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      一種硅酸鉍微晶體的制備方法

      文檔序號(hào):3437525閱讀:151來源:國知局
      專利名稱:一種硅酸鉍微晶體的制備方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種含鉍的硅酸鹽晶體的制備方法,特別涉及一種硅酸鉍(Bi2Si05) 微晶體的制備方法。
      背景技術(shù)
      尋找新功能晶體是國際晶體材料科學(xué)的前沿,而新功能晶體的預(yù)測、原料制備、析 晶行為、晶體生長等方面的研究是新功能晶體研究的基礎(chǔ)。近年來發(fā)現(xiàn)81203-5102系統(tǒng)是很 有進(jìn)一步研究價(jià)值的系統(tǒng)。由于元素Si和Ge在化學(xué)元素周期表中屬同一主族,性質(zhì)相似, 因此Bi203-Si02系統(tǒng)和Bi203-Ge02系統(tǒng)在結(jié)構(gòu)和性能上有學(xué)多相似之處。目前對(duì)Bi203_Ge02 系統(tǒng)的研究已經(jīng)較為成熟,而對(duì)81203-5102系統(tǒng)的研究顯得不足(費(fèi)一汀,無機(jī)材料學(xué)報(bào), 1997,12 :469 476)。在該系統(tǒng)中發(fā)現(xiàn)的化合物晶相有6 : 1、1 : l及2 : 3等相,已查 明Bi12Si02。晶體具有電光、光電導(dǎo)、光折變、壓電、聲光、旋光等性能,Bi4Si3012晶體具有電 光、閃爍等性能。但是,除了對(duì)B^Si(^。組成附近的相關(guān)系及其晶體的生長、性質(zhì)、應(yīng)用等方 面有較詳細(xì)的研究外,該系統(tǒng)大部分區(qū)域基本上缺乏細(xì)致而深入地研究,一個(gè)原因在于該 系統(tǒng)組成中其它晶體難于合成,且合成過程中易于產(chǎn)生雜相,這對(duì)所制備的單晶性能影響 較大,因此制備高純度的晶體原料是制備高品質(zhì)透明單晶體的基礎(chǔ)。 硅酸鉍(Bi2Si05)屬于正交晶系,Cmc2i空間群,點(diǎn)陣常數(shù)a = 15. 19A,b = 5. 468A, c = 5. 314A, Z = 4(費(fèi)一汀,無機(jī)材料學(xué)報(bào),1997,12 :469 476),是由[Bi202]2+層分隔開 的孤立的[Si03]2-鏈所構(gòu)成,即Bi4
      [Si206] 。 Bi2Si05單晶體主要具有介電、熱電以及非 線性光學(xué)等性質(zhì),它的非對(duì)稱的晶體結(jié)構(gòu)使其有可能具有鐵電性質(zhì),在光電材料方面有潛 在的用途。 Bi2Si05的合成方法主要有固相合成法和溶膠凝膠法,最早合成出單一Bi^i05 晶相的是J. Ketter(J. Ketter, V. Kramer, Freiburg, Neues Jahrbuch furMineralogie Monatshefte, 1986, 1 :13 18),將Bi203和Si02在1000 1040。C熔融,冷卻中淬火,在 400 52(TC結(jié)晶一個(gè)星期制得呈淺黃色的Bi2Si05晶相。該方法制備所需時(shí)間太長,不利 于大生產(chǎn),且原料配比不是生成Bi^i05晶相的配比,所產(chǎn)生晶相中存在大量的玻璃相,應(yīng) 用受到限制。費(fèi)一汀等(費(fèi)一汀,硅酸鹽學(xué)報(bào),1999,27 :230 236)對(duì)Bi203_Si02系統(tǒng)進(jìn)行 研究時(shí)發(fā)現(xiàn),亞穩(wěn)定化合物僅存在于亞穩(wěn)相平衡圖中。