用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實用新型是關(guān)于一種用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，包括環(huán)狀框體及唇狀部，環(huán)狀框體包含復(fù)數(shù)框條，每一框條具有第一支撐面及第二支撐面，在第一支撐面和第二支撐面的一側(cè)形成有內(nèi)側(cè)邊，在內(nèi)側(cè)邊設(shè)有容置槽；唇狀部包含復(fù)數(shù)唇片，每一唇片具有第一表面、第二表面、分別形成在第一表面和第二表面?zhèn)冗叺牡谝贿吘壖暗诙吘?，各唇片分別對應(yīng)于各容置槽嵌設(shè)，并使各第一表面的部分區(qū)域暴露于各容置槽外。藉此，可提升組裝的便利性且能夠增加組合后的結(jié)構(gòu)強度。
【專利說明】
用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型是有關(guān)一種基板遮蔽結(jié)構(gòu)，尤指一種用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]以電漿輔助化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積或蝕刻等技術(shù)，用來在玻璃基板上沉積和移除導(dǎo)體、半導(dǎo)體及介電材料的多個層來形成半導(dǎo)體裝置，電漿處理不僅可在相對低的處理溫度來進(jìn)行沉積薄膜，并且能夠獲得良好的薄膜質(zhì)量，因此已被廣泛地應(yīng)用在平板裝置的生產(chǎn)。
[0003]前述的沉積設(shè)備是在一真空腔室中設(shè)置一支撐構(gòu)件，以提供一基板配置在支撐構(gòu)件的上方，電漿處理是藉由將一或多種處理氣體引入腔室中，并以一電場激發(fā)氣體，以使氣體解離成帶電和中性的粒子來形成。在處理過程中，玻璃基板的邊緣和背面以及腔室內(nèi)部組件為免于受到沉積的影響，一般皆會以遮蔽框來沿著基板的周圍放置，以避免處理氣體或電漿到達(dá)基板的邊緣和背面，并在處理過程中將基板保持在支撐構(gòu)件上。
[0004]現(xiàn)有的遮蔽框主要包括一框體及一唇片，唇片的部分區(qū)域是迭接在框體的邊緣，并且和唇片是透過螺絲等螺固組件鎖固，其在組裝的過程中不僅需要耗費大量的組裝時間和人力成本，且組裝后的成品亦存在有結(jié)構(gòu)強度不足的情況，而亟待加以改善者。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實用新型的目的在于提供一種用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，其是在組裝過程中能夠順勢將各唇片予以固定，進(jìn)而提升組裝的便利性和增加組合后的結(jié)構(gòu)強度。
[0006]為了達(dá)成上述之目的，本實用新型是提供一種用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，包括一環(huán)狀框體及一唇狀部，該環(huán)狀框體包含相互組接的復(fù)數(shù)框條，每一該框條具有一第一支撐面及形成在該第一支撐面背后方的一第二支撐面，在該第一支撐面和該第二支撐面的一側(cè)形成有一內(nèi)側(cè)邊，在該內(nèi)側(cè)邊設(shè)有一容置槽;該唇狀部包含復(fù)數(shù)唇片，每一該唇片具有一第一表面、形成在該第一表面背后方的一第二表面、分別形成在該第一表面和該第二表面?zhèn)冗叺囊坏谝贿吘壖耙坏诙吘墸髟摯狡謩e對應(yīng)于各該容置槽嵌設(shè)，并使各該第一表面的部分區(qū)域暴露于各該容置槽外。
[0007]優(yōu)選地，上述各唇片是可分離式地嵌設(shè)各該容置槽。
