掩膜板的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種掩膜板，該掩膜板包括圖形部分和邊框部分，還包括：切割線結(jié)構(gòu)，所述切割線結(jié)構(gòu)作為所述圖形部分和所述邊框部分的分界線，沿著所述切割線結(jié)構(gòu)的延伸方向，所述掩膜板能夠被折斷；未刻蝕部分，位于所述切割線結(jié)構(gòu)的至少一個端部區(qū)域或中間區(qū)域，所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預(yù)設(shè)長度值。通過本實(shí)用新型，達(dá)到了有效地緩解手動折斷掩膜板而產(chǎn)生的邊緣褶皺或翹起的發(fā)生的效果。
【專利說明】
掩膜板
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種掩膜板。
【背景技術(shù)】
[0002]精細(xì)金屬掩膜(FMM Mask)模式是通過蒸鍍方式將0LED(0rganic Light-EmittingD1de，有機(jī)發(fā)光二極管)材料按照預(yù)定程序蒸鍍到LTPS( Low Temperature Poly-si I icon，低溫多晶硅)背板上，利用FMM上的圖形，蒸鍍紅綠藍(lán)有機(jī)物到規(guī)定位置上。
[0003]在使用FMM Mask的過程中，需要將先對FMM Mask進(jìn)行張網(wǎng)和拉伸，再將其焊接到金屬框架上，因此FMM Mask在制作時需要預(yù)留出多余部分供拉伸時使用，焊接完成后再將多余部分去除。目前的FMM Mask生產(chǎn)工藝中，是在多余部分的邊緣預(yù)先刻蝕出切割線(Cutting Line)，焊接完成后由人工沿著切割線將多余部分折斷，其中，切割線是采用半刻蝕工藝形成的，因此其并沒有刻透FMM Mask，這樣設(shè)計(jì)的目的是保持FMM Mask的足夠硬度以避免輕易折斷，相對不刻蝕的方法又適當(dāng)減小了FMM Mask的硬度以方便折斷。
[0004]對于FMM Mask上的切割線(Cutting Line)設(shè)計(jì)方式，目前主要采用在FMM Mask上設(shè)計(jì)非貫穿的Cutting Line設(shè)計(jì)，S卩在Cutting Line的兩個邊緣分別預(yù)留一未刻蝕區(qū)域(寬度為ΙΟΟμπι左右)，以此方式達(dá)到增加Cutting Line位置區(qū)域的強(qiáng)度，但是未刻蝕區(qū)域的存在會增加手動折斷多余部分時的難度，即使折斷也很容易在Cutting Line邊緣產(chǎn)生裙皺或翹起，褶皺或翹起的區(qū)域會影響FMM Mask和待蒸鍍基板的接觸，最終容易使顯示基板產(chǎn)生較大的陰影(Shadow)，降低產(chǎn)品良率。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種可以防止在折斷精細(xì)金屬掩膜的切割線的過程中容易在切割線邊緣產(chǎn)生褶皺或翹起的技術(shù)方案。
[0006]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供了一種掩膜板，包括圖形部分和邊框部分，還包括:切割線結(jié)構(gòu)，所述切割線結(jié)構(gòu)作為所述圖形部分和所述邊框部分的分界線，沿著所述切割線結(jié)構(gòu)的延伸方向，所述掩膜板能夠被折斷;未刻蝕部分，位于所述切割線結(jié)構(gòu)的至少一個端部區(qū)域或中間區(qū)域，所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預(yù)設(shè)長度值。
[0007]優(yōu)選地，還包括:開口結(jié)構(gòu)，位于所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的至少一個端部區(qū)域，所述開口結(jié)構(gòu)在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的寬度小于所述預(yù)設(shè)長度值，所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的延長線貫穿所述開口結(jié)構(gòu)。
[0008]優(yōu)選地，所述開口結(jié)構(gòu)包括:分別位于所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的兩個端部區(qū)域的第一開口和第二開口。
[0009]優(yōu)選地，所述第一開口在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的第一寬度與所述第二開口在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的第二寬度的范圍為0.5mm?1mm。
[0010]優(yōu)選地，所述第一寬度與所述第二寬度相等。
[0011 ]優(yōu)選地，所述第一開口和所述第二開口的形狀均為矩形。
[0012]優(yōu)選地，所述第一開口垂直于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的第一側(cè)邊的中點(diǎn)和所述第二開口垂直于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的第二側(cè)邊的中點(diǎn)之間的連線與所述切割線結(jié)構(gòu)的延伸線重合。