當(dāng)Bi203-Si02系統(tǒng)從熔體(1012 1013°C )開始冷卻,Si02的摩爾分?jǐn)?shù)在30 50X時(shí),析出的是Bi2Si05相和Bi203的混合 晶相;Si02的摩爾分?jǐn)?shù)在50%附近時(shí),在845t:析出單一的Bi2Si05相;若進(jìn)一步提高Si02 的摩爾分?jǐn)?shù)(Si02超過50X)時(shí),則析出了Bi2Si0s以外還出現(xiàn)了Si02,所得硅鉍化合物 都不是純凈的Bi^i05,而且該方法析晶溫度較高。柏朝暉等人(柏朝暉,巴學(xué)巍,賈茹,無 機(jī)化學(xué)學(xué)報(bào),2006,22 :1327 1329)利用溶膠凝膠法制備Bi4Si3012納米粉體的過程中,在 550 65(TC時(shí)得到了主晶相為Bi2Si05和Bi203的混合晶相,隨著反應(yīng)溫度的升高,Bi2Si05 和81203不斷反應(yīng),在7501:時(shí)生成了主晶相為立方晶相的目標(biāo)產(chǎn)物814513012。王燕等(王 燕,王秀峰,于成龍.無機(jī)鹽工業(yè),2007,39:38 40;王燕,王秀峰,于成龍.硅酸鹽通報(bào),2007,26 :378 381)用Bi203和Si02為原料,按照物質(zhì)的量比n(Bi203) : n(Si02)=l : 1 配制約60g的試樣。試驗(yàn)先倒入乙醇中濕混1. 5h,紅外烘干后再研磨干混0. 5h以確保試 樣均勻。75(TC焙燒lh,此時(shí)B^Si02。和Bi2Si05的XRD衍射峰較強(qiáng),保溫時(shí)間加長,Bi2Si05 的XRD衍射峰減弱,Bi^i(^。的衍射峰進(jìn)一步加強(qiáng)。另外,文中還給出了試驗(yàn)的差熱分析 曲線,從差熱分析曲線中可以看出,試樣在579. 6°C , 744. 3°C , 829. 3°C , 879. 2。C均有放熱峰 出現(xiàn)。該組分在升溫過程中產(chǎn)生晶體的種類較多,制備單一晶體制備工藝難以控制。Je皿i 等通過ALD (atomiclayer deposition)方法(Jenni Harjuoja, Samuli Vayrynen, Matti Putkonen. Journal of Crystal Growth, 2006, 286 :376 383),在N2氛圍下在Mg0緩沖器 上Si的(100)的Bi-Si-0進(jìn)行80(TC退火處理時(shí),獲得了 Bi2Si05薄膜。以上硅酸鉍晶體 的合成均采用二氧化硅為原料,合成方法很復(fù)雜,而且所制備的晶體中雜相難以消除。
      國內(nèi)外與硅酸鉍相關(guān)的專利很少,專利CN200510046593. 6公開了一種含鉬、鐵、
      鎳、釤等多種活性組分的金屬氧化物和以二氧化硅、氧化鋁或其混合物為載體所組成的催 化劑,可用于丙稀、異丁烯氨氧化制備較高選擇行丙稀腈等。CN10038071C提供了一種制備 高純度硅酸鉍納米粉體,首先將鉍鹽溶解在有機(jī)溶劑中,形成鉍鹽濃度為0. 5 5M的含鉍 溶液,在按摩爾比Bi : Si = 12 : l將有機(jī)硅化合物加入到含鉍溶液中,充分?jǐn)嚢瑁纬删?勻的溶液,對(duì)溶膠采用常壓蒸發(fā)或負(fù)壓蒸發(fā),得到干燥的前軀體粉末,最后在有氧的環(huán)境中 對(duì)前軀體粉末進(jìn)行燒結(jié),在較低的溫度和較短的時(shí)間內(nèi)制備處純度和結(jié)晶度好的硅酸鉍納 米粉體。CN101229510A公開了一種含鉍的硅酸鹽的合成和應(yīng)用,首先將鉍源溶于酸性溶液 中得到含鉍溶液,按照硅源中的硅原子與鉍源中的鉍原子的摩爾比為25 : 1 0. 5 : l,將 硅源與鉍源混合,根據(jù)需要加入一定量的載體,用堿性物質(zhì)調(diào)節(jié)pH值至5 12,攪拌、陳化、 洗滌、烘干、研磨后進(jìn)行焙燒,可得粉狀硅酸鉍或含硅酸鉍的粉狀催化劑。該方法屬于使用 溶膠凝膠法制備硅酸鉍粉體,所用原料種類較多,工藝過程復(fù)雜,不利于大生產(chǎn)。另外,文獻(xiàn) (Journalof Materials Science Letters 1999, 18 :1871 1874)公開了一種采用機(jī)械合 金化制備硅酸鉍納米粉體的方法。