[0008]優(yōu)選地，上述內(nèi)側(cè)邊在該容置槽的下方形成有一下內(nèi)側(cè)邊，該內(nèi)側(cè)邊在該容置槽的上方形成有一上內(nèi)側(cè)邊，該下內(nèi)側(cè)邊至該容置槽槽底的距離大于該上內(nèi)側(cè)邊至該容置槽槽底的距離。
[0009]優(yōu)選地，上述環(huán)狀框體為一四邊形，包含兩兩相對的二支縱向框條和二支橫向框條。
[0010]優(yōu)選地，上述各框條的首末端面分別形成有一階梯臺，各該框條以各該階梯臺相互搭接。
[0011]優(yōu)選地，上述各階梯臺開設(shè)有復(fù)數(shù)孔洞，在該第一支撐面對應(yīng)于每一該孔洞的位置設(shè)有連通該孔洞的一螺孔，各該孔洞分別供一插銷插設(shè)連接，各該螺孔則分別供一螺固組件穿設(shè)以固定該插銷。
[0012]優(yōu)選地，上述各唇片的首末端面分別形成有一直切邊，并于各該直切邊分別形成有一傾斜面，各該唇片以各該傾斜面相互抵接。
[0013]優(yōu)選地，上述各唇片的首末端面分別形成有一斜切邊，各該唇片以各該斜切邊相互抵接。
[0014]本實用新型還具有以下功效，利用各唇片的首末端面分別形成有斜切邊或直切邊及傾斜面的設(shè)置，不僅可縮短組裝過程中所耗費的時間，且能夠有效地降低人力成本。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實用新型之部分構(gòu)件的立體分解圖。
[0016]圖2是本實用新型之部分構(gòu)件的另一視角立體分解圖。
[0017]圖3是本實用新型之部分構(gòu)件的組合示意圖。
[0018]圖4是本實用新型基板遮蔽結(jié)構(gòu)組合示意圖。
[0019]圖5是本實用新型基板遮蔽結(jié)構(gòu)之部分剖視圖。
[0020]圖6是本實用新型應(yīng)用于沉積設(shè)備組合剖視圖。
[0021]圖7是本實用新型之另一實施例的組合俯視圖。
[0022]【主要部件符號說明】
[0023]1、Ia…基板遮蔽結(jié)構(gòu)
[0024]10…環(huán)狀框體
[0025]11...縱向框條
[0026]11’...橫向框條
[0027]111…第一支撐面
[0028]112…第二支撐面
[0029]113...內(nèi)側(cè)邊
[0030]1131…下內(nèi)側(cè)邊
[0031]1132...上內(nèi)側(cè)邊
[0032]114…外側(cè)邊
[0033]1141…倒斜面
[0034]115…容置槽
[0035]116…階梯臺
[0036]117…孔洞
[0037]118…螺孔
[0038]12…插銷
[0039]13…螺固組件
[0040]D1...距離[0041 ]D2...距離
[0042]20...唇狀部
[0043]21…縱向唇片
[0044]21’…橫向唇片
[0045]211…第一表面
[0046]212…第二表面
[0047]213…第一邊緣
[0048]214…第二邊緣
[0049]215…直切邊
[0050]2151…傾斜面[0051 ]216…斜切邊
[0052]5…沉積設(shè)備
[0053]51…腔體
[0054]511...處理區(qū)
[0055]512...開口
[0056]52...背板
[0057]53…氣體分配板
[0058]531…開孔
[0059]54…氣體源
[0060]55...電源
[0061 ]56…遮蔽框支撐件
[0062]57…基板支撐件
[0063]58…升降機
[0064]6…基板。
【具體實施方式】
[0065]有關(guān)本實用新型之詳細(xì)說明及技術(shù)內(nèi)容，配合【附圖說明】如下，然而所附圖式僅提供參考與說明用，并非用來對本實用新型加以限制。
[0066]請參閱圖1至圖5所示，本實用新型提供一種用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，此基板遮蔽結(jié)構(gòu)I主要包括一環(huán)狀框體10及一唇狀部20。
