一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置，包括真空密封罩、編程面板和底座，所述底座固定安裝在外殼體的底部，且底座的底部設(shè)置有萬向自鎖輪，所述外殼體的內(nèi)部設(shè)置有真空吸氣泵，所述真空吸氣泵的右側(cè)設(shè)置有微電腦控制裝置，所述微電腦控制裝置的右側(cè)設(shè)置有配電箱。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置結(jié)構(gòu)科學(xué)合理，操作安全方便，采用濺射鍍膜的方式給物件進(jìn)行鍍膜操作，具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)；而且在鍍膜裝置的內(nèi)部安裝了真空吸氣泵，保證鍍膜工作區(qū)間處于真空狀態(tài)，使物件的鍍膜操作更加穩(wěn)定，物件鍍膜后表面不會(huì)出現(xiàn)氣泡等現(xiàn)象。
【專利說明】
一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]磁控派射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposit1n，PVD)的一種。一般的派射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，而上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。
[0003]磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E(電場(chǎng))XB(磁場(chǎng))所指的方向漂移，簡稱EXB漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng)，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng)，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar來轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面，并在電場(chǎng)E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。
[0004]然而，現(xiàn)有的濺射鍍膜裝置在使用過程中存在一些缺陷，例如，鍍膜不均勻，且沒有采用真空操作，在物件上鍍膜后容易出現(xiàn)氣泡或者鍍膜不穩(wěn)定的情況，導(dǎo)致鍍膜的合格率低。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的目的在于提供一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的容易出現(xiàn)氣泡和合格率低的問題。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置，包括真空密封罩、編程面板和底座，所述底座固定安裝在外殼體的底部，且底座的底部設(shè)置有萬向自鎖輪，所述外殼體的內(nèi)部設(shè)置有真空吸氣栗，所述真空吸氣栗的右側(cè)設(shè)置有微電腦控制裝置，所述微電腦控制裝置的右側(cè)設(shè)置有配電箱，且微電腦控制裝置的上方設(shè)置有勵(lì)磁線圈，所述勵(lì)磁線圈的右側(cè)設(shè)置有氬氣發(fā)生裝置，且勵(lì)磁線圈的上方設(shè)置有電加熱裝置，所述電加熱裝置的上方設(shè)置有陽極基體，所述真空密封罩固定安裝在外殼體的上方，且真空密封罩的內(nèi)部設(shè)置有陽極裝置，所述真空密封罩上設(shè)置有手提把手，且真空密封罩的右側(cè)設(shè)置有密封鎖裝置，所述編程面板固定安裝在外殼體的前方，所述陽極裝置、陽極基體、勵(lì)磁線圈、真空吸氣栗、編程面板、微電腦控制裝置、電加熱裝置和氬氣發(fā)生裝置均與配電箱電性連接。
[0007]優(yōu)選的，所述勵(lì)磁線圈共設(shè)置有兩個(gè)，且兩個(gè)勵(lì)磁線圈分別安裝在微電腦控制裝置的上方。
[0008]優(yōu)選的，所述真空密封罩與外殼體通過鉸鏈連接。
[0009]優(yōu)選的，所述萬向自鎖輪共設(shè)置有四個(gè)，且四個(gè)萬向自鎖輪分別安裝在底座的底部的四個(gè)拐角處。
[0010]優(yōu)選的，所述編程面板上設(shè)置有液晶顯示屏和編程按鈕，且液晶顯示屏和編程按鈕均與編程面板電性連接。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置結(jié)構(gòu)科學(xué)合理，操作安全方便，采用濺射鍍膜的方式給物件進(jìn)行鍍膜操作，具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)；而且在鍍膜裝置的內(nèi)部安裝了真空吸氣栗，保證鍍膜工作區(qū)間處于真空狀態(tài)，使物件的鍍膜操作更加穩(wěn)定，物件鍍膜后表面不會(huì)出現(xiàn)氣泡等現(xiàn)象。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2為本實(shí)用新型一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置的編程面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖中:1-陰極裝置、2-真空密封罩、3-陽極基體、4-勵(lì)磁線圈、5-真空吸氣栗、6-編程面板、61-液晶顯示屏、62-編程按鈕、7-微電腦控制裝置、8-萬向自鎖輪、9-手提把手、10-密封鎖裝置、11 -電加熱裝置、12-氬氣發(fā)生裝置、13-配電箱、14-底座、15-外殼體。