專利名稱：納米碳制造裝置、制造方法和用于收集納米碳的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及納米碳制造裝置，以及用于制造和回收納米碳的方法。
背景技術：
近年來，納米碳的技術應用已經(jīng)在比較活躍地進行之中。納米碳指的是具有納米級微觀結構的碳物質，以碳納米管、碳納米角(carbonnanohorn)等為典型。在它們之中，碳納米角具有管狀結構，其中圓柱形圓形成的石墨層的碳納米管的一邊具有錐形形狀，并且由于其獨特的特征可以預期能夠應用到不同的技術領域。通常，碳納米角形成碳納米角組件，以用其中錐形部分在圍繞管為中心的表面上通過作用在錐形部分之間的范得瓦爾斯力以角狀凸起的形式收集。
報導稱碳納米角組件通過激光蒸發(fā)方法制造，其中激光束在惰性氣體氛圍下照射到作為原材料的碳材料上(下面適當?shù)胤Q為石墨靶)。(專利文件1)根據(jù)此方法，通過激光蒸發(fā)所獲得的煙灰材料必須通過使用將煙灰狀材料適當?shù)爻练e到襯底等上的方法來回收。
日本專利公開出版物No.2001-64004。

發(fā)明內容
但是，由于發(fā)明人的對此方法的研究的結果，很明顯難于收集所產生的煙灰狀材料。特別地，碳納米角(Carbon Nanohorn)組件由于較低的密度很容易漂浮在空氣中，以及漂浮在室中，對于碳納米角組件難于沉積到室的底部。
本發(fā)明考慮到上述情況而來實現(xiàn)，并且本發(fā)明的目的是提供一種有效回收納米碳的技術。
根據(jù)本發(fā)明，提供了一種納米碳制造裝置，包括產生納米碳的產生室，以及回收所產生的納米碳的回收室，其中潤濕所產生的納米碳的潤濕單元設置在產生室或者回收室中。
根據(jù)本發(fā)明的制造裝置，由于潤濕單元設置在產生室或者回收室中，在產生室中所產生的納米碳一定可以潤濕。因此，納米碳被限制在回收室中漂浮，以及可以沉積到底部上。因此，所沉積的納米碳可以確定地回收。
在本發(fā)明中，在產生室中，納米碳通過諸如激光燒蝕方法、弧光放電方法、CVD方法等的方法所產生。
根據(jù)本發(fā)明，提供了一種納米碳制造裝置，包括光源，所述光源將光照射到石墨靶的表面上，回收單元，所述回收單元回收在光的照射中所產生的納米碳，以及潤濕單元，所述潤濕單元潤濕納米碳。
根據(jù)本發(fā)明的納米碳制造裝置，由于提供了潤濕納米碳的潤濕單元，所產生的納米碳被潤濕，并可以被沉淀。因此，納米碳可以被限制漂浮，并可以有效地回收。
在本發(fā)明的制造裝置的納米碳中，潤濕單元可以是噴霧(spraying)單元。根據(jù)這種方式，所產生的納米碳必然可以通過霧所潤濕。因此納米碳可以很容易回收。在本發(fā)明中，例如，噴霧單元可以是乙醇霧化裝置。
在本發(fā)明的納米碳制造裝置中，回收單元具有回收室，以及回收管，所述回收管將納米碳引導到回收室中，以及潤濕單元可以在回收室中潤濕納米碳。
根據(jù)這種方式，所產生的納米碳可以有效地引導到回收室中。此外，在所述回收室中所回收的納米碳必然可以被潤濕。因此，納米碳可以沉積在回收室中，并必然可以被回收。
在本發(fā)明的納米碳制造裝置中，回收室的底部表面可以相對所述裝置被安裝的表面傾斜。根據(jù)這種方式，潤濕的納米碳可以更為容易地回收。此外，回收室可以被形成結構以可連接和可拆卸。據(jù)此，由于回收室可以這種方式拆卸，納米碳可以很容易回收。
