一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，研磨拋光設(shè)備包括控制機(jī)構(gòu)，分區(qū)加壓裝置包括外圈加壓機(jī)構(gòu)和內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)，控制機(jī)構(gòu)連接氣動機(jī)構(gòu)；外圈加壓機(jī)構(gòu)包括與氣動機(jī)構(gòu)連接的氣缸，氣缸通過第一傳動機(jī)構(gòu)與研磨拋光設(shè)備的研磨拋光組件連接；內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)包括與氣動機(jī)構(gòu)連接的旋轉(zhuǎn)接頭，旋轉(zhuǎn)接頭與設(shè)于第一傳動機(jī)構(gòu)內(nèi)部的第二傳動機(jī)構(gòu)連接，第二傳動機(jī)構(gòu)連接中心研磨板，中心研磨板可動設(shè)于研磨拋光組件底部中心。本實用新型的外圈加壓機(jī)構(gòu)整體加壓，內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)完成中心加壓，避免直徑不同導(dǎo)致線速度不同時整盤晶片一致性差，外圈和內(nèi)圈成品晶片一致性高，研磨拋光精度高，生產(chǎn)效率提升，成品合格率顯著提高。
【專利說明】
一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型屬于用于磨削或拋光的機(jī)床、裝置或工藝的技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種利用對研磨體不同位置的壓力進(jìn)行控制、通過區(qū)塊間的壓力差實現(xiàn)研磨拋光后工件成品的厚度均勻、一致性好的適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]單面研磨拋光設(shè)備是高精度的平面加工設(shè)備，其有著高強(qiáng)度機(jī)械構(gòu)造和穩(wěn)定的精度，主要用作石英晶體片、硅、鍺片、玻璃、陶瓷片、活塞環(huán)、閥板、閥片、軸承、鉬片、藍(lán)寶石及各種片狀金屬及其他圓盤類零件、非金屬零件的單面研磨拋光。
[0003]目前，小型的單面研磨拋光設(shè)備，一般采用單個氣缸控制研磨拋光頭的上升、下降和對研磨拋光頭的加壓，而由于小型研磨拋光設(shè)備的陶瓷盤上，晶片的數(shù)量往往只有1-2圈，而且本身陶瓷盤的直徑又較小，所以由于陶瓷盤的直徑差而產(chǎn)生的一致性誤差可以忽略不計。
[0004]然而現(xiàn)有技術(shù)中，對于單面研磨拋光設(shè)備的要求越來越高，對于產(chǎn)品的需求量亦很大，這勢必需要應(yīng)用大型的研磨拋光設(shè)備來完成作業(yè)，但是若采用相同的技術(shù)運(yùn)用在大型研磨拋光設(shè)備上，在工作過程中，晶片的研磨拋光通過研磨拋光組件與下研磨盤之間的相對運(yùn)動實現(xiàn)，當(dāng)陶瓷盤上的直徑不同的時候，線速度會隨著直徑的變大而增加，從而會使得最終成品的晶片出現(xiàn)處于陶瓷盤內(nèi)層的晶片厚、外層的晶片薄的現(xiàn)象，影響了整盤晶片的一致性，陶瓷盤的直徑差越大，研磨拋光的一致性誤差就會更大，嚴(yán)重影響研磨拋光精度，降低生產(chǎn)效率，不合格率大大提升。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型解決的技術(shù)問題是，由于現(xiàn)有技術(shù)中，在大型研磨拋光設(shè)備工作的過程中，晶片的研磨拋光通過研磨拋光組件與下研磨盤之間的相對運(yùn)動實現(xiàn)，當(dāng)陶瓷盤上的直徑不同的時候，線速度會隨著直徑的變大而增加，而導(dǎo)致的最終成品的晶片出現(xiàn)處于陶瓷盤內(nèi)層的晶片厚、外層的晶片薄的現(xiàn)象，影響了整盤晶片的一致性，陶瓷盤的直徑差越大，研磨拋光的一致性誤差就會更大，嚴(yán)重影響研磨拋光精度，降低生產(chǎn)效率，不合格率大大提升的問題，進(jìn)而提供了一種優(yōu)化結(jié)構(gòu)的適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置。
