国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      一種避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶的制作方法

      文檔序號:10994453閱讀:412來源:國知局
      一種避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶的制作方法
      【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶,包括有靶座,靶座內(nèi)部的磁鐵組及磁靴;特點(diǎn)是:在所述靶座內(nèi)部的磁鐵組的外表面設(shè)置一層保護(hù)磁鐵組的磁鐵的隔水層。本實(shí)用新型對磁鐵組外表面采用涂覆有機(jī)高分子材料(如油漆、防水膠等)或固接金屬非導(dǎo)磁性材料(如不導(dǎo)磁不銹鋼、鋁等)設(shè)置一層隔水層,長期使用時磁鐵表面的磁性變化很小甚至沒有。由此,既保證了冷卻效果,又解決了磁鐵磁性變化的問題,有利于提高鍍膜設(shè)備的穩(wěn)定性。
      【專利說明】
      一種避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本實(shí)用新型涉及一種平面靶,尤其涉及一種避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶。
      【背景技術(shù)】
      [0002]目前玻璃鍍膜生產(chǎn)的設(shè)備中大多采用平面濺射陰極靶材這種方式,其工作原理是:
      [0003]將需鍍膜的玻璃送入真空鍍膜室內(nèi),真空鍍膜室內(nèi)通入一定高純的氬氣以及一些需要的反應(yīng)氣體(例如氧氣、氮?dú)狻⒁胰驳?;當(dāng)靶通電后,在空間中的游離電子會在電磁場的作用下對氬氣等氣體進(jìn)行電離,并產(chǎn)生輝光放電。而氬氣是由氬原子組成;氬原子電離后產(chǎn)生氬離子,在電磁場的作用下變成高能氬離子會向陰極靶面飛去,且與靶面原子或分子進(jìn)行碰撞,濺射出靶材原子或分子等粒子,并飛向玻璃表面形成膜層;在這個過程中通入反應(yīng)氣體,反應(yīng)氣體粒子會與靶材粒子進(jìn)行反應(yīng),并最終在玻璃表面形成所需要的反應(yīng)物。為了增加濺射率,可通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度來實(shí)現(xiàn),從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射的過程。
      [0004]而由于大量高能氬離子碰撞靶材表面產(chǎn)生濺射的同時會給靶材帶來大量熱量,從而使靶材產(chǎn)生變形。為了防止靶材變形,一般在靶材背面的靶座內(nèi)進(jìn)行通入冷卻水進(jìn)行冷卻。為了方便安裝,基本都采用磁鐵放置于靶座內(nèi),且冷卻水與磁鐵直接接觸。由于冷卻水會對磁鐵腐蝕,所以對冷卻水的水質(zhì)要求很高,有一定的電導(dǎo)率等要求;但即使在這種情形下,長期使用還是會對磁鐵有腐蝕,導(dǎo)致磁鐵表面磁性變化,從而改變靶面處磁場,導(dǎo)致鍍膜設(shè)備穩(wěn)定性變差,同樣鍍膜工藝產(chǎn)生不一樣的鍍膜結(jié)果。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0005]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,提供一種避免磁鐵接觸冷卻水的平面。
      [0006]為實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的,本實(shí)用新型提供一種避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶,包括有靶座,靶座內(nèi)部的磁鐵組及磁靴;在所述靶座內(nèi)部的磁鐵組的外表面設(shè)置一層保護(hù)磁鐵的隔水層。
      [0007]進(jìn)一步地,所述隔水層通過涂覆或者固接的方式形成于所述磁鐵組的外表面上。
      [0008]進(jìn)一步地,所述隔水層采用涂覆方式形成于所述磁鐵組的外表面上時,所述隔水層為有機(jī)高分子材料。
      [0009]進(jìn)一步地,所述隔水層為一油漆層。
      [0010]進(jìn)一步地,所述隔水層采用固接方式形成于所述磁鐵組的外表面上時,所述隔水層為金屬非導(dǎo)磁性材料。
      [0011 ]進(jìn)一步地,所述隔水層采用焊接方式進(jìn)行封裝而形成。
      [0012]采用本實(shí)用新型技術(shù)方案,通過對磁鐵組外表面采用涂覆有機(jī)高分子材料(如油漆、防水膠等)或固接金屬非導(dǎo)磁性材料(如不導(dǎo)磁不銹鋼、鋁等)設(shè)置一層隔水層,長期使用時磁鐵表面的磁性變化很小甚至沒有。由此,既保證了冷卻效果,又解決了磁鐵磁性變化的問題,有利于提高鍍膜設(shè)備的穩(wěn)定性。
      [0013]本實(shí)用新型的目的、優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)。將通過下面優(yōu)先實(shí)施例的非限制性說明進(jìn)行圖示和解釋,這些實(shí)施例是參照附圖僅作為例子給出的。
