綁定式磁控濺射旋轉靶材的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種綁定式磁控濺射旋轉靶材，包括背管和固定套結在背管外壁的至少一個靶管，所述背管外壁設有開口槽，所述靶管是通過填充在開口槽內的無銦釬焊材料經旋轉加熱焊接固定在背管外壁的，所述靶管內壁與背管外壁間隙為0.2—0.4mm，所述靶管為兩個以上時，靶管與靶管之間間隙小于0.5mm，使用硅橡膠墊和高溫膠帶密封，所述靶管為三個以上時，設置在兩端部的兩個靶管比中間靶管厚30％—50％。該綁定式磁控濺射旋轉靶材簡單易得，成本低；尺寸可根據實際需要調節(jié)，靈活不受限制；濺射穩(wěn)定，利用率高。
【專利說明】
綁定式磁控濺射旋轉靶材
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種磁控濺射旋轉靶材，尤其是涉及一種綁定式磁控濺射旋轉靶材。
【背景技術】
[0002]磁控濺射是一種廣泛使用濺射靶材進行大規(guī)模Low-E玻璃鍍膜，太陽能電池鍍膜，平板顯示屏觸摸屏鍍膜，光通信和磁儲存鍍膜及裝飾鍍膜的鍍膜技術。濺射靶材通常有兩類:平面靶材和旋轉靶材。近年來，隨著鍍膜技術的高速發(fā)展，對靶材的利用率要求越來越高，但是平面靶材利用率只有20-30%，只能用冷等靜壓加燒結或熱等靜壓方法生產出一節(jié)節(jié)靶管，然后通過綁定到背管上形成大尺寸靶材?，F在最常用的綁定方法有用銦從垂直方向綁定，銦不僅價格昂貴，而且熔點低，靶材使用時會產生脫靶現象，另一方面，銦對人體和環(huán)境有害;也有直接使用膠結綁定或者采用機械扣結，但是也會由于綁定不牢靠產生脫靶現象。

【發(fā)明內容】

[0003]實用新型目的:針對綁定式磁控濺射旋轉靶材存在的上述缺陷，提供一種簡單易得，成本低;尺寸可根據實際需要調節(jié)，靈活不受限制;濺射穩(wěn)定，利用率高的綁定式磁控濺射旋轉靶材。
[0004]技術方案:為了達到上述目的，本實用新型公開的是一種綁定式磁控濺射旋轉靶材，包括背管和固定套結在背管外壁的至少一個靶管，所述背管外壁設有開口槽。
[0005]所述靶管是通過填充在開口槽內的無銦釬焊材料經旋轉加熱焊接固定在背管外壁的，所述背管內壁經過金屬化處理。
[0006]所述開口槽形狀多樣，優(yōu)選的為半圓形螺旋槽，進一步的，所述半圓形螺旋槽螺距是槽深的一半。
[0007]進一步地，所述靶管內壁與背管外壁間隙為0.2—0.4mm，便于釬焊綁定過程中無銦釬焊材料經加熱后進行綁定。
[0008]所述靶管為兩個以上時，靶管與靶管之間間隙小于0.5mm，使用硅橡膠墊和高溫膠帶密封。為保證靶材濺射時等離子不打到背管上，靶管之間的縫隙不能大于等離子的平均自由程，優(yōu)選的，革G管與革El管之間間隙小于0.5mm，即是娃橡膠墊的厚度小于0.5_。
[0009]所述靶管為三個以上時，設置在兩端部的兩個靶管比中間靶管厚30% — 50%。由于旋轉靶材在磁控濺射鍍膜時，兩端的濺射速度比中間快，兩端靶材濺射完成后，中間的靶材還有許多沒有用完，影響靶材的利用率，使得生產成本較高。兩端靶管的厚度超中間靶管30%到50%，能夠保證靶材穩(wěn)定濺射，同時提升利用率到90%。
[0010]所述無銦釬焊材料不使用熔劑，加入量為開口槽槽深的一半。
[0011 ] 優(yōu)選地，所述無銦釬焊材料可以是Bi SnAg，BiZnAg ,BiSnInAg，SnPb，SnAgCu，BiZnSn,BiZnSnTi,BiSnGa，CuAgSnMg等。
[0012]所選背管需要具有良好的導電性和導熱性，可為金屬或合金。進一步地，可以是不銹鋼，Mo，Ti，Ta，Cu，Al，Cr 等。
[0013]優(yōu)選地，所述靶管材料為合金，陶瓷，硅或石墨等材料，進一步地，可以是AlNd，MoNb，TbFeCo ,GdFeCoGe，DyFeCo，MoTi，TiW，MoW，IT0，AZ0，GZ0，IGZ0，Zn0，高純Si，B摻雜Si等。
[0014]所述綁定式磁控濺射旋轉靶材是通過對背管外表面開口槽里放入的無銦釬焊材料和套在背管靶管加熱和旋轉，利用離心力和表面(毛細)張力及釬焊材料的塑性形變將一節(jié)靶管或多節(jié)靶管固定在一起形成一個完整的尺寸不受限制的旋轉濺射靶材。
[0015]有益效果:相對于現有綁定式磁控濺射旋轉靶材，本實用新型提供的綁定式磁控濺射旋轉靶材簡單易得、成本低、制備效率高;尺寸不受限制，使用中濺射穩(wěn)定，利用率高。