在本發(fā)明的納米碳制造裝置中，提供了其中石墨靶被安裝在其中的產生室，潤濕單元可以在產生室中潤濕納米碳。根據(jù)這種方式，所產生的納米碳必然可以被潤濕。因此，納米碳在產生室中被限制漂浮，并可以很容易回收。此外，由于納米碳沒有在產生室中浮動，照射到石墨靶上的光的功率密度的模糊(blurring)可以被抑制。因此，具有所需屬性的納米碳可以穩(wěn)定地制造。
在本發(fā)明的制造裝置中，所產生的納米碳被回收的回收設備可以設置在產生室的底部上。當這樣做時，在產生室中潤濕的納米碳可以沉積在回收設備上。因此，納米碳可以有效地回收。回收設備可以具有潤濕單元。
根據(jù)本發(fā)明，提供了一種納米碳制造裝置，包括產生納米碳的產生室；以及回收所產生的納米碳的回收室；其中潤濕所產生的納米碳的潤濕單元設置在所述產生室或者所述回收室中。
根據(jù)本發(fā)明，提供了一種制造納米碳的方法，包括將光照射到石墨靶的表面上的步驟；以及潤濕在所述照射光上所產生的納米碳的步驟。
根據(jù)本發(fā)明的納米碳制造方法，由于包括潤濕所產生的納米碳的步驟，納米碳可以被限制浮動。因此，納米碳可以有效地回收。此外，納米碳必然可以被回收。
在本發(fā)明的納米碳制造方法中，潤濕納米碳的步驟可以包括將液體噴灑到納米碳上的步驟。根據(jù)這種方式，納米碳必然可以被潤濕。因此，納米碳必然可以被回收。
在本發(fā)明的納米碳制造方法中，潤濕納米碳的步驟可以包括將有機溶劑噴灑到納米碳上的步驟。由于納米碳的表面是憎水的，納米碳可以通過噴灑有機溶劑而更為確定地潤濕。
在本發(fā)明的納米碳制造方法中，潤滑納米碳的步驟可以將乙醇或者水溶液噴灑到所述納米碳上。由于乙醇揮發(fā)性好，由于乙醇或者水溶液被噴灑，就可以容易將噴灑液體從所回收的納米碳中移除。在本發(fā)明的納米碳制造方法中，例如，乙醇、甲醇、異丙醇或者水溶液可以被噴灑。
根據(jù)本發(fā)明，提供了一種回收納米碳的方法，包括，在產生納米碳之后，潤濕和回收所述納米碳。根據(jù)與本發(fā)明相關的回收方法，由于所產生的納米碳被潤濕，納米碳可以被限制浮動，以及納米碳可以很容易回收。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，納米碳可以被有效地回收。


本發(fā)明的這些和/或者其它方面和特征將從實施例的下述說明并結合附圖而詳細了解到，其中圖1是根據(jù)本實施例的制造碳納米角的結構的視圖；圖2是圖1的納米碳制造裝置的A-A’方向的橫截面視圖；圖3是根據(jù)一個實施例的碳納米角制造裝置的結構的視圖；圖4是圖3的納米碳制造裝置的方向B-B’中的橫截面視圖；圖5是圖4的噴霧器的噴嘴的結構的視圖；圖6是根據(jù)一個實施例的碳納米角制造裝置的結構的視圖；圖7是根據(jù)一個實施例的碳納米角制造裝置的結構的視圖；圖8是根據(jù)一個實施例的碳納米角制造裝置的結構的視圖；圖9是根據(jù)一個實施例的碳納米角制造裝置的結構的視圖。
具體實施例方式
此后，其中碳納米角組件通過激光燒蝕方法所制造、以及被回收的情況將作為示例進行說明。注意，在所有的視圖中，相同的部件將用相同的參考數(shù)字來表示，以及將不再進行適當?shù)恼f明。
(第一實施例)在本實施例中，用于回收納米碳的室被設置在納米碳制造裝置中，以及用于潤濕納米碳的噴霧裝置被設置在室上用于回收。圖1是本實施例的納米碳制造裝置183的結構的視圖。注意在此說明書中，用于描述制造裝置的圖1和其它視圖是示意圖，并且各結構部件的尺寸不必然對應實際的尺寸比率。