[0067]本實施例的環(huán)狀框體10為一四邊形，其包含兩兩相對的二支縱向框條11和二支橫向框條11’，每一縱向框條11具有一第一支撐面111、一第二支撐面112、一內(nèi)側(cè)邊113及一外側(cè)邊114，第二支撐面112是形成在第一支撐面111的背后方，內(nèi)側(cè)邊113形成在第一支撐面111和第二支撐面112的內(nèi)側(cè)，在內(nèi)側(cè)邊113設(shè)有一容置槽115，此容置槽115大致平行于第一支撐面111配設(shè)，且內(nèi)側(cè)邊113在容置槽115的下方位置形成有一下內(nèi)側(cè)邊1131，內(nèi)側(cè)邊113在容置槽115的上方位置形成有一上內(nèi)側(cè)邊1132，下內(nèi)側(cè)邊1131至容置槽115槽底的距離Dl大于上內(nèi)側(cè)邊1132至容置槽115槽底的距離D2。外側(cè)邊114形成在第一支撐面111和第二支撐面112的外側(cè)，外側(cè)邊114則形成有一倒斜面1141。同理，每一橫向框條11’亦皆具備有前述縱向框條11相同的結(jié)構(gòu)特征，因此不再一一重復(fù)細(xì)述。
[0068]在各框條11、11’的首末端面分別形成有一階梯臺116，各框條11、11’利用各階梯臺116相互搭接。另在各階梯臺116開設(shè)有復(fù)數(shù)孔洞117，各孔洞117大致平行于第一支撐面111配設(shè)，在第一支撐面111對應(yīng)于每一孔洞117的位置設(shè)有連通孔洞117的一螺孔118，各孔洞117分別供一插銷12插設(shè)連接，各螺孔118則供一螺絲等螺固組件13穿設(shè)以固定插銷12。
[0069]唇狀部20可分離式地連接在環(huán)狀框體10，此唇狀部20亦為一四邊形，其包含兩兩相對的二支縱向唇片21和二支橫向唇片21’，每一縱向唇片21具有一第一表面211、形成在第一表面211背后方的一第二表面212、分別形成在第一表面211和第二表面212側(cè)邊的一第一邊緣213及一第二邊緣214，各唇片21、21’是分別對應(yīng)于前述各容置槽115嵌設(shè)，并使各第一表面211的部分區(qū)域暴露于各容置槽115外部。同理，每一橫向唇片21’亦皆具備有與前述縱向唇片21相同的結(jié)構(gòu)特征，因此不再一一重復(fù)細(xì)述。另在各唇片21、21’的首末端面分別形成有一直切邊215，并于各直切邊215分別形成有一傾斜面2151，各唇片21、21 ’利用各傾斜面2151相互抵接。
[0070]請參閱圖6所示，本實用新型的基板遮蔽結(jié)構(gòu)I是可以應(yīng)用在一沉積設(shè)備5上，其中沉積設(shè)備5包括一腔體51、一背板52、一氣體分配板53、一氣體源54、一電源55、一遮蔽框支撐件56、一基板支撐件57及一升降機58，背板52配置于腔體51的上方位置，于腔體51內(nèi)形成有一處理區(qū)511，處理區(qū)511內(nèi)可供一基板6置設(shè)。
[0071 ]氣體分配板53被固定在背板52下方，于氣體分配板53設(shè)有多數(shù)開孔531，以允許處理氣體從中遞送。氣體源54可將氣體遞送至形成于氣體分配板53和背板52之間的充氣室，以平均地分配處理氣體，從而透過氣體分配板53均勻地遞送處理氣體。電源55可被電性耦接至氣體分配板53，而由流經(jīng)開孔531的處理氣體形成電漿。電源55可為用于PECVD腔室的電源的任何類型。遮蔽框支撐件56繞著基板支撐件57形成。
[0072]當(dāng)基板支撐件57位在一較低的位置，基板遮蔽結(jié)構(gòu)I是由遮蔽框支撐件56所支撐。基板支撐件57配置在腔體51中并由升降機58致動。在一較高的處理位置，基板6配置于基板支撐件57上，如此使得基板6形成在處理區(qū)511中。當(dāng)基板遮蔽結(jié)構(gòu)I停放在基板支撐件57上時，各唇片21、21’的第一表面211壓接于基板6之一部分的上方并與基板6接觸?；?透過形成在腔體51的一開口 512進(jìn)入和移出處理區(qū)511，開口 512為由一狹縫閥門機構(gòu)(未示出)選擇性地封住。