[0006]本實用新型所采用的技術(shù)方案是，一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，所述研磨拋光設(shè)備包括與所述分區(qū)加壓裝置連接的控制機(jī)構(gòu)，所述分區(qū)加壓裝置包括外圈加壓機(jī)構(gòu)和內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)，所述控制機(jī)構(gòu)連接有氣動機(jī)構(gòu);所述外圈加壓機(jī)構(gòu)包括與所述氣動機(jī)構(gòu)連接的氣缸，所述氣缸通過第一傳動機(jī)構(gòu)與所述研磨拋光設(shè)備的研磨拋光組件連接;所述內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)包括與所述氣動機(jī)構(gòu)連接的旋轉(zhuǎn)接頭，所述旋轉(zhuǎn)接頭與設(shè)于所述第一傳動機(jī)構(gòu)內(nèi)部的第二傳動機(jī)構(gòu)連接，所述第二傳動機(jī)構(gòu)連接至中心研磨板，所述中心研磨板可動設(shè)于所述研磨拋光組件的底部中心。
[0007]優(yōu)選地，所述第一傳動機(jī)構(gòu)包括與所述氣缸順次連接的連接座和花鍵軸，所述花鍵軸外側(cè)配合設(shè)置有花鍵套，所述花鍵套與所述研磨拋光組件連接。
[0008]優(yōu)選地，所述第二傳動機(jī)構(gòu)包括與所述旋轉(zhuǎn)接頭順次連接的中心軸和若干導(dǎo)軸，所述中心軸同軸設(shè)于花鍵軸內(nèi)，所述導(dǎo)軸連接至中心研磨板且均勻分布于中心研磨板上。
[0009]優(yōu)選地，所述連接座包括限位塊，所述限位塊設(shè)于所述花鍵軸上方。
[0010]優(yōu)選地，所述氣動機(jī)構(gòu)包括氣源、I個與所述氣缸連接的三位五通閥和I個與所述旋轉(zhuǎn)接頭連接的第一減壓閥，所述氣源分別通過氣路與所述三位五通閥和第一減壓閥連接。
[0011 ] 優(yōu)選地，所述三位五通閥包括下降電磁閥和上升電磁閥，所述下降電磁閥和上升電磁閥分別通過氣路連接至氣源，所述下降電磁閥與氣源連接的氣路上還設(shè)有第二減壓閥，所述第二減壓閥連接有第一比例閥，所述第一比例閥通過氣路連接至氣源。
[0012]優(yōu)選地，所述下降電磁閥和上升電磁閥連接至消聲機(jī)構(gòu)。
[0013]優(yōu)選地，所述第一減壓閥還連接有第二比例閥，所述第二比例閥通過氣路連接至氣源。
[0014]優(yōu)選地，所述氣缸上設(shè)置有若干傳感器，所述傳感器為接近開關(guān)。
[0015]本實用新型提供了一種優(yōu)化結(jié)構(gòu)的適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，通過將分區(qū)加壓裝置設(shè)置為外圈加壓機(jī)構(gòu)和內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)，外圈加壓機(jī)構(gòu)通過氣缸帶動第一傳動機(jī)構(gòu)運(yùn)動并作用于研磨拋光設(shè)備的研磨拋光組件，進(jìn)行整體范圍內(nèi)的加壓，內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)通過旋轉(zhuǎn)接頭帶動設(shè)于第一傳動機(jī)構(gòu)內(nèi)部的第二傳動機(jī)構(gòu)并作用于設(shè)在研磨拋光組件中心的中心研磨板，即完成了中心部分區(qū)域的加壓，避免了陶瓷盤上的直徑不同導(dǎo)致線速度不同時出現(xiàn)的整盤晶片的一致性差的情況，通過調(diào)整不同區(qū)域的壓力差，實現(xiàn)陶瓷盤上外圈和內(nèi)圈的成品晶片的一致性高，研磨拋光精度高，生產(chǎn)效率大大提升，成品的合格率有顯著的提高。
【附圖說明】
[0016]圖1為本實用新型的分區(qū)加壓裝置的剖視圖結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2為本實用新型的外圈加壓機(jī)構(gòu)的氣路結(jié)構(gòu)，A位置為進(jìn)氣位，B位置為驅(qū)使氣缸往下的氣路，C位置為驅(qū)使氣缸往上的氣路，D位置為比例閥調(diào)節(jié)用氣路；
