一種新型真空鍍膜裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種新型真空鍍膜裝置，包括本體，本體內(nèi)上部設(shè)有攝像頭，攝像頭與監(jiān)控器連接，攝像頭下部設(shè)有模板，模版下方設(shè)有第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第三蒸發(fā)源，本體側(cè)邊設(shè)有氣管，氣管與真空泵連接，氣管上設(shè)有過濾器，第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第三蒸發(fā)源外部均設(shè)有保護罩，保護罩與鍍膜發(fā)生件連接，鍍膜發(fā)生件正對模板，本體內(nèi)設(shè)有溫度傳感器，溫度傳感器與控制器連接，控制器分別與第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第三蒸發(fā)源連接。本實用新型具有結(jié)構(gòu)簡單、造價便宜、生產(chǎn)質(zhì)量好、薄膜形成均勻、避免交叉污染及自動化程度高等特點。
【專利說明】
-種新型真空媳膜裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本實用新型設(shè)及真空鍛膜技術(shù)，具體來說是一種新型真空鍛膜裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 金銀絲就是用物理的方法將度上顏色的PET聚脂膜切成極細的絲?，F(xiàn)有技術(shù)中要 生產(chǎn)金銀絲，就先要進行PET聚脂膜進行上顏色，真空鍛膜技術(shù)中，往往將材料高溫加熱，然 后冷卻到基片形成薄膜，在鍛膜過程中，由于材料會形成氣體，氣體具有不穩(wěn)定性，并且由 于真空鍛膜的腔體的腔體較大，運樣會使薄膜形成的不均勻；由于真空腔體內(nèi)存在多個蒸 發(fā)源，當使用其中一個蒸發(fā)源時，會對其他的蒸發(fā)源造成污染，影響鍛膜的質(zhì)量;另外，對于 鍛膜的溫度等工藝條件不好把握，直接影響其生產(chǎn)效果。 【實用新型內(nèi)容】
[0003] 本實用新型的目的在于克服W上現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供了一種結(jié)構(gòu)簡單、造 價便宜、生產(chǎn)質(zhì)量好、薄膜形成均勻、避免交叉污染及自動化程度高的新型真空鍛膜裝置。
[0004] 為了達到上述目的，本實用新型采用W下技術(shù)方案:一種新型真空鍛膜裝置，包括 本體，本體內(nèi)上部設(shè)有攝像頭，攝像頭與監(jiān)控器連接，攝像頭下部設(shè)有模板，模版下方設(shè)有 第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第=蒸發(fā)源，本體側(cè)邊設(shè)有氣管，氣管與真空累連接，氣管上設(shè) 有過濾器，第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第=蒸發(fā)源外部均設(shè)有保護罩，保護罩與鍛膜發(fā)生件 連接，鍛膜發(fā)生件正對模板，本體內(nèi)設(shè)有溫度傳感器，溫度傳感器與控制器連接，控制器分 別與第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第=蒸發(fā)源連接。
[0005] 所述保護罩為上粗下細的圓臺形結(jié)構(gòu)。
[0006] 所述鍛膜發(fā)生件包括鍛膜發(fā)生件本體，鍛膜發(fā)生件本體為矩形結(jié)構(gòu)，鍛膜發(fā)生件 本體四周向上翻折。
[0007] 所述鍛膜發(fā)生件本體上設(shè)有一隔板，隔板上開設(shè)有若干通孔。
[000引所述控制器為化C控制器。
[0009] 所述鍛膜發(fā)生件本體上設(shè)有支撐件安裝孔，支撐件安裝孔與支撐件連接，支撐件 與修正板連接。
[0010] 本實用新型相對于現(xiàn)有技術(shù)，具有如下的優(yōu)點及效果：
[0011] 1、本實用新型包括本體，本體內(nèi)上部設(shè)有攝像頭，攝像頭與監(jiān)控器連接，攝像頭下 部設(shè)有模板，模版下方設(shè)有第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第=蒸發(fā)源，本體側(cè)邊設(shè)有氣管，氣 管與真空累連接，氣管上設(shè)有過濾器，第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第=蒸發(fā)源外部均設(shè)有保 護罩，保護罩與鍛膜發(fā)生件連接，鍛膜發(fā)生件正對模板，本體內(nèi)設(shè)有溫度傳感器，溫度傳感 器與控制器連接，控制器分別與第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第=蒸發(fā)源連接，具有結(jié)構(gòu)簡 單、造價便宜、生產(chǎn)質(zhì)量好、薄膜形成均勻、避免交叉污染及自動化程度高等特點。
[0012] 2、本實用新型中的保護罩為上粗下細的圓臺形結(jié)構(gòu)，具有薄膜形成均勻，隔離效 果好等特點。
