高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，包括主體支架，其特征在于：所述的主體支架上設(shè)有放電加工室，所述的放電加工室內(nèi)設(shè)有基片及陰極單元，其中，所述的基片與所述的陰極單元連接，所述的主體支架上設(shè)有與所述的基片連接的輸出裝置，所述的輸出裝置旁設(shè)有用于控制工作壓力的進(jìn)氣控制裝置。本實(shí)用新型目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供增加生產(chǎn)效率，降低經(jīng)濟(jì)成本的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置。
【專利說(shuō)明】
高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及試驗(yàn)裝置，更具體地說(shuō)是高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置。
【【背景技術(shù)】】
[0002]鍍膜是一項(xiàng)重要的生產(chǎn)工藝技術(shù)，現(xiàn)有的真空濺射鍍膜設(shè)備一般需要先將濺射真空室抽取到一個(gè)合適的真空負(fù)載，最常用的方法是向真空室內(nèi)連續(xù)充入一定流量的惰性氣體，例如，通常采用較為廉價(jià)而且安全的工業(yè)氬氣，但是由于工業(yè)氣體存在雜質(zhì)氣體的現(xiàn)象不可避免，因此生產(chǎn)效率很低，如何對(duì)于現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備存在的不足進(jìn)行改進(jìn)是本領(lǐng)域技術(shù)人員一直研究的方向。
【【實(shí)用新型內(nèi)容】】
[0003]本實(shí)用新型目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供增加生產(chǎn)效率，降低經(jīng)濟(jì)成本的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置。
[0004]本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0005]高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，包括主體支架9，其特征在于:所述的主體支架9上設(shè)有放電加工室3，所述的放電加工室3內(nèi)設(shè)有基片I及陰極單元2，其中，所述的基片I與所述的陰極單元2連接，所述的主體支架9上設(shè)有與所述的基片I連接的輸出裝置10，所述的輸出裝置10旁設(shè)有用于控制工作壓力的進(jìn)氣控制裝置6。
[0006]如上所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的輸出裝置10包括供電裝置1a以及輸出管道1001，所述的輸出管道1001與所述的基片I連通。
[0007]如上所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的供電裝置1a包括負(fù)偏壓電源1002及電阻絲加熱電源1003，所述的主體支架9上設(shè)有鍍料單元5，所述的鍍料單元5分別于所述的負(fù)偏壓電源1002及電阻絲加熱電源1003連接。
[0008]如上所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的負(fù)偏壓電源1002—端與所述的輸出管道1001電接連，另一端與所述的鍍料單元5電連接，所述的電阻絲加熱電源1003—端與所述的負(fù)偏壓電源1002電連接，另一端與所述的鍍料單元5電連接。
[0009]如上所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的負(fù)偏壓電源1002的可調(diào)范圍為Ikv?5kv。
[0010]如上所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的進(jìn)氣控制裝置6的工作壓力為 l*10_lPa。
[0011 ]如上所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的鍍料單元5采用陽(yáng)極鍍料。
[0012]如上所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的鍍料單元5上設(shè)有控制工作溫度的電阻加熱裝置4。
[0013]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型有如下優(yōu)點(diǎn):
[0014]1、本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理，生產(chǎn)加工方便，成膜速率高，從而大大增加了生產(chǎn)效率。
[0015]2、本實(shí)用新型的繞鍍性好，鍍膜后的膜層附著力強(qiáng)，可在任何材料的工件上鍍膜，方便企業(yè)生產(chǎn)，降低成本。
【【附圖說(shuō)明】】
[0016]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0017]下面將結(jié)合附圖及【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。
【【具體實(shí)施方式】】
[0018]如圖1所示，高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，包括主體支架9，所述的主體支架9上設(shè)有放電加工室3，所述的放電加工室3內(nèi)設(shè)有基片I及陰極單元2，其中，所述的基片I與所述的陰極單元2連接，所述的主體支架9上設(shè)有與所述的基片I連接的輸出裝置10，所述的輸出裝置10旁設(shè)有用于控制工作壓力的進(jìn)氣控制裝置6。
[0019]所述的輸出裝置10包括供電裝置1a以及輸出管道1001，所述的輸出管道1001與所述的基片I連通。其優(yōu)點(diǎn)在于結(jié)構(gòu)合理，輸出效果好。
[0020]所述的供電裝置1a包括負(fù)偏壓電源1002及電阻絲加熱電源1003，所述的主體支架9上設(shè)有鍍料單元5，所述的鍍料單元5分別于所述的負(fù)偏壓電源1002及電阻絲加熱電源1003連接。
[0021]所述的負(fù)偏壓電源1002—端與所述的輸出管道1001電接連，另一端與所述的鍍料單元5電連接，所述的電阻絲加熱電源1003—端與所述的負(fù)偏壓電源1002電連接，另一端與所述的鍍料單元5電連接。
[0022]所述的負(fù)偏壓電源1002的可調(diào)范圍為Ikv?5kv。
[0023]所述的進(jìn)氣控制裝置6的工作壓力為l*10_lPa。
[0024]所述的鍍料單元5采用陽(yáng)極鍍料。其優(yōu)點(diǎn)在于結(jié)構(gòu)合理，方便生產(chǎn)加工。
[0025]所述的鍍料單元5上設(shè)有控制工作溫度的電阻加熱裝置4。其優(yōu)點(diǎn)在于結(jié)構(gòu)合理，生產(chǎn)效果好。
[0026]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非用來(lái)限定本實(shí)用新型實(shí)施的范圍，其他凡其原理和基本結(jié)構(gòu)與本實(shí)用新型相同或近似的，均在本實(shí)用新型保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，包括主體支架(9)，其特征在于:所述的主體支架(9)上設(shè)有放電加工室(3)，所述的放電加工室(3)內(nèi)設(shè)有基片(I)及陰極單元(2)，其中，所述的基片(I)與所述的陰極單元(2)連接，所述的主體支架(9)上設(shè)有與所述的基片(I)連接的輸出裝置(10)，所述的輸出裝置(10)旁設(shè)有用于控制工作壓力的進(jìn)氣控制裝置(6)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的輸出裝置(10)包括供電裝置(1a)以及輸出管道(1001)，所述的輸出管道(1001)與所述的基片(I)連通。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的供電裝置(1a)包括負(fù)偏壓電源(1002)及電阻絲加熱電源(1003)，所述的主體支架(9)上設(shè)有鍍料單元(5)，所述的鍍料單元(5)分別于所述的負(fù)偏壓電源(1002)及電阻絲加熱電源(1003)連接。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的負(fù)偏壓電源(1002)—端與所述的輸出管道(1001)電接連，另一端與所述的鍍料單元(5)電連接，所述的電阻絲加熱電源(1003)—端與所述的負(fù)偏壓電源(1002)電連接，另一端與所述的鍍料單元(5)電連接。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的負(fù)偏壓電源(1002)的可調(diào)范圍為Ikv?5kv。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的進(jìn)氣控制裝置(6)的工作壓力為l*10-lPa。7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的鍍料單元(5)采用陽(yáng)極鍍料。8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高效離子鍍膜試驗(yàn)裝置，其特征在于:所述的鍍料單元(5)上設(shè)有控制工作溫度的電阻加熱裝置(4)。
【文檔編號(hào)】C23C14/32GK205590786SQ201620480072
【公開日】2016年9月21日
【申請(qǐng)日】2016年5月23日
【發(fā)明人】楊嘉嘉, 楊文志, 陳招燕, 程亞麗
【申請(qǐng)人】中山市萬(wàn)物文化發(fā)展有限公司