圖1的納米碳制造裝置183具有制造室107、納米碳回收室119、承載器管141、激光源111、ZnSe平凸透鏡131、ZnSe窗口133、旋轉裝置115以及噴霧器181。此外，納米碳制造裝置183具有惰性氣體供給單元127、流量計129、真空泵143和壓力計145。
從激光源111發(fā)出的激光束103在ZnSe平凸透鏡131上聚焦，并通過ZnSe窗口133照射到制造室107中的石墨棒101上。石墨棒101被用作固態(tài)碳簡單襯底，這是激光束103的照射靶。
激光束103被照射到石墨棒101上以具有恒定的照明角度。由于石墨棒101相對中心軸在預定的速度上旋轉，同時保持激光束103的照明角度恒定，激光束103可以在石墨棒101的側表面的周向方向上以恒定的功率密度連續(xù)照射。此外，由于石墨棒101在長度方向上滑動，激光束103可以在石墨棒101的長度的方向上以恒定的功率密度連續(xù)照射。
旋轉裝置115保持石墨棒101，并圍繞中心軸旋轉石墨棒101。石墨棒101可以圍繞中心軸通過旋轉裝置115固定而旋轉。此外，石墨棒101可以被構造以能夠沿著中心軸線的方向上移動所述位置。
制造室107和納米碳回收室119通過承載器管141連接。激光束103從激光源111照射到石墨棒101的側表面上，并且在那時，在羽狀物109的產生的方向上，納米碳回收室119通過承載器管141設置，以及已經(jīng)被產生的碳納米角組件117被回收到納米碳回收室119中。
噴霧器181設置在納米碳回收室119上，并被構造以能夠將液體噴灑到納米碳回收室119之內和壁表面上。這樣，在納米碳回收室119回收的碳納米角組件117可以被潤濕。因此，在納米碳回收室119回收的碳納米角組件117可以有效地沉積在納米碳回收室119的底部上，并可以被回收。
此處，噴霧器181可以是具有霧化單元的霧化裝置。此外，噴霧器181可以被構造這樣噴灑液體被排放以是來自溶劑箱的噴水器(shower)。此外，噴霧器181可以是利用灑水器等的結構的噴霧裝置。在本實施例中，其中噴霧器181是噴霧單元的情況將在此后作為示例進行說明。
圖2是示意顯示了具有噴霧單元的噴霧器181的視圖。注意圖2是圖1的A-A’方向的橫截面視圖。
圖2的噴霧器181具有霧化單元199，以及噴灑液體193容納在霧化單元199之上。納米碳回收室119和噴霧器181通過設置在納米碳回收室119的壁表面的一部分上的通孔197而彼此連接。噴灑液體193作為來自通孔197的霧195噴灑到納米碳回收室119中。
霧化單元199產生高頻振動，諸如超聲振動。此振動通過噴霧器181對噴灑液體193進行。噴灑液體193通過此振動霧化以產生霧195。霧195通過通孔197以進入納米碳回收室119。
作為霧化單元199，可以引用諸如Akizuki Denshi有限公司所制造的USH-400、TECH-JAM有限公司等的超聲振動霧化單元。這樣的霧化單元可以高靈敏地霧化噴灑液體193。此外，具有壓電振動器的超聲振動霧化單元，諸如FDK公司所制造的霧化盤可以被使用。由于這樣的霧化單元是低功率消耗類型，就可以有效地產生霧195。
在納米碳制造裝置183中，噴霧器181設置在納米碳回收室119的側表面上。但是，噴霧器181可以設置在納米碳回收室119的頂部表面或者底部表面上。例如，圖3是與圖1的納米碳制造裝置183的基本結構相同的結構。但是，圖3是顯示了在納米碳回收室119的頂部表面上具有噴霧器181的納米碳制造裝置184。