[0013] 3、本實用新型中的鍛膜發(fā)生件包括鍛膜發(fā)生件本體，鍛膜發(fā)生件本體為矩形結(jié) 構(gòu)，鍛膜發(fā)生件本體四周向上翻折，隔離效果好，生產(chǎn)質(zhì)量好。
[0014] 4、本實用新型中的鍛膜發(fā)生件本體上設(shè)有一隔板，隔板上開設(shè)有若干通孔，適用 范圍廣。
[0015] 5、本實用新型中的鍛膜發(fā)生件本體上設(shè)有支撐件安裝孔，支撐件安裝孔與支撐件 連接，支撐件與修正板連接，可W進行修正，生產(chǎn)質(zhì)量好。
【附圖說明】
[0016] 圖1為一種新型真空鍛膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017] 圖中標號與名稱如下： 「nniRl

【具體實施方式】
[0019] 為便于本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，下面結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步的詳 細說明。
[0020] 實施例1:
[0021] 如圖1所示，一種新型真空鍛膜裝置，包括本體1，本體1內(nèi)上部設(shè)有攝像頭2,攝像 頭2與監(jiān)控器3連接，攝像頭2下部設(shè)有模板4,模版4下方設(shè)有第一蒸發(fā)源5、第二蒸發(fā)源6及 第=蒸發(fā)源7，本體1側(cè)邊設(shè)有氣管8，氣管8與真空累9連接，氣管8上設(shè)有過濾器10，第一蒸 發(fā)源5、第二蒸發(fā)源6及第=蒸發(fā)源7外部均設(shè)有保護罩11，保護罩11與鍛膜發(fā)生件12連接， 鍛膜發(fā)生件12正對模板4,本體1內(nèi)設(shè)有溫度傳感器13,溫度傳感器13與控制器(未示意出） 連接，控制器分別與第一蒸發(fā)源5、第二蒸發(fā)源6及第=蒸發(fā)源7連接。
[0022] 本實施例中的保護罩11為上粗下細的圓臺形結(jié)構(gòu);控制器為化C控制器。
[0023] 本實施例中的鍛膜發(fā)生件12包括鍛膜發(fā)生件本體，鍛膜發(fā)生件本體12為矩形結(jié) 構(gòu)，鍛膜發(fā)生件本體12四周向上翻折。
[0024] 采用上述結(jié)構(gòu)，鍛膜能均勻，避免蒸發(fā)源交叉污染，溫度容易控制，產(chǎn)品質(zhì)量好，生 產(chǎn)速度快，深受消費者喜愛。
[0025] 實施例2:
[0026] 本實施例與實施例1不同之處在于:本實施例中的鍛膜發(fā)生件本體12上設(shè)有一隔 板，隔板上開設(shè)有若干通孔，鍛膜發(fā)生件本體12上設(shè)有支撐件安裝孔，支撐件安裝孔與支撐 件連接，支撐件與修正板(未示意出)連接。
[0027] 上述【具體實施方式】為本實用新型的優(yōu)選實施例，并不能對本實用新型進行限定， 其他的任何未背離本實用新型的技術(shù)方案而所做的改變或其它等效的置換方式，都包含在 本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1. 一種新型真空鍍膜裝置，其特征在于:包括本體，本體內(nèi)上部設(shè)有攝像頭，攝像頭與 監(jiān)控器連接，攝像頭下部設(shè)有模板，模版下方設(shè)有第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第三蒸發(fā)源， 本體側(cè)邊設(shè)有氣管，氣管與真空栗連接，氣管上設(shè)有過濾器，第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第 三蒸發(fā)源外部均設(shè)有保護罩，保護罩與鍍膜發(fā)生件連接，鍍膜發(fā)生件正對模板，本體內(nèi)設(shè)有 溫度傳感器，溫度傳感器與控制器連接，控制器分別與第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源及第三蒸發(fā) 源連接。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型真空鍍膜裝置，其特征在于:所述保護罩為上粗下細的圓 臺形結(jié)構(gòu)。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的新型真空鍍膜裝置，其特征在于:所述鍍膜發(fā)生件包括鍍膜發(fā) 生件本體，鍍膜發(fā)生件本體為矩形結(jié)構(gòu)，鍍膜發(fā)生件本體四周向上翻折。4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的新型真空鍍膜裝置，其特征在于:所述鍍膜發(fā)生件本體上設(shè)有 一隔板，隔板上開設(shè)有若干通孔。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的新型真空鍍膜裝置，其特征在于:所述控制器為PLC控制器。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的新型真空鍍膜裝置，其特征在于:所述鍍膜發(fā)生件本體上設(shè)有 支撐件安裝孔，支撐件安裝孔與支撐件連接，支撐件與修正板連接。
【文檔編號】C23C14/24GK205473954SQ201620102343
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年2月1日
【發(fā)明人】吳江榮
【申請人】東陽市白坦真空鍍膜廠