該方法是以81203和5102粉末(晶體)為原料,經(jīng)高能 球磨直接制備硅酸鉍納米粉體,其特點(diǎn)是利用兩種粉體在反復(fù)地碰撞和粉碎過程中發(fā)生的 機(jī)械合金化反應(yīng)合成目標(biāo)產(chǎn)物,因而不需要額外的高溫?zé)崽幚?,即可得到硅酸鉍納米粉體。 因而可以避免上述固相反應(yīng)燒結(jié)法的缺點(diǎn)。但機(jī)械合金化方法所需時(shí)間較長,生產(chǎn)效率較 低,不適于作為一種實(shí)用的批量生產(chǎn)硅酸鉍納米粉體的方法。而且,由于在長時(shí)間的高能球 磨過程中不可避免地會(huì)從研磨體系(包括研磨容器和研磨球體)中引入雜質(zhì)而產(chǎn)生污染, 因而很難得到高純度的硅酸鉍納米粉體。這對(duì)于硅酸鉍在光電子和光催化領(lǐng)域的應(yīng)用是非 常不利的。 綜上所述,硅酸鉍(Bi2Si05)是一種性能優(yōu)越,應(yīng)用廣泛的物質(zhì)。目前公開發(fā)表的 文獻(xiàn)中所用原料為分析純,化學(xué)純,或光譜純等純度的二氧化硅及三氧化二鉍。其中三氧化 而鉍純度較高,一般可以達(dá)到4 5N,且價(jià)格相對(duì)較低,而所用二氧化硅純度較低,一般可 以達(dá)到2 4N,且純度越高,價(jià)格越高。另外,以上文獻(xiàn)研究發(fā)現(xiàn),原料中的雜質(zhì)對(duì)所制備 的晶體性能影響較大,高純的原料有利于制備出性能優(yōu)越的硅酸鉍單晶及高性能的催化材 料。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),提供了一種以非晶態(tài)的石英玻璃粉 為原料制備硅酸鉍微晶體的方法。按照本發(fā)明制備方法制得的硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體純 度高,合成溫度低,原料價(jià)格低廉,來源豐富,制備工藝簡單。
      為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是
      第一步硅酸鉍玻璃的制備 首先,將石英玻璃清洗烘干后,放入球磨罐中球磨至300目,制成石英玻璃粉;然
      后按照摩爾比81203 : sio2 = i : i將三氧化二鉍粉體和石英玻璃粉混合放入瑪瑙乳體球
      磨罐中球磨30 60min得配合料; 其次,將配合料加入事先放入馬弗爐中的帶蓋高純氧化鋁坩堝中,第一次加料溫 度為950 IOO(TC,保溫10 30min后再加入剩余的配合料,以20 30°C /分鐘升溫至 1080 IIO(TC,坩堝蓋上蓋子保溫1 6小時(shí),保溫過程中每隔1小時(shí)采用不銹鋼棍對(duì)熔 融的玻璃液進(jìn)行攪拌lmin ;保溫結(jié)束后將熔融的玻璃液倒入轉(zhuǎn)動(dòng)著地采用水冷卻的鐵輥 中間,將玻璃液在冷卻過程中制成厚度為1 5mm的玻璃片; 最后,將玻璃片放入350 40(TC馬弗爐中保溫1 4h后,隨爐冷卻,即得到硅酸 鉍玻璃; 第二步硅酸鉍微(Bi2Si05)晶體的制備將馬弗爐以10 20°C /分鐘升溫至65(TC,保溫30min,然后將裝有硅酸鉍玻璃的 氧化鋁坩堝放入馬弗爐中,保溫1 2h ;再以20 30°C /分鐘升溫至670 68(TC,保溫 4 20h后,迅速將氧化鋁坩堝取出放入室溫中,冷卻后即得硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體。
      本發(fā)明的石英玻璃中Si(^含量為4 6N(99. 99% 99. 9999% )。三氧化二鉍的 純度為99. 99%。 本發(fā)明以非晶態(tài)石英玻璃粉制備硅酸鉍(Bi2Si05)晶體,由于石英玻璃熔化溫度 較高(大于1700°C )避免了在低溫下過早即和三氧化二鉍反應(yīng),減少雜相的生成。所制備 的硅酸鉍微(Bi2Si05)晶體純度高,雜相極少,且原料價(jià)格低廉,來源豐富,合成溫度較低, 制備工藝簡單,有利于工業(yè)化生產(chǎn)。所制備的硅酸鉍晶體可作為制備高品質(zhì)透明硅酸鉍單 晶的優(yōu)質(zhì)原料及高性能的催化材料。