[0013]優(yōu)選地，所述第一開口靠近所述圖形部分且平行于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的第三側(cè)邊和所述第二開口靠近所述圖形部分且平行于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的第四側(cè)邊的連線與所述切割線結(jié)構(gòu)的延伸方向重合。
[0014]優(yōu)選地，當(dāng)所述未刻蝕部分位于所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的中間區(qū)域時，所述未刻蝕部分包括第一未刻蝕子部分和第二未刻蝕子部分，所述第一未刻蝕子部分和所述第二未刻蝕子部分將所述切割線結(jié)構(gòu)分割為三部分。
[0015]優(yōu)選地，所述第一未刻蝕子部分與所述第二未刻蝕子部分相對于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向?qū)ΨQ，且相對于所述切割線結(jié)構(gòu)的中垂線對稱。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型所述的掩膜板，可以有效地緩解手動折斷掩膜板而產(chǎn)生的邊緣褶皺或翹起的發(fā)生，使掩膜板和玻璃基板接觸良好，從而避免蒸鍍完成的顯示面板出現(xiàn)陰影，進(jìn)而提高顯示面板的產(chǎn)品良率。
【附圖說明】
[0017]圖1是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖2是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的一種掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖3是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的另一種掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖4是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的又一種掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0022]目前，為了增加掩膜板的強(qiáng)度以防止掩膜板折斷，很多廠商采用未貫穿的切割線設(shè)計(jì)，掩膜板的兩側(cè)邊緣預(yù)留一定寬度(例如，ΙΟΟμπι)的未刻蝕區(qū)，但是在手動切除掩膜板多余部分的時候，由于兩側(cè)未刻蝕區(qū)的存在，中間部分先折斷，兩側(cè)部分后折斷，在中間部分折斷和兩側(cè)部分未折斷的過程中，由于手動施力的原因，很容易使兩側(cè)未刻蝕區(qū)域產(chǎn)生褶皺或翹起，影響掩膜板和基板的接觸狀態(tài)。為便于理解，請參考圖1 (圖1是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖)，如圖1所示，兩側(cè)的虛線框區(qū)域即為在手動彎折掩膜板過程中容易發(fā)生褶皺或翹起的區(qū)域。
[0023]可以看出現(xiàn)有技術(shù)中，在切割線區(qū)域設(shè)置未刻蝕區(qū)域的方式不僅增加手動折斷多切割線的難度，而且容易在切割線的邊緣產(chǎn)生褶皺或翹起，因此本實(shí)用新型提出一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的掩膜板。
[0024]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的掩膜板，包括圖形部分和邊框部分，其還包括:切割線結(jié)構(gòu)，所述切割線結(jié)構(gòu)作為所述圖形部分和所述邊框部分的分界線，沿著所述切割線結(jié)構(gòu)的延伸方向，所述掩膜板能夠被折斷;未刻蝕部分，位于所述切割線結(jié)構(gòu)的至少一個端部區(qū)域或中間區(qū)域，所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預(yù)設(shè)長度值。
[0025]在本實(shí)用新型實(shí)施例中，未刻蝕部分的寬度可以與現(xiàn)有設(shè)計(jì)方式下的未刻蝕區(qū)域的寬度相當(dāng)，例如，10um左右，但是未刻蝕部分的位置卻發(fā)生了改變，如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)中未刻蝕區(qū)域位于掩膜板的邊緣位置，掩膜板的邊緣即為未刻蝕區(qū)域的外側(cè)邊緣，也就是說，未刻蝕區(qū)域的外側(cè)邊緣與掩膜板的邊緣之間的距離是O。然而，本實(shí)用新型實(shí)施例中，未刻蝕部分的外側(cè)邊緣與掩膜板的邊緣之間是存在一定距離的，該距離的大小可以根據(jù)工藝需求進(jìn)行設(shè)定，即大于預(yù)設(shè)長度值即可。
[0026]在本實(shí)用新型實(shí)施例中，未刻蝕部分的位置可以有兩種情況:
[0027](I)未刻蝕部分仍然位于所述切割線結(jié)構(gòu)的端部，假設(shè)未刻蝕部分有I個，其可以位于所述切割線結(jié)構(gòu)的任意一個端部區(qū)域，假設(shè)未刻蝕部分有2個，則該2個未刻蝕部分可以分別位于所述切割線結(jié)構(gòu)的兩個端部區(qū)域，但是需要注意的是，不管是設(shè)置了 I個未刻蝕部分還是2個未刻蝕部分，其雖然位于所述切割線結(jié)構(gòu)的端部區(qū)域，但其外側(cè)邊緣與掩膜板的邊緣是具有一定距離的。
