一種熱蒸鍍坩堝的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及OLED顯示器件的制造技術(shù)領(lǐng)域，提供一種熱蒸鍍坩堝，包括同軸設(shè)置的內(nèi)坩堝和外坩堝；所述內(nèi)坩堝的噴口與所述外坩堝的噴口位于同一平面上。該方案的熱蒸鍍坩堝，可以增加不同材料蒸汽的混合區(qū)域空間，提高不同材料蒸汽的混合均勻性；此外，還可以解決坩堝分散導致設(shè)備空間利用率低的問題。
【專利說明】
一種熱蒸鍍坩堝
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及0LED顯示器件的制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種熱蒸鍍坩堝，更加具體為一種制造0LED發(fā)光結(jié)構(gòu)用的熱蒸鍍坩堝?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]請參見圖1，新型0LED顯示器件主要結(jié)構(gòu)由TFT背板003、0LED發(fā)光結(jié)構(gòu)002和封裝結(jié)構(gòu)001組成。其中0LED發(fā)光結(jié)構(gòu)002請參見圖2,其是一系列的有機材料薄膜005夾在兩個薄膜電極004之間形成的類似三明治結(jié)構(gòu)。
[0003]上述有機材料薄膜005的制造通常使用真空熱蒸鍍的方法，具體在真空環(huán)境中加熱有機材料，使其變?yōu)檎羝麪顟B(tài)，并能保持分子結(jié)構(gòu)不變，然后蒸汽向外擴散，落在溫度較低的面上沉積下來，形成薄膜。通常使用坩堝來盛放材料，然后通過加熱裝置來加熱坩堝， 使里面的材料熔融或者升華變成蒸汽，從坩堝的開口往外擴散。
[0004]更具體地，通常將坩堝設(shè)置在基板下方，對坩堝進行加熱，蒸汽流向上方，沉積在上方的基板上。因為有機材料蒸汽的分子量大，因此移動距離不大，為確保穩(wěn)定的出口蒸汽壓，坩堝噴口通常不大，同時為提高材料的利用率，需要氣流有一定的方向性，因此坩堝噴口有一定的指向性。
[0005]當需要沉積兩種或兩種以上材料的混合薄膜的時候，就需要兩個坩堝一起加熱。 請參見圖3,通常將兩個坩堝008分別放置在真空腔室007中的不同位置，兩個坩堝008分別采用不同加熱裝置009進行單獨加熱，且兩個坩堝008中的蒸汽從噴口0081位置溢出，且混合后在基板006上沉積。在此基礎(chǔ)上，采用測厚單元010分別監(jiān)控兩個坩堝008的沉積速率， 并基于監(jiān)控結(jié)果控制兩種材料在基板006表面的蒸汽壓比值，也就是沉積速率的比值，來控制兩種材料混合的比例。該種技術(shù)存在的問題是:兩種材料蒸汽的混合區(qū)域空間較小，受兩個坩堝位置的影響大，混合的均勻性較差，并且兩個坩堝占用的空間較大，設(shè)備成本高，空間利用率低?！緦嵱眯滦蛢?nèi)容】
[0006](一)要解決的技術(shù)問題
[0007]本實用新型的目的是:提供一種用于沉積兩種或兩種以上材料的混合薄膜的熱蒸鍍坩堝，增加不同材料蒸汽的混合區(qū)域空間，以解決不同材料蒸汽混合不均勻且設(shè)備的空間利用率不高的問題。
[0008](二)技術(shù)方案
[0009]為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了一種熱蒸鍍坩堝，包括同軸設(shè)置的內(nèi)坩堝和外坩堝;所述內(nèi)坩堝的噴口與所述外坩堝的噴口位于同一平面上。
[0010]優(yōu)選地，所述外坩堝中設(shè)置有與所述內(nèi)坩堝連接的隔板;所述隔板將所述外j:甘堝劃分成多個互相獨立的蒸鍍腔室，且各個所述蒸鍍腔室均和所述外坩堝的噴口連通。
[0011]優(yōu)選地，所述隔板的至少一側(cè)設(shè)置有隔熱散熱層。
[0012]優(yōu)選地，所述內(nèi)坩堝的深度大于所述外坩堝的深度，并使得所述內(nèi)坩堝的下端暴露在所述外坩堝外;所述內(nèi)坩堝的下端的外側(cè)壁上設(shè)置有第一發(fā)熱體，所述外坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有第二發(fā)熱體。[〇〇13]優(yōu)選地，所述內(nèi)坩堝的深度等于所述外坩堝的深度;所述外坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有發(fā)熱體;所述內(nèi)坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有隔熱散熱層。