此外，多個噴霧器181可以分別設置在納米碳回收室119的不同的表面上。這樣，由于納米碳回收室119的各壁表面可以更為確定地潤濕，碳納米角組件117可以確定地回收。
接著，回到圖1，使用納米碳制造裝置183的制造碳納米角組件117的方法將具體地描述。
在納米碳制造裝置183中，高純度石墨、例如圓棒燒結碳、壓縮模制碳等的高純度石墨可以被用作石墨棒101。
此外，例如，諸如高輸出功率CO2氣體激光束的激光束被用作激光束103。激光束103在包括稀有氣體諸如Ar、He的反應惰性氣體的氛圍下，諸如在大于或者等于103Pa至小于或者等于105Pa的壓力的氛圍之下被照射到石墨棒101。此外，優(yōu)選地在制造室107的內部通過在小于或者等于10-2Pa的壓力上預先排空之后形成惰性氣體氛圍。
此外，優(yōu)選地，調節(jié)激光束103的輸出功率、點直徑和照射角度，這樣在石墨棒101的側表面上的激光束103的功率密度幾乎保持恒定，例如大于或者等于5kw/cm2至小于或者等于25kw/cm2。
激光束103的輸出功率被設置為諸如大于或者等于1kW至小于或者等于50kW。此外，激光束103的脈沖寬度被設置大于或者等于0.5sec，優(yōu)選地大于或者等于0.75sec。這使得照射到石墨棒101的表面上的激光束103的聚集能量被充分保證。因此，碳納米角組件117可以被有效地制造。此外，激光束103的脈沖寬度被設置例如，小于或者等于1.5sec，優(yōu)選地小于或者等于1.25sec。根據(jù)這種方式，由于石墨棒101的表面被過分加熱，使得表面的能量密度變化，碳納米角組件的產量可以被抑制降低。更為優(yōu)選地，激光束103的脈沖持續(xù)時間大于或者等于0.75sec以及小于或者等于1秒。根據(jù)其，碳納米角組件117的生產速率和產量可以被改良。
此外，在激光束103的照射上的暫停持續(xù)時間可以被設置大于或者等于0.1sec，優(yōu)選地大于或者等于0.25sec。據(jù)此，這更為安全地抑制石墨棒101的表面被過分加熱。
激光束103被照射以具有恒定的照射角度。由于石墨棒101相對中心軸以預定的速度旋轉同時保持激光束103的照明角度恒定，激光束103可以在石墨棒101的側表面的周向方向上在恒定的功率密度上連續(xù)照射。此外，由于石墨棒101在長度方向上滑動，激光束103可以在石墨棒101的長度方向上在恒定的功率密度上連續(xù)照射。
優(yōu)選地，在那時的照射角度大于或者等于30度并小于或者等于60度。注意，在此說明書中，照射角度指的是相對在激光束103被照射到其上的位置上的石墨靶的表面的垂直線和激光束103之間所形成的角度。當使用圓柱形石墨靶時，照明角度被形成為形成在連接被照射位置和圓心的線段以及垂直于石墨棒101的長度方向的橫截面中的垂直表面之間所形成的角度。
由于照射角度被形成大于或者等于30度，將被照射的激光束103的反射，即，返回光的產生可以被防止。此外，將被產生的羽狀物109被防止直接通過ZnSe窗口133撞擊ZnSe平凹透鏡131。因此，ZnSe平凹透鏡131受到保護，這對于防止碳納米角組件117粘附到ZnSe窗口133是有效的。此外，由于在小于或者等于60度的角度上照射的激光束103，限制了無定形碳的2產生，以及產品之中的碳納米角組件117的比率，即，碳納米角組件117的產量可以被提高。此外，特別優(yōu)選地，照射角度是45度±5度。由于激光束103在大約45度角度上照射，產品中的碳納米角組件117的比率可以進一步提高。