[0073]請參閱圖7所示，本實用新型的基板遮蔽結(jié)構(gòu)除了可為上述實施例外，亦可如本實施例的基板遮蔽結(jié)構(gòu)la，其與上述實施例的差異在于:各唇片21、21’的首末端面分別形成有一斜切邊216，各唇片21、21’利用各斜切邊216相互抵接，不僅可縮短組裝過程中所耗費的時間，且能夠有效地降低人力成本。
[0074]綜上所述，本實用新型之用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，確可達(dá)到預(yù)期之使用目的，而解決現(xiàn)有之缺失，又因極具新穎性及進(jìn)步性，完全符合新型專利申請要件，依專利法提出申請，敬請詳查并賜準(zhǔn)本案專利，以保障創(chuàng)作人之權(quán)利。
【主權(quán)項】
1.一種用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于包括: 一環(huán)狀框體，包含相互組接的復(fù)數(shù)框條，每一該框條具有一第一支撐面及形成在該第一支撐面背后方的一第二支撐面，在該第一支撐面和該第二支撐面的一側(cè)形成有一內(nèi)側(cè)邊，在該內(nèi)側(cè)邊設(shè)有一容置槽;以及 一唇狀部，包含復(fù)數(shù)唇片，每一該唇片具有一第一表面、形成在該第一表面背后方的一第二表面、分別形成在該第一表面和該第二表面?zhèn)冗叺囊坏谝贿吘壖耙坏诙吘墸髟摯狡謩e對應(yīng)于各該容置槽嵌設(shè)，并使各該第一表面的部分區(qū)域暴露于各該容置槽外。2.如權(quán)利要求1所述的用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于上述各唇片是可分咼式地嵌設(shè)各該容置槽。3.如權(quán)利要求1所述的用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于上述內(nèi)側(cè)邊在該容置槽的下方形成有一下內(nèi)側(cè)邊，該內(nèi)側(cè)邊在該容置槽的上方形成有一上內(nèi)側(cè)邊，該下內(nèi)側(cè)邊至該容置槽槽底的距離大于該上內(nèi)側(cè)邊至該容置槽槽底的距離。4.如權(quán)利要求1所述的用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于上述環(huán)狀框體為一四邊形，包含兩兩相對的二支縱向框條和二支橫向框條。5.如權(quán)利要求4所述的用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于上述各框條的首末端面分別形成有一階梯臺，各該框條以各該階梯臺相互搭接。6.如權(quán)利要求5所述的用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于上述各階梯臺開設(shè)有復(fù)數(shù)孔洞，在該第一支撐面對應(yīng)于每一該孔洞的位置設(shè)有連通該孔洞的一螺孔，各該孔洞分別供一插銷插設(shè)連接，各該螺孔則分別供一螺固組件穿設(shè)以固定該插銷。7.如權(quán)利要求1所述的用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于上述各唇片的首末端面分別形成有一直切邊，并于各該直切邊分別形成有一傾斜面，各該唇片以各該傾斜面相互抵接。8.如權(quán)利要求1所述的用于沉積設(shè)備的基板遮蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于上述各唇片的首末端面分別形成有一斜切邊，各該唇片以各該斜切邊相互抵接。
【文檔編號】C23C14/50GK205501411SQ201620050830
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年1月20日
【發(fā)明人】蕭俊義, 程家偉
【申請人】紅日應(yīng)用材料有限公司