[0014]本實用新型還提供一種熱蒸鍍裝置，包括上述熱蒸鍍坩堝。
[0015]優(yōu)選地，還包括第一橫檔、第二橫檔、蒸鍍速率測試器和控制器;所述第一橫檔設(shè)置在所述內(nèi)坩堝的噴口位置，所述第二橫檔設(shè)置在所述外坩堝的噴口位置;所述蒸鍍速率測試器通過測試所述第一橫檔位置的蒸鍍速率獲得所述內(nèi)坩堝的蒸鍍速率，且所述蒸鍍速率測試器通過測試所述第二橫檔位置的蒸鍍速率獲得所述外坩堝的蒸鍍速率;所述蒸鍍速率測試器將測試結(jié)果發(fā)送給所述控制器，所述控制器根據(jù)所述測試結(jié)果控制所述內(nèi)坩堝和外坩堝的加熱溫度。
[0016]優(yōu)選地，所述蒸鍍速率測試器為石英振蕩器。[〇〇17]優(yōu)選地，當所述內(nèi)坩堝的下端的外側(cè)壁上設(shè)置有第一發(fā)熱體，且所述外坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有第二發(fā)熱體時，所述控制器向所述第一發(fā)熱體和第二發(fā)熱體發(fā)送控制信號。
[0018]優(yōu)選地，當所述外坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有發(fā)熱體，且所述內(nèi)坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有隔熱散熱層時，所述控制器向所述發(fā)熱體發(fā)送控制信號。[0〇19](三)有益效果
[0020]本實用新型的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點:本實用新型的熱蒸鍍坩堝，包括同軸設(shè)置的內(nèi)坩堝和外坩堝;所述內(nèi)坩堝的噴口與所述外坩堝的噴口位于同一平面上。該方案的熱蒸鍍坩堝，可以增加不同材料蒸汽的混合區(qū)域空間，提高不同材料蒸汽的混合均勻性;此夕卜，還可以解決坩堝分散導致設(shè)備空間利用率低的問題。【附圖說明】
[0021]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。[〇〇22]圖1是現(xiàn)有技術(shù)的0LED顯示器件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖2是現(xiàn)有技術(shù)的0LED發(fā)光結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖3是現(xiàn)有技術(shù)中混合薄膜的制造方法示意圖；
[0025]圖4是實施例一的熱蒸鍍坩堝的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；[0〇26]圖5是圖4中A-A處的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；[〇〇27]圖6是實施例二的熱蒸鍍坩堝的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；[〇〇28]圖7是圖6中B-B處的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖8是實施例三的熱蒸鍍坩堝的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖9是實施例四的熱蒸鍍坩堝的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖10是圖9中C-C處的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；[〇〇32]圖中:001、封裝結(jié)構(gòu);002、0LED發(fā)光結(jié)構(gòu);003、TFT背板;004、電極;005、有機材料薄膜;006、基板;007、真空腔室;008、坩堝;0081、噴口； 009、加熱裝置;010、測厚單元；1、夕卜謝堝；11、外謝堝噴口； 2、內(nèi);t甘堝;21、內(nèi);t甘堝噴口； 3、第一發(fā)熱體;4、第二發(fā)熱體;5、隔板;6、隔熱散熱層?！揪唧w實施方式】
[0033]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型的實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不能用來限制本實用新型的范圍。