此外，在照射時，至石墨棒101的側表面上的激光束103的點直徑可以諸如大于或者等于0.5mm并且小于或者等于5mm。
此外，優(yōu)選地，設置激光束103的點在大于或者等于0.01mm/sec的速率(線性速度)至小于或者等于55mm/sec的速率上移動。例如，在激光束103被照射到具有100mm的直徑的石墨靶的表面，具有100mm直徑的石墨棒101以恒定的速度通過旋轉裝置115在恒定速度上旋轉，如果旋轉數(shù)目是諸如大于或者等于0.01rpm和小于或者等于10rpm，上述的線性速度(周向速度)可以被實現(xiàn)。
注意，對于石墨棒101的旋轉方向沒有特別限制。但是，優(yōu)選地，石墨棒101在其中被照射位置從激光束103離開的方向上，即從激光束103朝向承載器管141的方向上(如圖1中箭頭所示)將被旋轉。據(jù)此，碳納米角組件117可以更為確定地回收。
回收到納米碳回收室119中的煙灰狀物質主要包括碳納米角組件117，并回收作為諸如其中包括大于或者等于90wt％的碳納米角組件117的材料。
注意，由于羽狀物109在激光束103被照射到其上的位置垂直于石墨棒101的切線的方向上產生，假設承載器管141設置在此方向上，碳蒸汽可以有效地引導到納米碳回收室119中，以及碳納米角組件117可以被回收。
在制造碳納米角組件117時，霧195預先從設置在納米碳回收室119上的噴霧器181噴灑。據(jù)此，在納米碳回收室119中回收的碳納米角組件117通過被噴灑的液體潤濕。因此，碳納米角組件117被限制在納米碳回收室119中噴灑，以及碳納米角組件117可以有效地沉積在納米碳回收室119的底部上。此外，碳納米角組件117可以被限制粘附到納米碳回收室119的壁表面上。因此，碳納米角組件117的回收速率可以提高。
優(yōu)選地，霧195將從噴霧器181噴灑以到達并潤濕納米碳回收室119的所有壁表面。這樣，碳納米角組件117可以更為確定地沉積在納米碳回收室119的底部上。
優(yōu)選地，霧195是從噴霧器181噴灑的相對憎水有機溶劑。由于碳納米角組件117的表面相對憎水，由于此原因碳納米角組件117可以確定地被潤濕。此外，優(yōu)選地使用揮發(fā)性溶劑作為霧195。據(jù)此，碳納米角組件117可以在回收這些之后很容易干燥。
相應地，例如，諸如乙醇、甲醇、異丙醇等的酒精、諸如苯、甲苯等的芳烴、鹵代烴、乙醚、酰胺等可以被噴灑。這些溶劑可以單獨被噴灑，并可以被使用這樣兩種或者更多類型被混合。此外，對這些溶劑和水形成混合溶劑。
從噴霧器181噴灑液體可以在預定的間距上間斷執(zhí)行，并可以連續(xù)地執(zhí)行。液體的噴灑量和噴灑速度可以根據(jù)納米碳回收室119等的尺寸適當設置。
在本實施例中，例如，在如圖1的納米碳制造裝置183中，在執(zhí)行碳納米角組件的制造時，假設石墨棒101是Φ100mm×250mm的棒形燒結碳，并且在激光在250ms靜止時間(pause)上激光振蕩1s的條件下，由于CO2激光照射到石墨棒101的側表面上，由于凈化的煙灰狀材料可以通過從噴霧器181噴灑乙醇而沉積在納米碳回收室119的底部上，凈化的碳納米角組件的回收速率可以提高。
(第二實施例)在第一實施例所描述的納米碳制造裝置183或者納米碳制造裝置184中，噴霧器181的結構可以如下所述。此處，圖3的納米碳制造裝置184的情況將作為示例說明。
