掩膜框架的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種掩膜框架，該掩膜框架包括設置有凹槽的基體以及掩膜固定件，并且掩膜固定件固定于凹槽中，能夠使固定于掩膜固定件上的掩膜鍍膜張緊布設在掩膜框架上。將掩膜框架設計為可拆卸的基體以及掩膜固定件，在使用后只需打磨用于固定掩膜鍍膜的掩膜固定件，不會對基體造成任何的損壞，報廢時也只需報廢掩膜固定件，從而有效降低了生產(chǎn)中掩膜框架的運用成本。
【專利說明】
掩膜框架
技術領域
[0001 ]本實用新型涉及半導體制造技術領域，更具體涉及一種掩膜框架。
【背景技術】
[0002]在有機發(fā)光二極管OLED面板制造過程中，蒸鍍、化學氣相沉積CVD工藝由于只需要在基板特定的地方蒸鍍上有機物、金屬等材料或者CVD成膜，因此需要使用掩膜Mask來保證材料蒸鍍位置或者CVD成膜位置的精確度。
[0003]Mask主要包括兩部:掩膜框架Mask Frame和掩膜鏈膜Mask sheet Jask Sheet保證了材料蒸鍍位置的精確度，Mask Frame為支撐框架，用于固定以及支撐Mask sheet Jasksheet通過激光焊接在Mask Frame上。每蒸鍍一段時間后，掩膜鍍膜由于其他因素的影響會造成自身的損傷，影響蒸鍍的精確度，不能滿足產(chǎn)品對精度的要求，因此Mask sheet需要更換，更換時需要解焊Mask sheet，解焊之后Mask Frame上會留下焊接癥痕，需要打磨癥痕后重新焊接新的Mask sheet，重新焊接過幾次后就需要對Mask Frame整體打磨，打磨3?4次后Mask Frame需要廢棄。由于現(xiàn)有的掩膜框架為一體化設計，因此報廢就必須整體報廢掩膜框架，同時由于掩膜框架價格昂貴，造成了生產(chǎn)中掩膜框架的運用成本running cost親升。例如，按照目前Mask Frame的價格，不脹鋼掩膜框架Invar Frame 200萬一張，不銹鋼掩膜框架SUS Frame的價格20萬，IK產(chǎn)能需要出廠打磨一次，4K產(chǎn)能就需要報廢一臺MaskFrame，如果以整個產(chǎn)線來講，需要報廢三臺Mask Frame:有機蒸鍍用Mask Frame，金屬蒸鍍用Mask Frame以及CVD用Mask Frame，即每產(chǎn)生4K產(chǎn)能就需要報廢600萬價格的MaskFrame ,Running Cost過高。
[0004]另外，現(xiàn)有技術中的Mask Frame為一體的金屬結構，這就造成了Mask Frame重量非常大，需要龐大的傳送機構來運輸。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型要解決的技術問題是如何降低生產(chǎn)中掩膜框架的運用成本。
[0006]為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種掩膜框架，所述掩膜框架包括基體，所述基體設置有凹槽;所述掩膜框架還包括用于固定掩膜鍍膜的掩膜固定件，所述掩膜固定件固定于所述凹槽中，使固定于所述掩膜固定件上的掩膜鍍膜張緊布設在所述掩膜框架上。
[0007]優(yōu)選地，所述基體為陶瓷基體、鋁合金基體或不脹鋼基體。
[0008]優(yōu)選地，所述掩膜固定件為不脹鋼掩膜固定件。
[0009]優(yōu)選地，所述凹槽開口的寬度小于至少一個所述凹槽平行于底面的橫截面的寬度。
[0010]優(yōu)選地，所述凹槽的橫截面的形狀為梯形。
[0011]優(yōu)選地，所述凹槽的橫截面的形狀為方形。
[0012]優(yōu)選地，所述掩膜固定件包括多個與所述凹槽形狀相適配的條狀結構。
[0013]優(yōu)選地，所述掩膜固定件通過螺絲固定于所述凹槽內(nèi)。
