴嘴組2，線性噴嘴組2包括沿線源方向設(shè)在噴嘴安裝的多個(gè)噴嘴20;加熱裝置I中設(shè)有能夠使加熱裝置I的加熱溫度均一的溫度補(bǔ)償板3;其中，線源方向是指噴嘴線性排列后所形成的線性方向。
[0038]具體實(shí)施時(shí)，將蒸鍍材料加入加熱裝置中，控制溫度補(bǔ)償板3，以對(duì)加熱裝置I進(jìn)行溫度補(bǔ)償，使得加熱裝置I的加熱溫度均一，從而加熱蒸鍍材料，使蒸鍍材料的蒸發(fā)速度一致，蒸鍍材料蒸發(fā)后形成的蒸鍍氣體從每個(gè)噴嘴噴出后，蒸鍍到目標(biāo)基板時(shí)，提高了所形成的蒸鍍膜的膜厚均一性。
[0039]通過上述實(shí)施例提供的線性蒸發(fā)源的具體實(shí)施過程可知，由于加熱裝置I中設(shè)有溫度補(bǔ)償板3，且溫度補(bǔ)償板3能夠使得加熱裝置I的加熱溫度均一，這樣加熱裝置I在加熱蒸鍍材料時(shí)，蒸鍍材料的蒸發(fā)速度就會(huì)一致，使得蒸鍍材料蒸發(fā)后形成的蒸鍍氣體從每個(gè)噴嘴20噴出后，蒸鍍到目標(biāo)底基板時(shí)，所形成的蒸鍍膜的膜厚就會(huì)趨向一致;而多個(gè)噴嘴20沿著線源方向設(shè)在噴嘴安裝面上，且由于每個(gè)噴嘴20噴出的蒸鍍氣體蒸鍍到目標(biāo)基板時(shí)，所形成的蒸鍍膜的膜厚趨向一致，因此，當(dāng)使用該線性蒸發(fā)源將蒸鍍材料蒸鍍到目標(biāo)基板時(shí)，制得的蒸鍍膜的膜厚在線源方向上的膜厚均一性比較好;而有機(jī)電致發(fā)光材料是一種具體的蒸鍍材料，所以，當(dāng)蒸鍍材料為有機(jī)電致發(fā)光材料時(shí)，可以利用本實(shí)用新型實(shí)施例提供的線性蒸發(fā)源蒸鍍有機(jī)電致發(fā)光材料，提高有機(jī)電致發(fā)光材料在目標(biāo)基板上形成的發(fā)光層在線源方向上的膜厚均一性。
[0040]而考慮到加熱裝置I的加熱部10因?yàn)楦鞣N問題，使得加熱部10具多個(gè)加熱位置，各加熱位置的加熱溫度不同，這些加熱位置按照溫度高低，使得加熱部出現(xiàn)溫度逐漸降低的溫度梯度，導(dǎo)致加熱部10在加熱蒸鍍材料時(shí)，加熱部10出現(xiàn)溫度梯度的位置對(duì)應(yīng)加熱的蒸鍍材料的蒸發(fā)速度不一樣，從而使蒸鍍到目標(biāo)基板上的蒸鍍材料所形成的蒸鍍膜的膜厚不一致。請(qǐng)繼續(xù)參閱圖1，為了防止這樣的問題發(fā)生，通過限定加熱裝置I的加熱部10位于溫度補(bǔ)償板3內(nèi)，且根據(jù)加熱溫度的高低，溫度補(bǔ)償板3與加熱位置對(duì)應(yīng)的部分的薄厚不一，即溫度補(bǔ)償板3與加熱溫度高的加熱位置對(duì)應(yīng)的部分厚度較薄，溫度補(bǔ)償板3與加熱溫度低的加熱位置對(duì)應(yīng)的部分厚度較厚，這樣加熱裝置I的加熱部10在溫度較低的部位通過較厚的溫度補(bǔ)償板3保溫，減少加熱部熱量的流失，從而使加熱部10出現(xiàn)溫度梯度部位的溫度一致，保證了加熱裝置I中蒸鍍材料的蒸發(fā)速度一致。
[0041]需要說明的是，上述實(shí)施例中的加熱裝置I可以常見的坩禍，也可以為其他可實(shí)現(xiàn)的裝置，而加熱部10—般為加熱絲，但不排除其他可實(shí)現(xiàn)的方式。
[0042]值得注意的是，當(dāng)蒸鍍材料被蒸鍍到目標(biāo)基板上形成蒸鍍膜時(shí)，加熱部10—般是沿著線源方向的溫度呈梯度變化，導(dǎo)致蒸鍍膜沿著線源方向的厚度呈梯度變化;因此，為改善加熱部沿著線源方向溫度呈梯度變化，可以將溫度補(bǔ)償板3沿著加熱部10的線源方向布置，使得加熱部I在線源方向加熱溫度一致;請(qǐng)參閱圖2，經(jīng)試驗(yàn)證明，加熱部10在線源方向出現(xiàn)溫度梯度時(shí)，通過溫度補(bǔ)償板3進(jìn)行溫度補(bǔ)償后，所形成的蒸鍍膜在線源方向上的膜厚比較均一。