圖4是圖3的B-B’方向上的納米碳制造裝置184的橫截面視圖，以及是用于說明噴霧器183的結構的說明視圖。在圖4中，噴霧器181具有箱201、供給管203和噴嘴205。噴灑液體193容納在箱201中。此外，供給管203連接箱201和噴嘴205。用于調整來自箱201的噴灑液體193的供給的閥209被設置在供給管203上。噴嘴205被形成為具有多個孔207的噴壺形狀。圖5是顯示了噴嘴205的結構的透視圖。
在制造碳納米角組件117時，閥209打開，以及噴灑液體193從噴嘴205噴灑到納米碳回收室119中。由于在霧195通過孔207時噴灑液體193被噴灑為浴(shower)，整個納米碳回收室119可以適當?shù)貪櫇?。因此，碳納米角組件117可以確定地沉淀，并沉積在納米碳回收室119的底部上。
注意噴嘴205的結構不限于上述方面，并可以根據(jù)納米碳回收室119的尺寸和所產生的納米碳量適當選擇。例如，可以使用壓力類型噴嘴。此外，噴灑液體193的供給可以通過使用泵等執(zhí)行。據(jù)此，噴灑液體193可以更為確定地噴灑到納米碳回收室119的整個內部上。
(第三實施例)在本實施例中，回收室的底部的結構與如第一或者第二實施例所描述的納米碳制造裝置不同。此后，如在第一實施例所描述的納米碳制造裝置184將作為示例進行說明。圖6是顯示了與本實施例相關的納米碳制造裝置185的視圖。
在納米碳制造裝置185中，納米碳回收室187的底部表面是傾斜的。由此，通過來自噴霧器181噴灑的液體潤濕的碳納米角組件117在納米碳回收室187的底部上在下方向上移動。因此，碳納米角組件117可以在納米碳回收室187的底部上的下區(qū)域上收集。因此，碳納米角組件117可以更為容易地回收。
(第四實施例)本實施例涉及一種納米碳制造裝置，還包括用于回收的盒，所述盒相對在第一或者第二實施例中所描述的納米碳制造裝置183可連接和可拆卸。此后，在第一實施例中所描述的納米碳制造裝置184的情況將作為示例進行說明。圖7是顯示了與本實施例相關的納米碳制造裝置189的視圖。
在納米碳制造裝置189中，提供了與納米碳回收室119的底部連通、并可連接和可卸載、用于回收的盒191。由于用于回收的盒191的底部被安置在低于納米碳制造裝置189的底部的位置上，沉積在納米碳回收室119的底部上的碳納米角組件117被引導到用于回收的盒191。假設用于回收的盒191被拆卸并且其內容被干燥，被干燥的碳納米角組件117可以更方便回收。
(第五實施例)與本實施例相關的一種納米碳制造裝置顯示在圖8中。在此裝置中，下回收室160被設置在制造室107的下部部分上。此外，用于將液體噴灑到制造室107的噴霧器181被進一步提供。噴霧器181可以被形成結構，諸如以第一或者第二實施例所描述的結構形成。
由于所設置的下回收室160，碳納米角組件117在上部部分上被回收到納米碳回收室119中，另一方面，沒有回收到所述裝置的上部部分中的碳蒸汽由于重力從承載器管141落下，并回收到下回收室160中。根據(jù)此結構，角長度較短的碳納米角以及角長度較長的碳納米角被分別地收集到納米碳回收室119、下回收室160中。根據(jù)本實施例，多個類型的碳納米角可以單獨回收。
此外，也通過將液體噴灑到制造室107中，沒有通過納米碳回收室119所回收并暴露在制造室107中的碳納米角組件117被確定地潤濕，并且可以引導到制造室107的底部。因此，碳納米角組件117可以有效地回收到下回收室160中。
注意，在本實施例中，噴霧器181被設置在制造室107中。但是，噴霧器181可以設置在下回收室160上。據(jù)此，碳納米角組件117可以更為確定地沉積在下回收室160的底部上，以及碳納米角組件117可以被限制噴灑。