[0014]優(yōu)選地，所述掩膜固定件在固定掩膜鍍膜的部位無螺絲孔。
[0015]本實用新型提供了一種掩膜框架，該掩膜框架包括設置有凹槽的基體以及掩膜固定件，并且掩膜固定件固定于凹槽中，能夠使固定于掩膜固定件上的掩膜鍍膜張緊布設在掩膜框架上。將掩膜框架設計為可拆卸的基體以及掩膜固定件，在使用后只需打磨用于固定掩膜鍍膜的掩膜固定件，不會對基體造成任何的損壞，報廢時也只需報廢掩膜固定件，從而有效降低了生產(chǎn)中掩膜框架的運用成本。
【附圖說明】
[0016]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1A是本實用新型的一個較佳實施例的掩膜框架的結構示意圖；
[0018]圖1B是本實用新型的一個較佳實施例的掩膜框架的側視圖；
[0019]圖2A是本實用新型的一個較佳實施例的掩膜框架的基體的結構示意圖；
[0020]圖2B是本實用新型的一個較佳實施例的掩膜框架的基體的俯視圖；
[0021]圖2C是本實用新型的一個較佳實施例的掩膜框架的基體的側視圖；
[0022]圖3是本實用新型的一個較佳實施例的掩膜框架的掩膜固定件的結構示意圖；
[0023]圖4A是本實用新型的另一個較佳實施例的掩膜框架的結構示意圖；
[0024]圖4B是本實用新型的另一個較佳實施例的掩膜框架的側視圖。
【具體實施方式】
[0025]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不能用來限制本實用新型的范圍。
[0026]如圖1A、圖1B所示，本實用新型的一個較佳實施例公開了一種掩膜框架，所述掩膜框架Mask Frame包括基體I，所述基體設置有凹槽3;所述掩膜框架還包括用于固定掩膜鍍膜Mask sheet的掩膜固定件sheet Tens1n 4，所述掩膜固定件4固定于所述凹槽3中，使固定于所述掩膜固定件4上的掩膜鍍膜張緊布設在所述掩膜框架上。上述實施例將掩膜框架設計為可拆卸的基體I以及掩膜固定件4，在使用后只需打磨用于固定掩膜鍍膜的掩膜固定件4，不會對基體I造成任何的損壞，報廢時也只需報廢掩膜固定件4，從而有效降低了生產(chǎn)中掩膜框架的運用成本。
[0027 ]進一步地，所述基體為Cerami c陶瓷基體或招合金基體。采用輕材質的陶瓷(膨脹系數(shù)6.7 X 10—6/°C)或鋁合金(膨脹系數(shù)I.881 X 10~—5°C_1?2.360 X 10~-5°C)作為掩膜框架的基體材料，降低了掩膜框架的重量，從而降低了掩膜框架的搬運難度，增加了掩膜框架的使用壽命，同時相對于整體采用低熱膨脹系數(shù)的不脹鋼的掩膜框架，進一步地降低了掩膜框架的成本。當然基體的材質不限于上述陶瓷或鋁合金也可以采用不銹鋼SUS(膨脹系數(shù)17.3X10—6/°C)或不脹鋼。
[0028]進一步地，由于蒸鍍精度對溫度敏感，所以用于固定掩膜鍍膜的掩膜固定件采用低熱膨脹系數(shù)的不脹鋼Invar形成，其膨脹系數(shù)1.6X10—6/°C，從而使掩膜固定件因溫度變化而產(chǎn)生的形變小，從而其上固定的掩膜鍍膜發(fā)生的形變或位移小，從而保證了蒸鍍的精度，滿足蒸鍍對溫度敏感的需求。
[0029]進一步地，如圖1A，IB所示，所述凹槽開口6的寬度小于至少一個所述凹槽平行于底面的橫截面的寬度。相應的掩膜固定件包括多個與所述凹槽形狀相適配的條狀結構，即條狀結構的橫截面的形狀與凹槽的橫截面的形狀相同，并且形成該掩膜固定件的多個條狀結構沒有焊接或固定在一起，不是一個整體。由于凹槽下部至少一個平行于底面的橫截面的寬度大于凹槽開口6，因此與凹槽形狀相適應的條狀結構在使用時需要將每個條狀結構分別插入在對應的凹槽中，同時能夠卡在對應的凹槽中，初步固定掩膜固定件的位置。