[0018]圖3為本實用新型的內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)的氣路結(jié)構(gòu)，E位置和F位置為進(jìn)氣位，G位置為內(nèi)圈加壓的出氣口。
【具體實施方式】
[0019]下面結(jié)合實施例對本實用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)描述，但本實用新型的保護(hù)范圍并不限于此。
[0020]如圖所示，本實用新型涉及一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，所述研磨拋光設(shè)備包括與所述分區(qū)加壓裝置連接的控制機(jī)構(gòu)，所述分區(qū)加壓裝置包括外圈加壓機(jī)構(gòu)和內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)，所述控制機(jī)構(gòu)連接有氣動機(jī)構(gòu);所述外圈加壓機(jī)構(gòu)包括與所述氣動機(jī)構(gòu)連接的氣缸I，所述氣缸I通過第一傳動機(jī)構(gòu)與所述研磨拋光設(shè)備的研磨拋光組件2連接;所述內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)包括與所述氣動機(jī)構(gòu)連接的旋轉(zhuǎn)接頭3，所述旋轉(zhuǎn)接頭3與設(shè)于所述第一傳動機(jī)構(gòu)內(nèi)部的第二傳動機(jī)構(gòu)連接，所述第二傳動機(jī)構(gòu)連接至中心研磨板2-1，所述中心研磨板2-1可動設(shè)于所述研磨拋光組件2的底部中心。
[0021]本實用新型中，研磨拋光設(shè)備包括與分區(qū)加壓裝置連接的控制機(jī)構(gòu)，分區(qū)加壓裝置包括外圈加壓機(jī)構(gòu)和內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)，控制機(jī)構(gòu)連接有氣動機(jī)構(gòu)，即本實用新型中由控制機(jī)構(gòu)控制氣動機(jī)構(gòu)操縱外圈加壓機(jī)構(gòu)和內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)完成不同區(qū)域的工件的加壓研磨拋光作業(yè)。
[0022]本實用新型中，外圈加壓機(jī)構(gòu)包括與氣動機(jī)構(gòu)連接的氣缸I，氣缸I通過第一傳動機(jī)構(gòu)與研磨拋光設(shè)備的研磨拋光組件2連接，內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)包括與氣動機(jī)構(gòu)連接的旋轉(zhuǎn)接頭3，旋轉(zhuǎn)接頭3與設(shè)于第一傳動機(jī)構(gòu)內(nèi)部的第二傳動機(jī)構(gòu)連接，第二傳動機(jī)構(gòu)連接至中心研磨板2-1，中心研磨板2-1可動設(shè)于研磨拋光組件2的中心；外圈加壓依靠氣缸I的作用完成，氣缸I上下運(yùn)動的時候，第一傳動機(jī)構(gòu)也上下運(yùn)動，從而帶動整個研磨拋光組件2做上下運(yùn)動，而當(dāng)研磨拋光組件2與設(shè)備的下研磨盤接觸以后，氣缸I若繼續(xù)加壓，則壓力傳遞到研磨拋光組件2的研磨拋光頭2-2處，壓力的范圍處于整個研磨拋光組件2的外圈區(qū)域，從而實現(xiàn)研磨拋光組件2的外圈加壓；內(nèi)圈加壓為當(dāng)氣路當(dāng)中的氣體導(dǎo)入、通過旋轉(zhuǎn)接頭3后，氣壓通過第二傳動機(jī)構(gòu)傳遞至中心研磨板2-1，中心研磨板2-1向下增加接觸面積上的壓力，實現(xiàn)研磨拋光組件2的內(nèi)圈加壓。
[0023]所述第一傳動機(jī)構(gòu)包括與所述氣缸I順次連接的連接座4和花鍵軸5，所述花鍵軸5外側(cè)配合設(shè)置有花鍵套6，所述花鍵套6與所述研磨拋光組件2連接。
[0024]所述第二傳動機(jī)構(gòu)包括與所述旋轉(zhuǎn)接頭3順次連接的中心軸7和若干導(dǎo)軸8，所述中心軸7同軸設(shè)于花鍵軸5內(nèi)，所述導(dǎo)軸8連接至中心研磨板2-1且均勾分布于中心研磨板2-1ilo