【附圖說明】
[0016]圖1是旋轉靶材開始綁定的縱向截面圖；
[0017]圖2是旋轉靶材完成綁定的縱向截面圖。
【具體實施方式】
[0018]下面結合附圖對本實用新型做進一步說明。
[0019]實施例1
[0020]—種綁定式磁控濺射旋轉靶材，包括不銹鋼背管I以及固定套接在不銹鋼背管外壁的六個MoNb靶管3，所述不銹鋼背管I外壁設有半圓形螺旋槽2，所述MoNb靶管3通過填充在半圓形螺旋槽2內的無銦釬焊材料焊接固定在背管I外壁，所述MoNb靶管3內壁與不銹鋼背管I外壁間隙為0.25mm，其中位于兩端的兩個MoNb靶管3比中間四個MoNb靶管3厚30%，靶管3與靶管3之間用硅橡膠墊4隔開，并用高溫膠帶密封。
[0021]實施例2
[0022]—種綁定式磁控濺射旋轉靶材，包括不銹鋼背管I以及固定套接在不銹鋼背管I夕卜壁的一個AZO陶瓷靶管3，所述不銹鋼背管I外壁設有半圓形螺旋槽2，所述AZO陶瓷靶管3通過填充在半圓形螺旋槽2內的無銦釬焊材料焊接固定在背管I外壁，所述AZO陶瓷靶管3內壁與不銹鋼背管I外壁間隙為0.25mm。
[0023]實施例3
[0024]—種綁定式磁控濺射旋轉靶材，包括不銹鋼背管I以及固定套接在不銹鋼背管I夕卜壁的二個ZnO陶瓷靶管3，所述不銹鋼背管I外壁設有半圓形螺旋槽2，所述靶管3通過填充在半圓形螺旋槽2內的無銦釬焊材料焊接固定在背管I外壁，所述AZO陶瓷靶管3內壁與不銹鋼背管I外壁間隙為0.3_，靶管3與靶管3之間用硅橡膠墊4隔開，并用高溫膠帶密封。
[0025]實施例4
[0026]—種綁定式磁控濺射旋轉靶材，包括不銹鋼背管I以及固定套接在不銹鋼背管I夕卜壁的三個AZO陶瓷靶管3，所述不銹鋼背管I外壁設有半圓形螺旋槽2，所述靶管3通過填充在半圓形螺旋槽2內的無銦釬焊材料焊接固定在背管I外壁，所述靶管3內壁與不銹鋼背管I夕卜壁間隙為0.35mm，其中位于兩端的兩個靶管3比中間I個靶管3厚40%，靶管3與靶管3之間用硅橡膠墊4隔開，并用高溫膠帶密封。
[0027]實施例5
[0028]—種綁定式磁控濺射旋轉靶材，包括不銹鋼背管I以及固定套接在不銹鋼背管I夕卜壁的四個AlNd靶管3，所述不銹鋼背管I外壁設有半圓形螺旋槽2，所述靶管3通過填充在半圓形螺旋槽2內的無銦釬焊材料焊接固定在背管I外壁，所述靶管3內壁與不銹鋼背管I外壁間隙為0.2mm，其中位于兩端的兩個靶管3比中間2個靶管3厚30%，靶管3與靶管3之間用硅橡膠墊4隔開，并用高溫膠帶密封。
[0029]實施例6
[0030]—種綁定式磁控濺射旋轉靶材，包括不銹鋼背管I以及固定套接在不銹鋼背管I夕卜壁的10個ITO陶瓷靶管3，所述不銹鋼背管I外壁設有半圓形螺旋槽2，所述靶管3通過填充在半圓形螺旋槽2內的無銦釬焊材料焊接固定在背管I外壁，所述靶管3內壁與不銹鋼背管I夕卜壁間隙為0.4mm，其中位于兩端的兩個靶管3比中間8個靶管3厚50%，靶管3與靶管3之間用硅橡膠墊4隔開，并用高溫膠帶密封。
【主權項】
1.一種綁定式磁控濺射旋轉靶材，包括背管(I)和固定套結在背管(I)外壁的靶管(3)，其特征在于:所述固定套結在背管(I)外壁的靶管(3)為至少一個，所述背管(I)外壁設有開口槽(2)，靶管(3)通過填充在開口槽(2)內的無銦釬焊材料旋轉加熱焊接固定在背管(I)夕卜壁。2.根據權利要求1所述綁定式磁控濺射旋轉靶材，其特征在于:所述開口槽(2)為半圓形螺旋槽。3.根據權利要求2所述綁定式磁控濺射旋轉靶材，其特征在于:所述半圓形螺旋槽螺距是槽深的一半。4.根據權利要求1所述綁定式磁控濺射旋轉靶材，其特征在于:所述靶管(3)內壁與背管(I)外壁間隙為0.2—0.4mm。5.根據權利要求1所述綁定式磁控濺射旋轉靶材，其特征在于:所述靶管(3)為兩個以上時，革E管⑶與靶管(3)之間間隙小于0.5mm。6.根據權利要求5所述綁定式磁控濺射旋轉靶材，其特征在于:所述靶管(3)為兩個以上時，靶管(3)與靶管(3)之間使用硅橡膠墊(4)和高溫膠帶密封。7.根據權利要求1-6中任一所述綁定式磁控濺射旋轉靶材，其特征在于:所述靶管(3)為三個以上時，設置在兩端部的兩個靶管(3)比中間靶管(3)厚30 % — 50 %。
【文檔編號】C23C14/35GK205473965SQ201620193858
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年3月14日
【發(fā)明人】徐從康
【申請人】無錫舒瑪天科新能源技術有限公司