[0030]如圖2B、圖3所示，為了實現(xiàn)更好的固定效果，可以利用螺絲將掩膜固定件通過固定于對應的凹槽內(nèi)，基體部螺絲孔2的位置固定，掩膜固定件在固定掩膜鍍膜的部位無螺絲孔5，這樣可以根據(jù)實際蒸鍍需求靈活設計掩膜固定件的固定部位，以滿足生產(chǎn)不同產(chǎn)品的需求。優(yōu)選地，如圖2A、2C所示，所述凹槽的橫截面的形狀為梯形，相應的形成掩膜固定件的條狀結構的橫截面的形狀也是梯形，梯形截面制作簡便并且能夠有效的固定掩膜固定件。另外，掩膜固定件所包含條的狀結構的數(shù)量可以根據(jù)實際的蒸鍍要求設計包括的條狀結構的數(shù)量，從而進一步降低了掩膜框架的成本。
[0031]進一步地，如圖4A、4B所示所述凹槽的橫截面的形狀也可以是方形，這種情況下，掩膜固定件4所包括的多個與所述凹槽形狀相適配的條狀結構的橫截面也是方形，并且多個條狀結構可以實現(xiàn)固定形成一個整體，是使用時直接將掩膜固定件放入凹槽中即可，操作起來簡單方便。該情況下為了固定掩膜固定件，同樣可以利用螺絲將掩膜固定件通過固定于對應的凹槽內(nèi)。
[0032]本實用新型的研磨框架采用分體的基體和掩膜固定件的設計，可通過更換掩膜固定件sheet Tens1n部降低運用成本，另外通過改善基體材質降低了研磨框架的重量，從而降低了掩膜框架的搬送難度。
[0033]以上各實施例僅用以說明本實用新型的技術方案，而非對其限制;盡管參照前述各實施例對本實用新型進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特征進行等同替換;而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本實用新型各實施例技術方案的范圍，其均應涵蓋在本實用新型的權利要求和說明書的范圍當中。
【主權項】
1.一種掩膜框架，其特征在于，所述掩膜框架包括基體，所述基體設置有凹槽;所述掩膜框架還包括用于固定掩膜鍍膜的掩膜固定件，所述掩膜固定件固定于所述凹槽中，使固定于所述掩膜固定件上的掩膜鍍膜張緊布設在所述掩膜框架上。2.根據(jù)權利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述基體為陶瓷基體、鋁合金基體或不脹鋼基體。3.根據(jù)權利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述掩膜固定件為不脹鋼掩膜固定件。4.根據(jù)權利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述凹槽開口的寬度小于至少一個所述凹槽平行于底面的橫截面的寬度。5.根據(jù)權利要求4所述的掩膜框架，其特征在于，所述凹槽的橫截面的形狀為梯形。6.根據(jù)權利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述凹槽的橫截面的形狀為方形。7.根據(jù)權利要求4至6任一項所述的掩膜框架，其特征在于，所述掩膜固定件包括多個與所述凹槽形狀相適配的條狀結構。8.根據(jù)權利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述掩膜固定件通過螺絲固定于所述凹槽內(nèi)。9.根據(jù)權利要求8所述的掩膜框架，其特征在于，所述掩膜固定件在固定掩膜鍍膜的部位無螺絲孔。
【文檔編號】C23C16/04GK205662586SQ201620407306
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年5月4日
【發(fā)明人】喬永康, 潘晟愷, 徐鵬
【申請人】合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司