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      一種化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)的制作方法

      文檔序號(hào):10977581閱讀:711來(lái)源:國(guó)知局
      一種化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)的制作方法
      【專利摘要】一種化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),包括:工藝腔室,所述工藝腔室用于半導(dǎo)體器件之制備工藝;工藝氣體進(jìn)氣管路,所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過(guò)第一過(guò)濾器與所述工藝腔室連接;清潔氣體進(jìn)氣管路,所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過(guò)第二過(guò)濾器與所述工藝腔室連接,并在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時(shí),所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓。本實(shí)用新型化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)通過(guò)在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時(shí),保證所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓,不僅可有效避免所述清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體進(jìn)氣管路,并停留在工藝氣體進(jìn)氣管路上的第一過(guò)濾器內(nèi),消除工藝氣體將顆粒物帶入腔體內(nèi)造成顆粒物缺陷的可能,而且不影響清潔比率,提高產(chǎn)品良率。
      【專利說(shuō)明】
      _種化學(xué)氣)相成膜機(jī)臺(tái)
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001 ]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)?!颈尘凹夹g(shù)】
      [0002]對(duì)于化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)之Producer機(jī)型的跑貨方式,每種工藝過(guò)程開(kāi)始前、過(guò)程中及結(jié)束后,機(jī)臺(tái)都將觸發(fā)相應(yīng)的清潔程式,以將腔體內(nèi)殘留的薄膜清理干凈,再形成一層對(duì)應(yīng)的薄膜來(lái)穩(wěn)定腔體環(huán)境。通常地,清潔氣體和工藝氣體均由廠務(wù)端供應(yīng),在進(jìn)入腔體前按照硬件設(shè)置,經(jīng)過(guò)不同的氣體面板進(jìn)行混合后流入腔體。
      [0003]但是,由于清潔氣體和工藝氣體通過(guò)的氣體面板不同,當(dāng)進(jìn)行清理程式時(shí),工藝氣體之氣體面板處于負(fù)壓狀態(tài),導(dǎo)致清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體管路,并停留在工藝氣體管路上的過(guò)濾器內(nèi),在長(zhǎng)期積累后,由工藝氣體帶入腔體內(nèi),產(chǎn)生顆粒物缺陷。
      [0004]尋求一種使用方便、程式簡(jiǎn)單,并可有效避免顆粒物缺陷的化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)已成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問(wèn)題之一。
      [0005]故針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,本案設(shè)計(jì)人憑借從事此行業(yè)多年的經(jīng)驗(yàn),積極研究改良,于是有了本實(shí)用新型一種化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)?!緦?shí)用新型內(nèi)容】[00〇6]本實(shí)用新型是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中,傳統(tǒng)化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)之Producer機(jī)型由于清潔氣體和工藝氣體通過(guò)的氣體面板不同,當(dāng)進(jìn)行清理程式時(shí),工藝氣體之氣體面板處于負(fù)壓狀態(tài),導(dǎo)致清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體管路,并停留在工藝氣體管路上的過(guò)濾器內(nèi), 在長(zhǎng)期積累后,由工藝氣體帶入腔體內(nèi),產(chǎn)生顆粒物缺陷等提供一種化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)。
      [0007]為實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型之目的,本實(shí)用新型提供一種化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),所述化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),包括:工藝腔室,所述工藝腔室用于半導(dǎo)體器件之制備工藝;工藝氣體進(jìn)氣管路,所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過(guò)第一過(guò)濾器與所述工藝腔室連接;清潔氣體進(jìn)氣管路,所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過(guò)第二過(guò)濾器與所述工藝腔室連接,并在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時(shí),所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓。