[0043]需要說明的是，上述實(shí)施例中的溫度補(bǔ)償板3包括若干溫度補(bǔ)償單元30，其按照線源方向排列，而溫度補(bǔ)償板3可以為一體式，也可以為分體式；當(dāng)溫度補(bǔ)償板3為一體式時(shí)，溫度補(bǔ)償板3的若干溫度補(bǔ)償單元30為整體結(jié)構(gòu)，而當(dāng)溫度補(bǔ)償板3為分體式時(shí)，若干溫度補(bǔ)償單元30組合在一起，且每個(gè)溫度補(bǔ)償單元30能夠獨(dú)立的對(duì)加熱部10不同的加熱位置進(jìn)行溫度補(bǔ)償，這樣就能夠精確的對(duì)加熱部10的各個(gè)位置進(jìn)行溫度補(bǔ)償，提高溫度補(bǔ)償效率。
[0044]另外，不管是一體式還是分體式的溫度補(bǔ)償板3，其均可通過調(diào)節(jié)自身薄厚對(duì)加熱部I進(jìn)行溫度補(bǔ)償，但是，由于一體式的溫度補(bǔ)償板3是對(duì)整個(gè)加熱部10進(jìn)行溫度補(bǔ)償?shù)?，這種溫度補(bǔ)償板3是采用一體成型的技術(shù)加工得到的，且在加工過程中需要根據(jù)加熱部I不同加熱位置的溫度，來加工溫度補(bǔ)償板3與各加熱位置對(duì)應(yīng)的部分的厚度，這樣使得溫度補(bǔ)償板3的加工比較復(fù)雜。而分體式的溫度補(bǔ)償板由若干溫度補(bǔ)償單元組合而成，其在加工時(shí)，先加工每個(gè)溫度補(bǔ)償單元，然后將各個(gè)溫度補(bǔ)償單元組合在一起，且由于每個(gè)溫度補(bǔ)償單元30能夠獨(dú)立的對(duì)加熱部10不同的加熱位置進(jìn)行溫度補(bǔ)償，而每個(gè)加熱位置面積比較小，即使出現(xiàn)溫度梯度，也在可接受的范圍內(nèi)，因此，在加工一個(gè)溫度補(bǔ)償單元時(shí)，并不需要對(duì)溫度補(bǔ)償單元各個(gè)部分的薄厚進(jìn)行控制，只需要根據(jù)不同加熱位置的加熱溫度，調(diào)整與之對(duì)應(yīng)的溫度補(bǔ)償單元的整體薄厚即可。
[0045]通過上述分析可知，相對(duì)于一體式的溫度補(bǔ)償板，分體式補(bǔ)償板不僅能夠提高對(duì)加熱部的溫度補(bǔ)償效率，而且還可以降低溫度補(bǔ)償板3中各個(gè)溫度補(bǔ)償單元的加工難度。
[0046]另外，考慮到加熱裝置I的內(nèi)部氣壓在不平衡時(shí)，蒸鍍材料蒸發(fā)后形成的蒸鍍氣體從各個(gè)噴嘴噴出的噴出壓力不同，導(dǎo)致蒸鍍膜的膜厚分布呈U型結(jié)構(gòu)。為了解決這個(gè)問題，可以通過調(diào)整各個(gè)噴嘴的孔徑，使蒸鍍氣體的噴出壓力相同，換句話說，通過調(diào)整噴嘴20的孔徑可以改變加熱裝置I內(nèi)部氣壓，使得加熱裝置I中氣壓過高的地方通過較大孔徑的噴嘴20得以釋放，氣壓過小的地方通過較小孔徑的噴嘴20提升此處壓力。
[0047]例如，蒸鍍膜的膜厚分布呈倒U型結(jié)構(gòu)，即蒸鍍膜在線源方向的中部厚度比較厚，兩側(cè)厚度比較薄;此時(shí)，可以限定從線性噴嘴組2的中心向線性噴嘴組2的兩側(cè)，線性噴嘴組2中噴嘴20的孔徑增大。請(qǐng)參閱圖3，經(jīng)試驗(yàn)證明，線性噴嘴組2中噴嘴20的孔徑越大，蒸鍍膜與其對(duì)應(yīng)的部分的膜厚越厚;所以，從線性噴嘴組2的中心向線性噴嘴組2的兩側(cè)，線性噴嘴組2中噴嘴20的孔徑增大時(shí)，蒸鍍膜兩側(cè)的厚度上升，中部的厚度下降，達(dá)到了改善蒸鍍膜的膜厚均一性的目的。
[0048]反之，如果膜厚分布呈正U型結(jié)構(gòu)，即蒸鍍膜在線源方向的中部厚度比較薄，兩側(cè)厚度比較厚;則限定從線性噴嘴組2的中心向線性噴嘴組2的兩側(cè)，線性噴嘴組2中噴嘴20的孔徑減小，以使蒸鍍膜兩側(cè)的厚度下降，中部的厚度上升，達(dá)到改善蒸鍍膜的膜厚均一性的目的。
[0049]本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種蒸發(fā)源系統(tǒng)，包括至少兩個(gè)上述技術(shù)方案提供的線性蒸發(fā)源，各線性蒸發(fā)源沿線源方向排列。