[0025]本實用新型中，第一傳動機(jī)構(gòu)包括與氣缸I順次連接的連接座4和花鍵軸5，花鍵軸5外側(cè)配合設(shè)置有花鍵套6，且花鍵套6與研磨拋光組件2連接，即氣缸I通過連接座4作用于花鍵軸5，花鍵軸5通過與花鍵套6的配合作用將壓力作用于花鍵套6，由花鍵套6帶動研磨拋光組件2上下運(yùn)動并傳遞壓力。
[0026]本實用新型中，第二傳動機(jī)構(gòu)包括與旋轉(zhuǎn)接頭3順次連接的中心軸7和導(dǎo)軸8，導(dǎo)軸8連接至中心研磨板2-1，即氣壓通過旋轉(zhuǎn)接頭3通入作用于中心軸7，中心軸7作用于導(dǎo)軸8，導(dǎo)軸8直接作用于中心研磨板2-1，對于下研磨盤中心位置的待研磨拋光工件進(jìn)行加壓研磨拋光。
[0027]本實用新型中，中心軸7同軸設(shè)于花鍵軸5中，保證了同一區(qū)域的工件在完成研磨拋光后不會出現(xiàn)研磨拋光面不平整的問題。
[0028]本實用新型中，導(dǎo)軸8均勻分布于中心研磨板2-1上，保證了同一區(qū)域的工件在完成研磨拋光后不會出現(xiàn)研磨拋光面不平整的問題。
[0029]所述連接座4包括限位塊9，所述限位塊9設(shè)于所述花鍵軸5上方。
[0030]本實用新型中，在連接座4上設(shè)置限位塊9，使得花鍵軸5在上升的過程中可以由限位塊9進(jìn)行限位，分區(qū)加壓裝置上升時到達(dá)上極限安全位置即會停下，保證研磨拋光工作的正常安全進(jìn)行。
[0031]所述氣動機(jī)構(gòu)包括氣源、I個與所述氣缸I連接的三位五通閥10和I個與所述旋轉(zhuǎn)接頭3連接的第一減壓閥11，所述氣源分別通過氣路與所述三位五通閥10和第一減壓閥11連接。
[0032]本實用新型中，氣動機(jī)構(gòu)包括氣源、三位五通閥10和第一減壓閥11，其中，三位五通閥10與氣缸I連接，主要用于控制外圈加壓機(jī)構(gòu)的正常工作，第一減壓閥11與旋轉(zhuǎn)接頭3連接，主要用于控制內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)的正常工作。
[0033 ] 所述三位五通閥1包括下降電磁閥12和上升電磁閥13，所述下降電磁閥12和上升電磁閥13分別通過氣路連接至氣源，所述下降電磁閥12與氣源連接的氣路上還設(shè)有第二減壓閥14，所述第二減壓閥14連接有第一比例閥15，所述第一比例閥15通過氣路連接至氣源。
[0034]本實用新型中，三位五通閥10包括下降電磁閥12和上升電磁閥13，分別用于控制氣缸I完成分區(qū)加壓裝置下降或上升的控制作業(yè)，其中，下降電磁閥12還順次連接了第二減壓閥14、第一比例閥15和氣源，第二減壓閥14和第一比例閥15用于調(diào)節(jié)氣路流量，及時補(bǔ)氣或減氣，保證了加壓工作的正常進(jìn)行。
[0035]所述下降電磁閥12和上升電磁閥13連接至消聲機(jī)構(gòu)。
[0036]本實用新型中，消聲機(jī)構(gòu)起到輔助下降電磁閥12和上升電磁閥13將氣體導(dǎo)出氣路并降低出氣聲音的裝置，一般情況下，消聲機(jī)構(gòu)可以設(shè)置為導(dǎo)氣口處的過濾網(wǎng)。
[0037]所述第一減壓閥11還連接有第二比例閥16，所述第二比例閥16通過氣路連接至氣源。
[0038]本實用新型中，第一減壓閥11、第二比例閥16和氣源順次連接，第一減壓閥11和第二比例閥16通過控制氣路流量來增加中心研磨板2-1的壓力，使擺放在研磨拋光裝置內(nèi)圈區(qū)域的待研磨拋光工件得到充分的研磨拋光，保證了研磨拋光的一致性。
[0039]所述氣缸I上設(shè)置有若干傳感器，所述傳感器為接近開關(guān)。
[0040]本實用新型中，氣缸I上一般設(shè)置3個傳感器，傳感器一般采用接近開關(guān)完成傳感作業(yè)。
[0041]本實用新型中，氣缸I上的3個接近開關(guān)分別設(shè)置于氣缸I的2個行程極限位置和由具體的操作人員根據(jù)實際情況設(shè)置的中間變速位置。
[0042]本實用新型的原理包括以下步驟:
[0043]步驟一:此時下降電磁閥12和上升電磁閥13都為休眠狀態(tài)，三位五通閥10處于平衡模式，五個口的氣路全部封閉，氣路均沒有連通氣源，氣缸I不會受到向上或向下的氣壓，研磨拋光組件2保持不動；