[0034]在本實用新型的描述中，需要說明的是，術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、 “前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。
[0035]在本實用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接;可以是機械連接，也可以是電連接;可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本實用新型中的具體含義。
[0036]本申請的熱蒸鍍坩堝，包括同軸設(shè)置的內(nèi)坩堝2和外坩堝1;所述內(nèi)坩堝噴口 21與所述外坩堝噴口 11位于同一平面上。通過將多個坩堝同軸設(shè)置，不僅可以增加不同材料蒸汽的混合區(qū)域空間，提高不同材料蒸汽的混合均勻性;而且還可以解決坩堝分散導致設(shè)備空間利用率低的問題。
[0037]下面提供幾個不同的實施例對本申請的熱蒸鍍坩堝進行說明。[〇〇38] 實施例一
[0039]本實施例一的熱蒸鍍坩堝，請參見圖4-5。從圖5中可知，本實施例一的熱蒸鍍坩堝，其內(nèi)坩堝2的深度大于所述外坩堝1的深度，并使得所述內(nèi)坩堝2的下端暴露在所述外坩堝1外。并且，在內(nèi)坩堝2的下端的外側(cè)壁上設(shè)置有第一發(fā)熱體3,外坩堝1的外側(cè)壁上設(shè)置有第二發(fā)熱體4。在此基礎(chǔ)上，通過第一發(fā)熱體3加熱內(nèi)坩堝2下半部分，并通過第二發(fā)熱體4加熱內(nèi)坩堝2的上半部分以及外坩堝1。[〇〇40]需要說明的是，由于第一發(fā)熱體3直接對內(nèi)坩堝2下半部分進行加熱，因此為了保證內(nèi)坩堝2上半部分的加熱效果，優(yōu)選采用第二發(fā)熱體4對內(nèi)坩堝2的上半部分進行加熱。當然，為了實現(xiàn)內(nèi)坩堝2和外坩堝1溫度的獨立控制，也可以在內(nèi)坩堝2的上半部分的外側(cè)壁上設(shè)置隔熱散熱層(圖中未示出)，此時內(nèi)坩堝2的上半部分的加熱主要是通過內(nèi)坩堝2下半部分的熱傳導實現(xiàn)。其中，隔熱散熱層可以采用熱管、物理隔熱層，半導體制冷等技術(shù)實現(xiàn)。
[0041]本實施例一中，內(nèi)坩堝2和外坩堝1(包括坩堝蓋)的材料均為耐高溫且具有較好熱傳導性的材料，如T1、不銹鋼、A1203、BN等。并且，內(nèi)坩堝2和外坩堝1的材料可以相同也可以不同。
[0042]此外，本實施例一的內(nèi)坩堝2和外坩堝1的橫截面并不一定如圖4所示呈圓形，其可以是方形、橢圓形、菱形等任意形狀，只要保證內(nèi)坩堝2和外坩堝1同軸即可。
[0043]本實施例一的熱蒸鍍坩堝，其可以實現(xiàn)兩種不同材料的共同蒸鍍，并且可以充分保證該兩種不同材料的蒸汽混合區(qū)域空間擴大，改善由于蒸鍍速率波動、坩堝口指向變動等帶來的共蒸沉積膜層中材料混合分布不均的問題。同時本實施例一的熱蒸鍍坩堝，其坩堝排布提高了腔室空間內(nèi)的空間利用率，對真空腔體的空間需求減小。
[0044]在上述基礎(chǔ)上，為了對內(nèi)坩堝2和外坩堝1的蒸鍍速率進行控制，本實施例一還提供一種熱蒸鍍裝置，包括第一橫檔、第二橫檔、蒸鍍速率測試器和控制器。所述第一橫檔設(shè)置在所述內(nèi)坩堝噴口 21位置，所述第二橫檔設(shè)置在所述外坩堝噴口 11位置。所述蒸鍍速率測試器通過測試所述第一橫檔位置的蒸鍍速率獲得所述內(nèi)坩堝2的蒸鍍速率，且所述蒸鍍速率測試器通過測試所述第二橫檔位置的蒸鍍速率獲得所述外坩堝1的蒸鍍速率。
[0045]進一步地，蒸鍍速率測試器將測試結(jié)果發(fā)送給所述控制器，控制器根據(jù)檢測到的結(jié)果控制內(nèi)坩堝2和外坩堝1的加熱溫度。其中，控制器通過控制上述第一發(fā)熱體3和第二發(fā)熱體4，實現(xiàn)對內(nèi)坩堝2和外坩堝1的溫度控制。
[0046]其中，蒸鍍速率測試器優(yōu)選但是不必須為石英振蕩器。[〇〇47]需要說明的是，在滿足蒸鍍速率測試器對內(nèi)坩堝2蒸鍍速率或外坩堝1蒸鍍速率的單獨測試時，對第一橫檔和第二橫檔的設(shè)置位置沒有特殊要求，第一橫檔可以設(shè)置在內(nèi)坩堝2的任意位置，同樣第二橫檔也可以設(shè)置在外坩堝1的任意位置。[〇〇48] 實施例二