[0050]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)施例提供的蒸發(fā)源系統(tǒng)的有益效果與上述技術(shù)方案提供的線性蒸發(fā)源的有益效果相同，在此不做贅述。
[0051]而且，由于上述實(shí)施例提供的蒸發(fā)源系統(tǒng)中包括至少兩個(gè)線性蒸發(fā)源，如果蒸鍍膜中含有多種蒸鍍材料時(shí)，可以在各線性蒸發(fā)源中加入不同的蒸鍍材料，將這些蒸鍍材料蒸鍍到同一目標(biāo)基板上即可。但是，由于每個(gè)線性蒸發(fā)源加入的蒸鍍材料不同，此時(shí)就必須考慮每個(gè)線性蒸發(fā)源的蒸鍍角，否則形成的蒸鍍膜容易出現(xiàn)分層現(xiàn)象，導(dǎo)致蒸鍍膜的混合均一性差。
[0052]例如:圖4公開了一種的蒸發(fā)源系統(tǒng)，包括第一線性蒸發(fā)源100和第二線性蒸發(fā)源200，但是由于第一線性蒸發(fā)源100和第二線性蒸發(fā)源200沒有考慮到蒸鍍角的問題，直接利用第一線性蒸發(fā)源100和第二線性蒸發(fā)源200對(duì)各自的蒸鍍材料進(jìn)行蒸鍍后，在目標(biāo)基板形成了雙主體蒸鍍膜4，該雙主體蒸鍍膜4出現(xiàn)分層線性，形成第一材料層41和第二材料層42交替出現(xiàn)的雙主體蒸鍍膜，使得雙主體蒸鍍膜4的混合均一性差。
[0053]為了克服上述問題，請(qǐng)參閱圖5，上述實(shí)施例中，各線性蒸發(fā)源的蒸鍍區(qū)域重合;因此，各線性蒸發(fā)源中的蒸鍍材料即使不同，每個(gè)線性蒸發(fā)源蒸鍍的蒸鍍材料在目標(biāo)基板上的區(qū)域也是重合的，這樣不同的線性蒸發(fā)源蒸鍍對(duì)應(yīng)的蒸鍍材料時(shí)，各蒸鍍材料能夠在同一區(qū)域充分混合，而如果這些蒸鍍材料為不同種類的有機(jī)電致發(fā)光材料時(shí)，在制作發(fā)光層的過程中，能夠保證發(fā)光層中各個(gè)有機(jī)電致發(fā)光材料的混合均勻性。
[0054]請(qǐng)參閱圖5，具體的，可以在噴嘴安裝面上設(shè)置兩個(gè)能夠調(diào)整線性蒸發(fā)源的蒸鍍區(qū)域的角度板，線性噴嘴組位于兩個(gè)角度板之間；而兩個(gè)角度板調(diào)整線性蒸發(fā)源的蒸鍍區(qū)域是通過兩個(gè)角度板具有能夠調(diào)節(jié)蒸鍍區(qū)域的高度之差來實(shí)現(xiàn)的，其中，角度板的高度可以定義為角度板伸出噴嘴安裝面的長度。由于兩個(gè)角度板的高度之差可以調(diào)整對(duì)應(yīng)的線性蒸發(fā)源的蒸鍍角，使得該線性蒸發(fā)源的蒸鍍角足以覆蓋目標(biāo)基板，即蒸鍍區(qū)域，因此，通過調(diào)整各線性蒸發(fā)源中兩個(gè)角度板的高度之差，即可調(diào)整各蒸發(fā)源的蒸鍍角，使各線性蒸發(fā)源的蒸鍍角覆蓋到同一蒸鍍區(qū)域，而當(dāng)目標(biāo)基板位于這一蒸鍍區(qū)域時(shí)，就能保證了各線性蒸發(fā)源蒸鍍出的蒸鍍氣體在目標(biāo)基板上充分混合，形成混合均一的蒸鍍膜;至于線性蒸發(fā)源的蒸鍍角選擇，可以根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行，只要能夠使得各線性蒸發(fā)源的蒸鍍區(qū)域重合即可。另外，此處的角度板與噴嘴安裝面的夾角為90°，這是本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的。
[0055]值得注意的是，上述實(shí)施例提供的蒸發(fā)源系統(tǒng)中線性蒸發(fā)源的數(shù)量無論多少，其具體的操作過程相同，下面結(jié)合圖5給出一種具體的蒸發(fā)源系統(tǒng)。
[0056]請(qǐng)參閱圖5，該蒸發(fā)源系統(tǒng)包括第一線性蒸發(fā)源100和第二線性蒸發(fā)源200;其中，
[0057]第一線性蒸發(fā)源100的線性蒸鍍面上設(shè)有第一左側(cè)角度板101和第一右側(cè)角度板102，且第一左側(cè)角度板101的高度大于第一右側(cè)角度板102。