[0028](2)未刻蝕部分位于所述切割線結(jié)構(gòu)的中間區(qū)域，舉例而言，如果未刻蝕部分有I個，其會將所述切割線結(jié)構(gòu)分割為兩段，如果未刻蝕部分有2個，其會將所述切割線結(jié)構(gòu)分割為三段。
[0029]可以看出，相對于現(xiàn)有技術(shù)，未刻蝕部分的設(shè)置位置由掩膜板的邊緣移動到邊緣靠里的位置，這樣一來，在保證掩膜板的硬度的同時，可以避免折斷掩膜板邊緣時容易產(chǎn)生的褶皺。
[0030]相比于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型實(shí)施例中，還可以在掩膜板板上增加設(shè)置一個開口結(jié)構(gòu)，該開口結(jié)構(gòu)可以位于所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的至少一個端部區(qū)域，所述開口結(jié)構(gòu)在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的寬度小于所述預(yù)設(shè)長度值，所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的延長線貫穿所述開口結(jié)構(gòu)。
[0031]也就是說，所述切割線結(jié)構(gòu)的中線的延長線是從開口結(jié)構(gòu)通過的，只有這樣設(shè)計(jì)，在手動折斷掩膜板的過程中才可以避免在掩膜板的邊緣產(chǎn)生褶皺或翹起。否則，所述開口結(jié)構(gòu)的設(shè)置位置如果偏離所述切割線結(jié)構(gòu)的中線的延長線，則設(shè)置開口結(jié)構(gòu)的意義就不喪失了。
[0032]而且，由于所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預(yù)設(shè)長度值，而所述開口結(jié)構(gòu)在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的寬度小于所述預(yù)設(shè)長度值，這樣一來，所述未刻蝕部分的外側(cè)邊緣到所述開口結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)邊緣之間也是具有一定距離的，當(dāng)然，這也可以視為對所述未刻蝕部分適當(dāng)加寬了一點(diǎn)，結(jié)構(gòu)本質(zhì)上沒有任何影響。
[0033]作為一個優(yōu)選示例，所述開口結(jié)構(gòu)可以包括:分別位于所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的兩個端部區(qū)域的第一開口和第二開口。也就是說，所述開口結(jié)構(gòu)是由兩個開口組合而成的，由于開口結(jié)構(gòu)會適當(dāng)減小掩膜板的應(yīng)力，導(dǎo)致其強(qiáng)度降低，因此，為了從整體上保證掩膜板的強(qiáng)度基板不發(fā)生變化，這種情況下，可以優(yōu)選所述未刻蝕部分的個數(shù)為2個，當(dāng)然，如果不考慮掩膜板的強(qiáng)度會適當(dāng)降低，所述未刻蝕部分的個數(shù)也可以是I個。當(dāng)設(shè)計(jì)個數(shù)為2個時，兩所述未刻蝕部分既可以分別位于所述切割線結(jié)構(gòu)的兩端區(qū)域，也可以位于所述切割線結(jié)構(gòu)的中間區(qū)域，但此種情況下，2個所述未刻蝕部分需要保持一定間隔而不能緊鄰設(shè)置，否則相當(dāng)于只有I個未刻蝕部分，而未起到2個未刻蝕部分可以在掩膜板的不同區(qū)域起到支撐作用。
[0034]當(dāng)然，相對于只有I個未刻蝕部分的情況，設(shè)置2個未刻蝕部分時必然會增加掩膜板的應(yīng)力而提高掩膜板的硬度。
[0035]作為一個較佳的設(shè)計(jì)方式，所述第一開口在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的第一寬度與所述第二開口在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的第二寬度的范圍為0.5_?1_。
[0036]當(dāng)然，0.5mm?Imm這寬度范圍只是一個避免裙皺或翹起發(fā)生效果較好的范圍，在實(shí)際設(shè)計(jì)中，并不限于該寬度范圍，而且，所述第一寬度與所述第二寬度可以采用相同的寬度，這樣手動折斷操作過程中，掩膜板自身可以承受更加均衡的力，也可以采用不同的寬度值。
[0037]至于所述第一開口的高度(即垂直于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的方向上的長度值)和所述第二開口的高度(即垂直于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的方向上的長度值)則不做限定，其可以是相同的長度值，也可以是不同的長度值。
[0038]作為一個較佳的設(shè)計(jì)方式，所述第一開口和所述第二開口的形狀均可以設(shè)計(jì)為矩形。在實(shí)際應(yīng)用中，所述第一開口和所述第二開口的形狀也可以選用其它形狀，例如梯形等，但相比其他形狀，采用矩形的開口擁有更整齊的側(cè)邊，這樣一來，在掩膜板被折斷后，折斷的缺口邊緣更加整齊。