(第六實施例)在如上所示的實施例的納米碳制造裝置中，用于積蓄并回收沉積在納米碳回收室119的底部上的碳納米角組件117的刮擦單元211可以被設置。此后，其中本實施例被應用到在第四實施例中所描述的納米碳制造裝置189的情況下將作為示例說明。圖9是顯示了與本實施例相關的納米碳制造裝置213的結構的視圖。
納米碳制造裝置213在納米碳回收室119的底部上具有板狀刮擦單元211。對于刮擦單元211的結構沒有限制，除了這一點碳納米角組件117必須通過將納米碳回收室119的底部表面如同槳葉那樣滑動而被引導到用于回收的盒191。
由于所設置的刮擦單元211，沉積在納米碳回收室119的底部上的碳納米角組件117可以更為確定地回收。注意刮擦單元211可以設置在制造室107的底部上。此外，在這些室中上下滑動的刮擦單元211可以進一步根據(jù)需要設置。據(jù)此，潤濕的碳納米角組件117可以更為確定地收集在室的底部上。
本發(fā)明基于實施例在上面進行了說明。這些實施例已經(jīng)被典型化，并且普通技術人員可以理解在不背離本發(fā)明的精神的情況下可以對本發(fā)明進行修改，其范圍落入本發(fā)明的范圍之內。
例如，在上述的實施例中，用于積聚所沉積的碳納米角組件117的刮擦單元可以進一步設置在制造室107的底部上。
此外，在上述的實施例中，其中石墨棒被使用的示例被進行了說明。但是，石墨靶的形狀不限于管型，并可以以片形式、棒形式等來形成。
此外，形成碳納米角組件117的結構的碳納米角的形狀、直徑尺寸、產度和尖端形狀，以及這些碳分子以及碳納米角之中的空間等可以根據(jù)用于照射激光束103等的條件不同地控制。
權利要求
1.一種納米碳制造裝置，包括產生納米碳的產生室；以及回收所產生的納米碳的回收室；其中潤濕所產生的納米碳的潤濕單元設置在所述產生室或者所述回收室中。
2.一種納米碳制造裝置，包括光源，所述光源將光照射到石墨靶的表面上；回收單元，所述回收單元回收在所述光的照射中所產生的納米碳；以及潤濕單元，所述潤濕單元潤濕所述納米碳。
3.根據(jù)權利要求2所述的納米碳制造裝置，其中，所述回收單元具有回收室，以及回收管，所述回收管將所述納米碳引導到所述回收室中，以及所述潤濕單元在所述回收室中潤濕所述納米碳。
4.根據(jù)權利要求2或者3所述的納米碳制造裝置，其中，還包括其中所述石墨靶被安裝的產生室，其中所述潤濕單元潤濕所述產生室中的所述納米碳。
5.根據(jù)權利要求1-4所述的納米碳制造裝置，其中，所述潤濕單元是噴霧單元。
6.一種制造納米碳的方法，包括將光照射到石墨靶的表面上；以及潤濕在所述照射光上所產生的納米碳。
7.根據(jù)權利要求6所述的制造納米碳的方法，其中，所述潤濕納米碳包括將液體噴灑到所述納米碳上。
8.根據(jù)權利要求6或者7所述的制造納米碳的方法，其中，其中所述潤濕納米碳將乙醇或者水溶液噴灑到所述納米碳上。
9.一種回收納米碳的方法，包括，在產生納米碳之后，潤濕和回收所述納米碳。
全文摘要
一種用于制造納米碳(183)的裝置，包括噴霧器(181)，安置在納米碳收集室(119)的側表面上。霧(195)從噴霧器(181)噴射到納米碳收集室(119)中并遍及納米碳收集室(119)。
文檔編號C01B31/02GK1826287SQ200480021200
公開日2006年8月30日 申請日期2004年8月5日 優(yōu)先權日2003年8月8日
發(fā)明者莇丈史, 糟屋大介, 吉武務, 久保佳實, 飯島澄男, 湯田坂雅子 申請人:日本電氣株式會社