[0058]第二線性蒸發(fā)源200的線性蒸鍍面上設(shè)有第二左側(cè)角度板201和第二右側(cè)角度板202，且第二右側(cè)角度板202的高度大于第二左側(cè)角度板201。
[0059]具體實(shí)施時(shí)，向第一線性蒸發(fā)源100中加入第一種蒸鍍材料，向第二線性蒸發(fā)源200中加入第二種蒸鍍材料；
[0060]調(diào)節(jié)第一線性蒸發(fā)源100的第一左側(cè)角度板101和第一右側(cè)角度板102的高度差，使得第一線性蒸發(fā)源100的蒸鍍區(qū)域覆蓋目標(biāo)基板，調(diào)節(jié)第二線性蒸發(fā)源200的第二右側(cè)角度板202和第二左側(cè)角度板201的高度，使得第二線性蒸發(fā)源200的蒸鍍區(qū)域覆蓋目標(biāo)基板；[0061 ]當(dāng)?shù)谝痪€性蒸發(fā)源100的蒸鍍區(qū)域和第一線性蒸發(fā)源100的蒸鍍區(qū)域覆蓋目標(biāo)基板時(shí)，通過第一線性蒸發(fā)源100蒸鍍第一種蒸鍍材料，第二線性蒸發(fā)源200蒸鍍第二種材料，使得第一種蒸鍍材料和第二種蒸鍍材料在目標(biāo)基板上混合，形成雙主體蒸鍍膜4。
[0062]請(qǐng)參閱圖6，當(dāng)?shù)谝痪€性蒸發(fā)源100和第二線性蒸發(fā)源200的蒸鍍角均為70°-90°時(shí)，可以看出第一線性蒸發(fā)源100的蒸鍍區(qū)域和第二線性蒸發(fā)源200的蒸鍍區(qū)域的重合性并不好，所形成的雙主體蒸鍍膜的混合均一性最差可以達(dá)到O;
[0063]請(qǐng)參閱圖7，而當(dāng)?shù)谝痪€性蒸發(fā)源100和第二線性蒸發(fā)源200的蒸鍍角均為40°-55°時(shí)，可以看出雙主體蒸鍍膜4的混合均一性有了進(jìn)一步的提升，所形成的雙主體蒸鍍膜4的混合均一性約為70 %左右。
[0064]需要說明的是，雖然上述實(shí)施例中第一線性蒸發(fā)源100可以利用第一左側(cè)角度板101和第一右側(cè)角度板102的高度差，調(diào)整第一線性蒸發(fā)源100的蒸鍍角，第二線性蒸發(fā)源200可以利用第二右側(cè)角度板102和第一左側(cè)角度板101的高度差，調(diào)整第二線性蒸發(fā)源200的蒸鍍角;但是，仍然不可能將雙主體蒸鍍膜4的混合均一性提升至100%，這是因?yàn)檎翦儾牧涎刂鴩娮旆较蚋鱾€(gè)位置的速率不同，而噴嘴有導(dǎo)向氣流的作用，因此，沿著噴嘴軸向方向的蒸鍍速率Vc最高，向兩側(cè)的蒸鍍速率Vs逐漸降低，這就使得蒸鍍材料在不同方向上蒸鍍到目標(biāo)基板時(shí)，蒸鍍量以噴嘴軸向方向?yàn)橹行南騼蓚?cè)依次減少，因此，可以通過降低各個(gè)噴嘴的軸線與對(duì)應(yīng)的線性安裝面所形成的噴嘴安裝角度，并增加各個(gè)噴嘴孔徑，提升雙主體蒸鍍膜4的混合均一性;請(qǐng)參閱圖8，經(jīng)試驗(yàn)證明，通過這樣的調(diào)整，雙主體蒸鍍膜4的混合均一性提升到85%以上。
[0065]需要說明的是，上述實(shí)施例中第一線性蒸發(fā)源100的噴嘴安裝角度與第二線性蒸發(fā)源200的噴嘴安裝角度互補(bǔ)，這樣第一線性蒸發(fā)源100的線性噴嘴組噴出的蒸鍍氣體在目標(biāo)基板上形成的蒸鍍膜中，膜厚比較薄的地方可以由第一線性蒸發(fā)源100的線性噴嘴組噴出的蒸鍍氣體在目標(biāo)基板上形成的蒸鍍膜中，膜厚比較厚的地方進(jìn)行彌補(bǔ)。
[0066]本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種蒸鍍裝置，包括上述技術(shù)方案提供的線性蒸發(fā)源或上述技術(shù)方案提供的蒸發(fā)源系統(tǒng)。
[0067]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)施例提供的蒸鍍裝置與上述技術(shù)方案提供的線性蒸發(fā)源或上述技術(shù)方案提供的蒸發(fā)源系統(tǒng)的有益效果相同，在此不做贅述。