[0039]更進(jìn)一步地，作為本實(shí)用新型實(shí)施例的一個優(yōu)選設(shè)計(jì)方式，所述第一開口和所述第二開口的形狀均可以設(shè)計(jì)為正方形。
[0040]下面以所述未刻蝕部分的個數(shù)為2為例，根據(jù)所述未刻蝕部分位于所述線結(jié)構(gòu)的端部區(qū)域或中間區(qū)域，分別情況對本實(shí)用新型實(shí)施例提供的掩膜板進(jìn)行說明。
[0041 ] (I)當(dāng)2個所述未刻蝕部分位于所述線結(jié)構(gòu)的兩個端部區(qū)域時，以所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的延長線貫穿所述開口結(jié)構(gòu)的位置，所掩膜板的結(jié)構(gòu)可以有以下兩種:
[0042]結(jié)構(gòu)一
[0043]圖2是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的一種掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖2所示，所述第一開口 10垂直于所述切割線結(jié)構(gòu)20延伸方向的第一側(cè)邊11的中點(diǎn)和所述第二開口 30垂直于所述切割線結(jié)構(gòu)20延伸方向的第二側(cè)邊31的中點(diǎn)之間的連線與所述切割線結(jié)構(gòu)20的延伸線重合。
[0044]同時，兩個未刻蝕部分40分別位于所述切割線結(jié)構(gòu)20與所述第一開口10、所述第二開口 30之間的區(qū)域(即所述切割線結(jié)構(gòu)20的兩個端部區(qū)域)。
[0045]結(jié)構(gòu)二
[0046]圖3是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的另一種掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖3所示，所述第一開口 10靠近所述圖形部分(圖3中未示出，位于圖3中的切割線結(jié)構(gòu)20以下的區(qū)域)且平行于所述切割線結(jié)構(gòu)20延伸方向的第三側(cè)邊12和所述第二開口 30靠近所述圖形部分(圖3中未示出，位于圖3中的切割線結(jié)構(gòu)20以下的區(qū)域)且平行于所述切割線結(jié)構(gòu)20延伸方向的第四側(cè)邊32的連線與所述切割線結(jié)構(gòu)20的延伸方向重合。
[0047]同時，兩個未刻蝕部分40分別位于所述切割線結(jié)構(gòu)20與所述第一開口10、所述第二開口 30之間的區(qū)域(即所述切割線結(jié)構(gòu)20的兩個端部區(qū)域)。
[0048]采用上述兩種方式，雖然切割線兩側(cè)有未刻蝕部分，但是在折斷的過程中，中間的切割線部分還是會先折斷，未刻蝕部分后切斷，由于未刻蝕部分不在掩膜板的邊緣而在內(nèi)部，因此采用同樣的折斷強(qiáng)度，未刻蝕部分的位置對邊緣產(chǎn)生的應(yīng)力影響削弱，進(jìn)而不容易對邊緣產(chǎn)生嚴(yán)重的褶皺或翹起。
[0049](2)當(dāng)2個所述未刻蝕部分位于所述線結(jié)構(gòu)的中間區(qū)域時，所掩膜板可以采用以下的結(jié)構(gòu):
[0050]結(jié)構(gòu)三
[0051]圖4是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的又一種掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖4所示，所述未刻蝕部分包括第一未刻蝕子部分41和第二未刻蝕子部分42，所述第一未刻蝕子部分41和所述第二未刻蝕子部分42將所述切割線結(jié)構(gòu)20分割為三部分。
[0052]而且，所述第一未刻蝕子部分41與所述第二未刻蝕子部分42相對于所述切割線結(jié)構(gòu)20的延伸方向?qū)ΨQ，且相對于所述切割線結(jié)構(gòu)20的中垂線對稱。
[0053]也就是說，具體到圖4所示的掩膜板，兩個未刻蝕子部分(41和42)與切割線結(jié)構(gòu)20是一個左后對稱的結(jié)構(gòu)，同時，兩個未刻蝕子部分(41和42)也可以相對于切割線結(jié)構(gòu)20是對稱的。
[0054]該結(jié)構(gòu)三中，把兩個未刻蝕子部分(41和42)放置在切割線結(jié)構(gòu)的內(nèi)部，這樣在進(jìn)行手動折斷的時候，未刻蝕子部分41、42的兩側(cè)區(qū)域很容易先折斷，由于未刻蝕子部分的位置不在邊緣，采用同樣強(qiáng)度進(jìn)行折斷操作時，折斷過程中產(chǎn)生的應(yīng)力影響延伸到邊緣時已削弱很多，無法使邊緣產(chǎn)生嚴(yán)重的褶皺或翹起。
[0055]需要說明的是，上述三種結(jié)構(gòu)之間，開口結(jié)構(gòu)的設(shè)置位置和未刻蝕部分的設(shè)置位置是可以相互結(jié)合的，例如，在開口結(jié)構(gòu)的位置不變的情況下，將結(jié)構(gòu)一和結(jié)構(gòu)二中的未刻蝕部分挪至切割線結(jié)構(gòu)的中間區(qū)域，在未刻蝕部分的位置不變的情況下，在結(jié)構(gòu)三中增加設(shè)置結(jié)構(gòu)一和結(jié)構(gòu)二中的開口結(jié)構(gòu)，這些都是非常可行的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。