      [0008]可選地,在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時(shí),所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓,所述清潔氣體進(jìn)氣管路之顆粒物未進(jìn)入所述工藝氣體進(jìn)氣管路及所述第一過(guò)濾器處。
      [0009]可選地,所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過(guò)氣體供應(yīng)管與氣體供應(yīng)端連接,并在位于所述工藝氣體進(jìn)氣管路和所述氣體供應(yīng)端之間的氣體供應(yīng)管上設(shè)置第一氣體混合面板。 [〇〇1〇]可選地,所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過(guò)氣體供應(yīng)管與氣體供應(yīng)端連接,并在位于所述清潔氣體進(jìn)氣管路和所述氣體供應(yīng)端之間的氣體供應(yīng)管上設(shè)置第二氣體混合面板。
      [0011]可選地,所述清潔程式執(zhí)行時(shí),在清潔程式之菜單中增加與所述第一氣體混合面板連接的氣體供應(yīng)管內(nèi)之惰性氣體流量。
      [0012]可選地,所述惰性氣體為所述工藝腔室內(nèi)之制程工藝載氣的其中之一。
      [0013]可選地,所述工藝腔室內(nèi)設(shè)置用于反應(yīng)氣體流入的噴頭。
      [0014]可選地,所述工藝腔室內(nèi)通過(guò)射頻發(fā)生器形成高頻或者低頻的射頻。
      [0015]綜上所述,本實(shí)用新型化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)通過(guò)在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時(shí),保證所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓,不僅可有效避免所述清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體進(jìn)氣管路,并停留在工藝氣體進(jìn)氣管路上的第一過(guò)濾器內(nèi),消除工藝氣體將顆粒物帶入腔體內(nèi)造成顆粒物缺陷的可能,而且不影響清潔比率,提高產(chǎn)品良率?!靖綀D說(shuō)明】
      [0016]圖1所示為本發(fā)明化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)之結(jié)構(gòu)示意圖;[〇〇17]圖2所示為本發(fā)明化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)之工藝氣體進(jìn)氣管路和清潔氣體進(jìn)氣管路的結(jié)構(gòu)示意圖?!揪唧w實(shí)施方式】
      [0018]為詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所達(dá)成目的及功效,下面將結(jié)合實(shí)施例并配合附圖予以詳細(xì)說(shuō)明。[0〇19]對(duì)于化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)之Producer機(jī)型的跑貨方式,每種工藝過(guò)程開(kāi)始前、過(guò)程中及結(jié)束后,機(jī)臺(tái)都將觸發(fā)相應(yīng)的清潔程式,以將腔體內(nèi)殘留的薄膜清理干凈,再形成一層對(duì)應(yīng)的薄膜來(lái)穩(wěn)定腔體環(huán)境。通常地,清潔氣體和工藝氣體均由廠務(wù)端供應(yīng),在進(jìn)入腔體前按照硬件設(shè)置,經(jīng)過(guò)不同的氣體面板進(jìn)行混合后流入腔體。
      [0020]但是,由于清潔氣體和工藝氣體通過(guò)的氣體面板不同,當(dāng)進(jìn)行清理程式時(shí),工藝氣體之氣體面板處于負(fù)壓狀態(tài),導(dǎo)致清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體管路,并停留在工藝氣體管路上的過(guò)濾器內(nèi),在長(zhǎng)期積累后,由工藝氣體帶入腔體內(nèi),產(chǎn)生顆粒物缺陷。
      [0021]請(qǐng)參閱圖1、圖2,圖1所示為本發(fā)明化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)之結(jié)構(gòu)示意圖。圖2所示為本發(fā)明化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)之工藝氣體進(jìn)氣管路和清潔氣體進(jìn)氣管路的結(jié)構(gòu)示意圖。所述化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)1,包括:工藝腔室11,所述工藝腔室11用于半導(dǎo)體器件10之制備工藝;工藝氣體進(jìn)氣管路12,所述工藝氣體進(jìn)氣管路12通過(guò)第一過(guò)濾器121與所述工藝腔室11連接;清潔氣體進(jìn)氣管路13,所述清潔氣體進(jìn)氣管路13通過(guò)第二過(guò)濾器131與所述工藝腔室11連接,并在所述清潔氣體進(jìn)氣管路13執(zhí)行清潔程式時(shí),所述工藝氣體進(jìn)氣管路12為正壓。
      [0022]顯然地,本實(shí)用新型化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)1在所述清潔氣體進(jìn)氣管路13執(zhí)行清潔程式時(shí),所述工藝氣體進(jìn)氣管路12為正壓,即可有效避免所述清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體進(jìn)氣管路12,并停留在工藝氣體進(jìn)氣管路12上的第一過(guò)濾器121內(nèi),消除工藝氣體將顆粒物帶入工藝腔室11內(nèi)造成顆粒物缺陷的可能。即,在所述清潔氣體進(jìn)氣管路13執(zhí)行清潔程式時(shí),所述工藝氣體進(jìn)氣管路12為正壓,所述清潔氣體進(jìn)氣管路13之顆粒物未進(jìn)入所述工藝氣體進(jìn)氣管路12及所述第一過(guò)濾器121處。