[0044]步驟二:上升電磁閥13通電工作，下降電磁閥12處于休眠狀態(tài)，三位五通閥10進(jìn)入上升工作模式，上升電磁閥13與氣源間的氣路接通，三位五通閥10與氣缸I間的氣路接通，下降電磁閥12連接至消聲機(jī)構(gòu)排氣，此時氣缸I受到往上頂?shù)臍鈮憾蛏线\(yùn)動，帶動研磨拋光組件2達(dá)到連接座4的限位塊9時到達(dá)上極限安全位置停下；
[0045]步驟三:放入待研磨拋光工件后，下降電磁閥12通電工作，上升電磁閥13處于休眠狀態(tài)，三位五通閥10進(jìn)入下降工作模式，下降電磁閥12與氣源間的氣路接通，三位五通閥10與氣缸I間的氣路接通，第二減壓閥14和第一比例閥15與氣源間的氣路接通進(jìn)行氣路調(diào)節(jié)，上升電磁閥13連接至消聲機(jī)構(gòu)排氣，氣缸I受到氣壓而驅(qū)動研磨拋光組件2向下，直至研磨拋光組件2至一定位置，傳感器反饋信號至控制機(jī)構(gòu)，氣缸I停止驅(qū)動，研磨拋光組件2停止下降；
[0046]步驟四:當(dāng)傳感器檢測到研磨拋光組件2的下降位置時，第二減壓閥14和第一比例閥11組成的氣路調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)開始控制氣路流量，使其逐漸減小，研磨拋光組件2的研磨拋光頭2-2下表面慢慢降到與待研磨拋光工件接觸，然后進(jìn)入自動研磨拋光狀態(tài)，研磨拋光過程中第二減壓閥14和第一比例閥15組成的氣路調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)時刻控制氣流量直到完成待研磨拋光工件的加工；
[0047]步驟五:當(dāng)步驟四達(dá)到穩(wěn)定時，接通第一減壓閥11和第二比例閥16組成的調(diào)節(jié)裝置與氣源間的氣路，第一減壓閥11直接作用于旋轉(zhuǎn)接頭3，控制氣路流量作用于中心軸7，設(shè)于研磨拋光組件2中心的中心研磨板2-1壓力增大，對待研磨拋光工件的中心位置進(jìn)行加壓研磨拋光；
[0048]步驟六:研磨拋光結(jié)束，上升電磁閥13通電工作，下降電磁閥12處于休眠狀態(tài)，三位五通閥10進(jìn)入上升工作模式，上升電磁閥13與氣源間的氣路接通，三位五通閥10與氣缸I間的氣路接通，下降電磁閥12連接至消聲機(jī)構(gòu)排氣，關(guān)閉第一減壓閥11和第二比例閥16組成的調(diào)節(jié)裝置與氣源間的氣路，此時氣缸I受到往上頂?shù)臍鈮憾蛏线\(yùn)動，帶動研磨拋光組件2達(dá)到連接座4的限位塊9時到達(dá)上極限安全位置停下。
[0049]本實用新型中，以上步驟分別完成了分區(qū)加壓裝置平衡、分區(qū)加壓裝置整體上升、分區(qū)加壓裝置整體下降、分區(qū)加壓裝置整體研磨拋光、分區(qū)加壓裝置局部加壓分區(qū)域研磨拋光和分區(qū)加壓裝置整體上升的工作過程。
[0050]本實用新型中，A位置為進(jìn)氣位，B位置為驅(qū)使氣缸I往下的氣路，C位置為驅(qū)使氣缸I往上的氣路，D位置為比例閥調(diào)節(jié)用氣路，E位置和F位置為內(nèi)圈加壓的進(jìn)氣位，G位置為內(nèi)圈加壓的出氣口，根據(jù)啟閉的電磁閥的不同而啟閉上述不同的位置。
[0051]本實用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中，在大型研磨拋光設(shè)備工作的過程中，晶片的研磨拋光通過研磨拋光組件2與下研磨盤之間的相對運(yùn)動實現(xiàn)，當(dāng)陶瓷盤上的直徑不同的時候，線速度會隨著直徑的變大而增加，而導(dǎo)致的最終成品的晶片出現(xiàn)處于陶瓷盤內(nèi)層的晶片厚、外層的晶片薄的現(xiàn)象，影響了整盤晶片的一致性，陶瓷盤的直徑差越大，研磨拋光的一致性誤差就會更大，嚴(yán)重影響研磨拋光精度，降低生產(chǎn)效率，不合格率大大提升的問題，通過將分區(qū)加壓裝置設(shè)置為外圈加壓機(jī)構(gòu)和內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)，外圈加壓機(jī)構(gòu)通過氣缸I帶動第一傳動機(jī)構(gòu)運(yùn)動并作用于研磨拋光設(shè)備的研磨拋光組件2，進(jìn)行整體范圍內(nèi)的加壓，內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)通過旋轉(zhuǎn)接頭3帶動設(shè)于第一傳動機(jī)構(gòu)內(nèi)部的第二傳動機(jī)構(gòu)并作用于設(shè)在研磨拋光組件2中心的中心研磨板2-1，即完成了中心部分區(qū)域的加壓，避免了陶瓷盤上的直徑不同導(dǎo)致線速度不同時出現(xiàn)的整盤晶片的一致性差的情況，通過調(diào)整不同區(qū)域的壓力差，實現(xiàn)陶瓷盤上外圈和內(nèi)圈的成品晶片的一致性高，研磨拋光精度高，生產(chǎn)效率大大提升，成品的合格率有顯著的提高。