[0056]通過本實(shí)用新型實(shí)施例，在掩膜板上保留未刻蝕區(qū)域(具有增加強(qiáng)度的作用)的情況下，在切割線兩側(cè)區(qū)域增加設(shè)置開口和/或和把未刻蝕的區(qū)域轉(zhuǎn)移到切割線內(nèi)部的方式，可以緩解手動折斷掩膜板(Mask)而產(chǎn)生的邊緣褶皺，使掩膜板和玻璃基板接觸良好，從而避免蒸鍍完成的顯示面板出現(xiàn)陰影，進(jìn)而提高顯示面板的產(chǎn)品良率。
[0057]以上所述是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型所述原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種掩膜板，包括圖形部分和邊框部分，其特征在于，還包括: 切割線結(jié)構(gòu)，所述切割線結(jié)構(gòu)作為所述圖形部分和所述邊框部分的分界線，沿著所述切割線結(jié)構(gòu)的延伸方向，所述掩膜板能夠被折斷； 未刻蝕部分，位于所述切割線結(jié)構(gòu)的至少一個端部區(qū)域或中間區(qū)域，所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預(yù)設(shè)長度值。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，還包括: 開口結(jié)構(gòu)，位于所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的至少一個端部區(qū)域，所述開口結(jié)構(gòu)在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的寬度小于所述預(yù)設(shè)長度值，所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的延長線貫穿所述開口結(jié)構(gòu)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述開口結(jié)構(gòu)包括: 分別位于所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的兩個端部區(qū)域的第一開口和第二開口。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述第一開口在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的第一寬度與所述第二開口在所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向上的第二寬度的范圍為0.5mm?Imm05.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一寬度與所述第二寬度相等。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述第一開口和所述第二開口的形狀均為矩形。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述第一開口垂直于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的第一側(cè)邊的中點(diǎn)和所述第二開口垂直于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的第二側(cè)邊的中點(diǎn)之間的連線與所述切割線結(jié)構(gòu)的延伸線重合。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述第一開口靠近所述圖形部分且平行于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的第三側(cè)邊和所述第二開口靠近所述圖形部分且平行于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向的第四側(cè)邊的連線與所述切割線結(jié)構(gòu)的延伸方向重合。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，當(dāng)所述未刻蝕部分位于所述切割線結(jié)構(gòu)在延伸方向上的中間區(qū)域時，所述未刻蝕部分包括第一未刻蝕子部分和第二未刻蝕子部分，所述第一未刻蝕子部分和所述第二未刻蝕子部分將所述切割線結(jié)構(gòu)分割為三部分。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩膜板，其特征在于，所述第一未刻蝕子部分與所述第二未刻蝕子部分相對于所述切割線結(jié)構(gòu)延伸方向?qū)ΨQ，且相對于所述切割線結(jié)構(gòu)的中垂線對稱。
【文檔編號】C23C14/24GK205676528SQ201620603007
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年6月17日 公開號201620603007.7, CN 201620603007, CN 205676528 U, CN 205676528U, CN-U-205676528, CN201620603007, CN201620603007.7, CN205676528 U, CN205676528U
【發(fā)明人】林治明, 王震, 黃俊杰, 張健, 周猛
【申請人】鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司