[0049]本實施例二的熱蒸鍍坩堝，請參見圖6-7。和實施例一不同之處在于，本實施例二的熱蒸鍍坩堝，其外坩堝1中設(shè)置有與所述內(nèi)坩堝2連接的兩塊隔板5;所述隔板5將所述外坩堝1劃分成兩個互相獨立的蒸鍍腔室，且兩個所述蒸鍍腔室均和所述外坩堝噴口 11連通。
[0050]需要說明的是，當上述兩塊隔板5的延長面均經(jīng)過內(nèi)坩堝2或者外坩堝1的軸心時， 那么上述兩塊隔板5可以是一體化成型。此外，之所以隔板5需要與內(nèi)坩堝2連接，原因在于保證各個蒸鍍腔室相對內(nèi)坩堝位置的一致性，從而保證各個蒸鍍腔室中蒸汽和內(nèi)坩堝中蒸汽混合均勻。[〇〇51]本實施例二的熱蒸鍍坩堝，第二發(fā)熱體4的數(shù)量與外坩堝1中蒸鍍腔室的個數(shù)對應，也即第二發(fā)熱體4的數(shù)量為兩個，從而實現(xiàn)對不同蒸鍍腔室蒸鍍速率的單獨控制。[〇〇52]在此基礎(chǔ)上，為了保證相鄰的蒸鍍腔室之間的加熱互不干涉，優(yōu)選隔板5的至少一側(cè)設(shè)置有隔熱散熱層(圖中未示出)。顯然，當隔板5的兩側(cè)均設(shè)置有隔熱散熱層時，隔板5所達到的隔熱效果最佳。
[0053]本實施例二中的隔熱散熱層的具體實施形式可以采用現(xiàn)有技術(shù)中任意一種成熟的隔熱散熱形式。本實施例二的熱蒸鍍坩堝，其可以實現(xiàn)三種不同材料的共同蒸鍍，并且可以充分保證該三種不同材料的蒸汽混合區(qū)域空間擴大，改善由于蒸鍍速率波動、坩堝口指向變動等帶來的共蒸沉積膜層中材料混合分布不均的問題。同時本實施例二的熱蒸鍍坩堝，其坩堝排布提高了腔室空間內(nèi)的空間利用率，對真空腔體的空間需求減小。[〇〇54] 實施例三[〇〇55]本實施例三的熱蒸鍍坩堝，請參見圖8,和實施例二不同之處在于，本實施例三的熱蒸鍍坩堝，其外坩堝1中設(shè)置有與所述內(nèi)坩堝2連接的三塊隔板5;所述隔板5將所述外坩堝1劃分成三個互相獨立的蒸鍍腔室，且三個所述蒸鍍腔室均和所述外坩堝噴口 11連通。
[0056]本實施例三的熱蒸鍍坩堝，第二發(fā)熱體4的數(shù)量與外坩堝1中蒸鍍腔室的個數(shù)對應，也即第二發(fā)熱體4的數(shù)量為三個，從而實現(xiàn)對不同蒸鍍腔室蒸鍍速率的單獨控制。
[0057]本實施例三的熱蒸鍍坩堝，其可以實現(xiàn)四種不同材料的共同蒸鍍，并且可以充分保證該四種不同材料的蒸汽混合區(qū)域空間擴大，改善由于蒸鍍速率波動、坩堝口指向變動等帶來的共蒸沉積膜層中材料混合分布不均的問題。同時本實施例三的熱蒸鍍坩堝，其坩堝排布提高了腔室空間內(nèi)的空間利用率，對真空腔體的空間需求減小。
[0058]需要說明的是，外坩堝1中的隔板5的數(shù)量不受實施例二和本實施例三的限制，隔板5的數(shù)量可以為任意塊，從而可以將外坩堝1劃分成任意個互相獨立的腔室，并實現(xiàn)任意種材料的共同蒸鍍。此外，優(yōu)選但是不必須隔板5的延長面均經(jīng)過外坩堝1的中心軸線，從而隔板5可以實現(xiàn)對外坩堝1簡單直觀的均勻劃分。當然，當隔板5不經(jīng)過外坩堝1的中心軸線時，其同樣可以實現(xiàn)對外坩堝1空間的均勻劃分。
[0059]實施例四
[0060]本實施例四的熱蒸鍍坩堝，請參見圖9-10。和實施例一至三不同之處在于，本實施例四的熱蒸鍍坩堝，內(nèi)坩堝2的深度等于所述外坩堝1的深度;所述外坩堝1的外側(cè)壁上設(shè)置有第一發(fā)熱體;所述內(nèi)坩堝2的外側(cè)壁上設(shè)置有隔熱散熱層6。
[0061]本實施例四中，通過外坩堝1外側(cè)壁上的第一發(fā)熱體同時實現(xiàn)對外坩堝1和內(nèi)坩堝 2的加熱。在此基礎(chǔ)上，通過內(nèi)坩堝2的外側(cè)壁上的隔熱散熱層6,實現(xiàn)對內(nèi)坩堝2溫度的單獨控制。
[0062]本實施例四中，外坩堝1中材料的蒸鍍溫度較高，而內(nèi)坩堝2中材料的蒸鍍溫度較低。
[0063]需要說明的是，上述實施例中，對內(nèi)坩堝2和外坩堝1的加熱方式不構(gòu)成對本申請中熱蒸鍍坩堝的限制，顯然本申請的熱蒸鍍坩堝可以采用任何現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)公開的加熱方式對內(nèi)坩堝2和外坩堝1進行分別或者是共同加熱。
[0064]此外，本申請的熱蒸鍍坩堝，其內(nèi)坩堝2和外坩堝1的分布形式同樣不受上述實施例的限制，只要內(nèi)坩堝2和外坩堝1同軸，且內(nèi)坩堝噴口 21與外坩堝噴口 11位于同一平面上即可。