[0068]在上述實(shí)施方式的描述中，具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。
[0069]以上所述，僅為本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種線性蒸發(fā)源，其特征在于，包括用于蒸發(fā)蒸鍍材料的加熱裝置，所述加熱裝置的噴嘴安裝面上設(shè)有線性噴嘴組，所述線性噴嘴組包括沿線源方向設(shè)在噴嘴安裝面的多個(gè)噴嘴;所述加熱裝置中設(shè)有能夠使所述加熱裝置的加熱溫度均一的溫度補(bǔ)償板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述加熱裝置的加熱部位于溫度補(bǔ)償板內(nèi)，所述加熱部具多個(gè)加熱位置，各所述加熱位置的加熱溫度不同，所述溫度補(bǔ)償板與加熱溫度高的加熱位置對(duì)應(yīng)的部分厚度較薄，所述溫度補(bǔ)償板與加熱溫度低的加熱位置對(duì)應(yīng)的部分厚度較厚。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述溫度補(bǔ)償單元為分體式結(jié)構(gòu)或一體式結(jié)構(gòu)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述溫度補(bǔ)償板包括多個(gè)溫度補(bǔ)償單元，多個(gè)溫度補(bǔ)償單元沿著線源方向排列。5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，從所述線性噴嘴組的中心向所述線性噴嘴組的兩側(cè)，所述線性噴嘴組中噴嘴的孔徑增大或減小。6.—種蒸發(fā)源系統(tǒng)，其特征在于，包括至少兩個(gè)權(quán)利要求1?5中任一項(xiàng)所述線性蒸發(fā)源，各所述線性蒸發(fā)源沿線源方向排列。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸發(fā)源系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)所述線性蒸發(fā)源中，所述噴嘴安裝面上設(shè)有兩個(gè)能夠調(diào)整所述線性蒸發(fā)源的蒸鍍區(qū)域的角度板，所述線性噴嘴組位于兩個(gè)所述角度板之間。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蒸發(fā)源系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)所述線性蒸發(fā)源中，兩個(gè)所述角度板具有能夠調(diào)節(jié)蒸鍍區(qū)域的高度差;所述角度板的高度是指所述角度板伸出所述噴嘴安裝面的長度。9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的蒸發(fā)源系統(tǒng)，其特征在于，所述線性蒸發(fā)源的數(shù)目為兩個(gè)時(shí)，各所述線性蒸發(fā)源的蒸鍍角均為40° -55°或70° -90°。10.—種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1?5中任一項(xiàng)所述的線性蒸發(fā)源或權(quán)利要求6?9中任一項(xiàng)所述的蒸發(fā)源系統(tǒng)。
【文檔編號(hào)】C23C14/24GK205443432SQ201620286974
【公開日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2016年4月7日
【發(fā)明人】張金中
【申請(qǐng)人】鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司