      [0023]作為具體地實(shí)施方式,所述工藝氣體進(jìn)氣管路12通過(guò)氣體供應(yīng)管14與氣體供應(yīng)端 15連接,并在位于所述工藝氣體進(jìn)氣管路12和所述氣體供應(yīng)端15之間的氣體供應(yīng)管14上設(shè)置第一氣體混合面板16。所述清潔氣體進(jìn)氣管路13通過(guò)氣體供應(yīng)管14與氣體供應(yīng)端15連接,并在位于所述清潔氣體進(jìn)氣管路13和所述氣體供應(yīng)端15之間的氣體供應(yīng)管14上設(shè)置第二氣體混合面板17。所述工藝腔室11內(nèi)設(shè)置用于反應(yīng)氣體流入的噴頭18。所述工藝腔室11 內(nèi)通過(guò)射頻發(fā)生器19形成高頻或者低頻的射頻。
      [0024]為了更好的實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型之有益效果,以保證所述清潔氣體進(jìn)氣管路13執(zhí)行清潔程式時(shí),所述工藝氣體進(jìn)氣管路12為正壓,優(yōu)選地,所述清潔程式執(zhí)行時(shí),在清潔程式之菜單中增加與所述第一氣體混合面板16連接的氣體供應(yīng)管14內(nèi)之惰性氣體流量。更具體地,所述惰性氣體為所述工藝腔室11內(nèi)之制程工藝載氣的其中之一。
      [0025]綜上所述,本實(shí)用新型化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái)通過(guò)在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時(shí),保證所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓,不僅可有效避免所述清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體進(jìn)氣管路,并停留在工藝氣體進(jìn)氣管路上的第一過(guò)濾器內(nèi),消除工藝氣體將顆粒物帶入腔體內(nèi)造成顆粒物缺陷的可能,而且不影響清潔比率,提高產(chǎn)品良率。
      [0026]本領(lǐng)域技術(shù)人員均應(yīng)了解,在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下,可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種修改和變型。因而,如果任何修改或變型落入所附權(quán)利要求書(shū)及等同物的保護(hù)范圍內(nèi)時(shí),認(rèn)為本實(shí)用新型涵蓋這些修改和變型。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),其特征在于,所述化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),包括:工藝腔室,所述工藝腔室用于半導(dǎo)體器件之制備工藝;工藝氣體進(jìn)氣管路,所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過(guò)第一過(guò)濾器與所述工藝腔室連接;清潔氣體進(jìn)氣管路,所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過(guò)第二過(guò)濾器與所述工藝腔室連接,并 在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時(shí),所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓。2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),其特征在于,在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行 清潔程式時(shí),所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓,所述清潔氣體進(jìn)氣管路之顆粒物未進(jìn)入所述 工藝氣體進(jìn)氣管路及所述第一過(guò)濾器處。3.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),其特征在于,所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過(guò)氣 體供應(yīng)管與氣體供應(yīng)端連接,并在位于所述工藝氣體進(jìn)氣管路和所述氣體供應(yīng)端之間的氣 體供應(yīng)管上設(shè)置第一氣體混合面板。4.如權(quán)利要求3所述的化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),其特征在于,所述清潔程式執(zhí)行時(shí),在清潔 程式之菜單中增加與所述第一氣體混合面板連接的氣體供應(yīng)管內(nèi)之惰性氣體流量。5.如權(quán)利要求4所述的化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),其特征在于,所述惰性氣體為所述工藝腔室 內(nèi)之制程工藝載氣的其中之一。6.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),其特征在于,所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過(guò)氣 體供應(yīng)管與氣體供應(yīng)端連接,并在位于所述清潔氣體進(jìn)氣管路和所述氣體供應(yīng)端之間的氣 體供應(yīng)管上設(shè)置第二氣體混合面板。7.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),其特征在于,所述工藝腔室內(nèi)設(shè)置用于反應(yīng) 氣體流入的噴頭。8.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機(jī)臺(tái),其特征在于,所述工藝腔室內(nèi)通過(guò)射頻發(fā) 生器形成高頻或者低頻的射頻。
      【文檔編號(hào)】C23C16/455GK205669065SQ201620283550
      【公開(kāi)日】2016年11月2日
      【申請(qǐng)日】2016年4月7日
      【發(fā)明人】謝素蘭, 許雋
      【申請(qǐng)人】上海華力微電子有限公司
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