      【附圖說明】
      [0014]圖1為采用涂覆一層隔水層設(shè)置的平面靶結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0015]圖2為采用固接一層隔水層設(shè)置的平面靶結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0016]1:靶座;2:背板;3:靶材;4:磁靴;5:磁鐵組;6:隔水層;7:螺栓;8:螺栓;9:密封圈。
      【具體實(shí)施方式】
      [0017]如圖1所示,本實(shí)用新型提供一種避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶,包括有靶座1,設(shè)置在靶座I內(nèi)的磁鐵組5以及磁靴4;在靶座I上方一般設(shè)置背板2和靶材3。背板2和靶座I之間采用密封圈9進(jìn)行密封處理;通過螺栓8及壓塊將靶材3和背板2固定在一起;通過螺栓7將靶座I與背板2固定在一起(當(dāng)然也有一些靶座的設(shè)計不盡相同,但不影響本實(shí)用新型的保護(hù)范圍)。
      [0018]本實(shí)用新型與一般結(jié)構(gòu)不同之處:其所采用的磁鐵組5表面設(shè)置一層保護(hù)磁鐵組5的隔水層6。所述隔水層6是通過涂覆或者固接的方式形成于所述磁鐵組5的外表面上。
      [0019]結(jié)合本實(shí)用新型一較佳的實(shí)施方式來看,為了便于實(shí)際生產(chǎn)的組裝便捷與穩(wěn)固,本實(shí)用新型所采用的隔水層6是采用在磁鐵組5表面固接一層隔水層方式來實(shí)施的。隔水層6可以使用金屬非導(dǎo)磁性材料的薄板折彎后采用焊接封裝等固接方式進(jìn)行,尤其采用激光焊接更佳。所述金屬非導(dǎo)磁性材料可以選用不銹鋼或鋁材質(zhì)。
      [0020]進(jìn)一步來看,考慮到很多時候隔水層6和磁鐵組5并沒有提前準(zhǔn)備好時,我們可以在磁鐵組5安裝于靶座I內(nèi)后,再對磁鐵組5外露表面進(jìn)行涂覆一油漆層等高分子材料作為隔水層6,結(jié)構(gòu)示意可見圖2所示。
      [0021]通過上述的文字表述并結(jié)合附圖可以看出,采用本實(shí)用新型后,通過在磁鐵表面涂覆或固接一層保護(hù)磁鐵的隔水層,取代之前的磁鐵裸放于靶座內(nèi)部的結(jié)構(gòu)。由此,既保證了冷卻效果,又解決了磁鐵磁性變化的問題。
      [0022]當(dāng)然,以上僅是本實(shí)用新型的具體應(yīng)用范例,對本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不構(gòu)成任何限制。除上述實(shí)施例外,本實(shí)用新型還可以有其它實(shí)施方式,凡采用等同替代或等效變換形成的技術(shù)方案,均落在本實(shí)用新型所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
      【主權(quán)項】
      1.一種避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶,包括有靶座以及靶座內(nèi)部的磁鐵組與磁靴;其特征在于:在所述靶座內(nèi)部的磁鐵組的外表面設(shè)置一層保護(hù)磁鐵的隔水層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶,其特征在于:所述隔水層通過涂覆或者固接的方式形成于所述磁鐵組的外表面上。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶,其特征在于:所述隔水層采用涂覆方式形成于所述磁鐵組的外表面上時,所述隔水層為有機(jī)高分子材料。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶,其特征在于:所述隔水層為一油漆層。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶,其特征在于:所述隔水層采用固接方式形成于所述磁鐵組的外表面上時,所述隔水層為金屬非導(dǎo)磁性材料。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的避免磁鐵接觸冷卻水的平面靶,其特征在于:所述隔水層采用焊接方式進(jìn)行封裝而形成。
      【文檔編號】C23C14/35GK205688004SQ201620264315
      【公開日】2016年11月16日
      【申請日】2016年4月1日 公開號201620264315.1, CN 201620264315, CN 205688004 U, CN 205688004U, CN-U-205688004, CN201620264315, CN201620264315.1, CN205688004 U, CN205688004U
      【發(fā)明人】宋光耀, 戰(zhàn)捷
      【申請人】深圳市三??萍加邢薰?br>
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點(diǎn)贊!
      1