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0016]請(qǐng)參閱圖1和圖2，本實(shí)用新型提供一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置技術(shù)方案:一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置，包括真空密封罩2、編程面板6和底座14，底座14固定安裝在外殼體15的底部，且底座14的底部設(shè)置有萬向自鎖輪8，外殼體15的內(nèi)部設(shè)置有真空吸氣栗5，真空吸氣栗5的右側(cè)設(shè)置有微電腦控制裝置7，微電腦控制裝置7的右側(cè)設(shè)置有配電箱13，且微電腦控制裝置7的上方設(shè)置有勵(lì)磁線圈4，勵(lì)磁線圈4的右側(cè)設(shè)置有氬氣發(fā)生裝置12，且勵(lì)磁線圈4的上方設(shè)置有電加熱裝置11，電加熱裝置11的上方設(shè)置有陽極基體3，真空密封罩2固定安裝在外殼體15的上方，且真空密封罩2的內(nèi)部設(shè)置有陽極裝置1，真空密封罩2上設(shè)置有手提把手9，且真空密封罩2的右側(cè)設(shè)置有密封鎖裝置10，編程面板6固定安裝在外殼體15的前方，陽極裝置1、陽極基體3、勵(lì)磁線圈4、真空吸氣栗5、編程面板6、微電腦控制裝置7、電加熱裝置11和氬氣發(fā)生裝置12均與配電箱13電性連接。
[0017]勵(lì)磁線圈4共設(shè)置有兩個(gè)，且兩個(gè)勵(lì)磁線圈4分別安裝在微電腦控制裝置7的上方。真空密封罩2與外殼體15通過鉸鏈連接。萬向自鎖輪8共設(shè)置有四個(gè)，且四個(gè)萬向自鎖輪8分別安裝在底座14的底部的四個(gè)拐角處。編程面板6上設(shè)置有液晶顯示屏61和編程按鈕62，且液晶顯示屏61和編程按鈕62均與編程面板6電性連接。
[0018]工作原理:本實(shí)用新型安裝好過后，接通電源，打開真空密封罩2將需要進(jìn)行鍍膜的物件放到陽極基體3上，關(guān)好真空密封罩2，通過編程面板6設(shè)定好程序，真空吸氣栗5可以保證真空密封罩2內(nèi)處于真空狀態(tài)，氬氣發(fā)生裝置12為鍍膜提供必須的氬氣，通過微電腦控制裝置7控制電加熱裝置11的溫度，使鍍膜的效果更好。
[0019]盡管已經(jīng)示出和描述了本實(shí)用新型的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本實(shí)用新型的原理和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置，包括真空密封罩(2)、編程面板(6)和底座(14)，其特征在于:所述底座(14)固定安裝在外殼體(15)的底部，且底座(14)的底部設(shè)置有萬向自鎖輪(8)，所述外殼體(15)的內(nèi)部設(shè)置有真空吸氣栗(5)，所述真空吸氣栗(5)的右側(cè)設(shè)置有微電腦控制裝置(7)，所述微電腦控制裝置(7)的右側(cè)設(shè)置有配電箱(13)，且微電腦控制裝置(7)的上方設(shè)置有勵(lì)磁線圈(4)，所述勵(lì)磁線圈(4)的右側(cè)設(shè)置有氬氣發(fā)生裝置(12)，且勵(lì)磁線圈(4)的上方設(shè)置有電加熱裝置(11)，所述電加熱裝置(11)的上方設(shè)置有陽極基體(3)，所述真空密封罩(2)固定安裝在外殼體(15)的上方，且真空密封罩(2)的內(nèi)部設(shè)置有陽極裝置(1)，所述真空密封罩(2)上設(shè)置有手提把手(9)，且真空密封罩(2)的右側(cè)設(shè)置有密封鎖裝置(10)，所述編程面板(6)固定安裝在外殼體(15)的前方，所述陽極裝置(1)、陽極基體(3)、勵(lì)磁線圈(4)、真空吸氣栗(5)、編程面板(6)、微電腦控制裝置(7)、電加熱裝置(11)和氬氣發(fā)生裝置(12)均與配電箱(13)電性連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述勵(lì)磁線圈(4)共設(shè)置有兩個(gè)，且兩個(gè)勵(lì)磁線圈(4)分別安裝在微電腦控制裝置(7)的上方。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述真空密封罩(2 )與外殼體(15 )通過鉸鏈連接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述萬向自鎖輪(8)共設(shè)置有四個(gè)，且四個(gè)萬向自鎖輪(8)分別安裝在底座(14)的底部的四個(gè)拐角處。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能夠保持真空度的濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述編程面板(6)上設(shè)置有液晶顯示屏(61)和編程按鈕(62)，且液晶顯示屏(61)和編程按鈕(62)均與編程面板(6)電性連接。
【文檔編號(hào)】C23C14/56GK205529009SQ201620069885
【公開日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年1月26日
【發(fā)明人】唐貴民, 閆都倫, 王克斌
【申請(qǐng)人】深圳新南亞技術(shù)開發(fā)有限公司