[0065]以上實施方式僅用于說明本實用新型，而非對本實用新型的限制。盡管參照實施例對本實用新型進行了詳細說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應當理解，對本實用新型的技術(shù)方案進行各種組合、修改或者等同替換，都不脫離本實用新型技術(shù)方案的精神和范圍，均應涵蓋在本實用新型的權(quán)利要求范圍當中。
【主權(quán)項】
1.一種熱蒸鍍坩堝，其特征在于，包括同軸設(shè)置的內(nèi)坩堝和外坩堝;所述內(nèi)坩堝的噴口 與所述外坩堝的噴口位于同一平面上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱蒸鍍坩堝，其特征在于，所述外坩堝中設(shè)置有與所述內(nèi)坩堝 連接的隔板;所述隔板將所述外坩堝劃分成多個互相獨立的蒸鍍腔室，且各個所述蒸鍍腔 室均和所述外坩堝的噴口連通。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熱蒸鍍坩堝，其特征在于，所述隔板的至少一側(cè)設(shè)置有隔熱散熱層。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任意一項所述的熱蒸鍍坩堝，其特征在于，所述內(nèi)坩堝的深度大 于所述外坩堝的深度，并使得所述內(nèi)坩堝的下端暴露在所述外坩堝外;所述內(nèi)坩堝的下端 的外側(cè)壁上設(shè)置有第一發(fā)熱體，所述外坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有第二發(fā)熱體。5.根據(jù)權(quán)利要求1至3任意一項所述的熱蒸鍍坩堝，其特征在于，所述內(nèi)坩堝的深度等 于所述外坩堝的深度;所述外坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有發(fā)熱體;所述內(nèi)坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置 有隔熱散熱層。6.—種熱蒸鍍裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1至5任意一項所述的熱蒸鍍坩堝。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的熱蒸鍍裝置，其特征在于，還包括第一橫檔、第二橫檔、蒸鍍速 率測試器和控制器;所述第一橫檔設(shè)置在所述內(nèi)坩堝的噴口位置，所述第二橫檔設(shè)置在所 述外坩堝的噴口位置;所述蒸鍍速率測試器通過測試所述第一橫檔位置的蒸鍍速率獲得所 述內(nèi)坩堝的蒸鍍速率，且所述蒸鍍速率測試器通過測試所述第二橫檔位置的蒸鍍速率獲得 所述外坩堝的蒸鍍速率;所述蒸鍍速率測試器將測試結(jié)果發(fā)送給所述控制器，所述控制器 根據(jù)所述測試結(jié)果控制所述內(nèi)坩堝和外坩堝的加熱溫度。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熱蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍速率測試器為石英振蕩 器。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熱蒸鍍裝置，其特征在于，當所述內(nèi)坩堝的下端的外側(cè)壁上設(shè) 置有第一發(fā)熱體，且所述外坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有第二發(fā)熱體時，所述控制器向所述第一 發(fā)熱體和第二發(fā)熱體發(fā)送控制信號。10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熱蒸鍍裝置，其特征在于，當所述外坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有 發(fā)熱體，且所述內(nèi)坩堝的外側(cè)壁上設(shè)置有隔熱散熱層時，所述控制器向所述發(fā)熱體發(fā)送控制信號。
【文檔編號】C23C14/24GK205635762SQ201620526572
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年5月27日
【發(fā)明人】孫力, 閆光, 尤娟娟, 焦志強, 王小虎, 崔偉
【申請人】合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司