【主權(quán)項】
1.一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，所述研磨拋光設(shè)備包括與所述分區(qū)加壓裝置連接的控制機(jī)構(gòu)，其特征在于:所述分區(qū)加壓裝置包括外圈加壓機(jī)構(gòu)和內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)，所述控制機(jī)構(gòu)連接有氣動機(jī)構(gòu);所述外圈加壓機(jī)構(gòu)包括與所述氣動機(jī)構(gòu)連接的氣缸，所述氣缸通過第一傳動機(jī)構(gòu)與所述研磨拋光設(shè)備的研磨拋光組件連接;所述內(nèi)圈加壓機(jī)構(gòu)包括與所述氣動機(jī)構(gòu)連接的旋轉(zhuǎn)接頭，所述旋轉(zhuǎn)接頭與設(shè)于所述第一傳動機(jī)構(gòu)內(nèi)部的第二傳動機(jī)構(gòu)連接，所述第二傳動機(jī)構(gòu)連接至中心研磨板，所述中心研磨板可動設(shè)于所述研磨拋光組件的底部中心。2.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，其特征在于:所述第一傳動機(jī)構(gòu)包括與所述氣缸順次連接的連接座和花鍵軸，所述花鍵軸外側(cè)配合設(shè)置有花鍵套，所述花鍵套與所述研磨拋光組件連接。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，其特征在于:所述第二傳動機(jī)構(gòu)包括與所述旋轉(zhuǎn)接頭順次連接的中心軸和若干導(dǎo)軸，所述中心軸同軸設(shè)于花鍵軸內(nèi)，所述導(dǎo)軸連接至中心研磨板且均勻分布于中心研磨板上。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，其特征在于:所述連接座包括限位塊，所述限位塊設(shè)于所述花鍵軸上方。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，其特征在于:所述氣動機(jī)構(gòu)包括氣源、I個與所述氣缸連接的三位五通閥和I個與所述旋轉(zhuǎn)接頭連接的第一減壓閥，所述氣源分別通過氣路與所述三位五通閥和第一減壓閥連接。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，其特征在于:所述三位五通閥包括下降電磁閥和上升電磁閥，所述下降電磁閥和上升電磁閥分別通過氣路連接至氣源，所述下降電磁閥與氣源連接的氣路上還設(shè)有第二減壓閥，所述第二減壓閥連接有第一比例閥，所述第一比例閥通過氣路連接至氣源。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，其特征在于:所述下降電磁閥和上升電磁閥連接至消聲機(jī)構(gòu)。8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，其特征在于:所述第一減壓閥還連接有第二比例閥，所述第二比例閥通過氣路連接至氣源。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于大型單面研磨拋光設(shè)備的分區(qū)加壓裝置，其特征在于:所述氣缸上設(shè)置有若干傳感器，所述傳感器為接近開關(guān)。
【文檔編號】B24B37/04GK205465665SQ201521119683
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2015年12月30日
【發(fā)明人】張峰, 裴忠, 梁文, 朱勤超, 金志杰
【申請人】天通吉成機(jī)器技術(shù)有限公司