      圖1是實(shí)施例1制備的硅酸鉍玻璃的差熱及熱失重曲線,其中橫坐標(biāo)為溫度 (°C ),縱坐標(biāo)為熱流率(mW/mg)及重量變化百分?jǐn)?shù)(% )。本發(fā)明所制備的硅酸鉍(Bi2Si05) 微晶體是在第二個(gè)析晶峰下制備而成,而在其它兩個(gè)峰值溫度下保溫均不能得到較純硅酸 鉍晶體。 圖2是實(shí)施例1制備的硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體在X射線衍射儀檢測的衍射照片, 其中橫坐標(biāo)為衍射角2 9/(。),縱坐標(biāo)為衍射強(qiáng)度。 圖3(a)、(b)分別是實(shí)施例1、2制備的硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體在掃描電子顯微鏡 下的照片。
      具體實(shí)施例方式
      實(shí)施例1, 第一步硅酸鉍玻璃的制備 首先,將純度為4 6N的石英玻璃清洗烘干后,放入球磨罐中球磨至300目,制成 石英玻璃粉;然后按照摩爾比81203 : Si02 = l : l將三氧化二鉍粉體(含量為99.99%) 和石英玻璃粉混合放入瑪瑙乳體球磨罐中球磨30min得配合料;其次,將配合料加入事先 放入馬弗爐中的帶蓋高純氧化鋁坩堝中,第一次加料溫度為950°C ,保溫30min后再加入剩 余的配合料,以20°C /分鐘升溫至108(TC,坩堝蓋上蓋子保溫1. 5小時(shí),保溫過程中每隔 1小時(shí)采用不銹鋼棍對(duì)熔融的玻璃液進(jìn)行攪拌lmin ;保溫結(jié)束后將熔融的玻璃液倒入轉(zhuǎn)動(dòng) 著地采用水冷卻的鐵輥中間,將玻璃液在冷卻過程中制成厚度為1 5mm的玻璃片;最后, 將玻璃片放入35(TC馬弗爐中保溫lh后,隨爐冷卻,即得到硅酸鉍玻璃;
      參見附圖l,是所制備硅酸鉍玻璃的差熱及熱失重曲線,其中橫坐標(biāo)為溫度(°C ), 縱坐標(biāo)為熱流率(mW/mg)及重量變化百分?jǐn)?shù)(% ),其中,本發(fā)明所制備的硅酸鉍(Bi2Si05) 微晶體是在第二個(gè)析晶峰下制備而成,而在其它兩個(gè)峰值溫度下保溫均不能得到較純硅酸 鉍晶體。 第二步硅酸鉍微(Bi2Si05)晶體的制備 將馬弗爐以l(TC /分鐘升溫至650°C ,保溫30min,然后將裝有硅酸鉍玻璃的氧化 鋁坩堝放入馬弗爐中,保溫lh ;再以20°C /分鐘升溫至67(TC,保溫20h后,迅速將氧化鋁 坩堝取出放入室溫中,冷卻后即得硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體。 參見附圖2,可以看出在所制備的硅酸鉍晶體為硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體。附
      圖3(a)為所制備硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體的SEM照片,從圖中可以看出所制備的硅酸鉍
      (Bi2Si05)微晶體為2微米左右的柱狀晶體。 實(shí)施例2, 第一步硅酸鉍玻璃的制備 首先,將純度為4 6N的石英玻璃清洗烘干后,放入球磨罐中球磨至300目,制成 石英玻璃粉;然后按照摩爾比81203 : Si02 = l : l將三氧化二鉍粉體(含量為99.99%) 和石英玻璃粉混合放入瑪瑙乳體球磨罐中球磨50min得配合料;其次,將配合料加入事先 放入馬弗爐中的帶蓋高純氧化鋁坩堝中,第一次加料溫度為960°C ,保溫25min后再加入剩 余的配合料,以22°C /分鐘升溫至109(TC,坩堝蓋上蓋子保溫1小時(shí)后采用不銹鋼棍對(duì)熔 融的玻璃液進(jìn)行攪拌lmin后將玻璃液倒入轉(zhuǎn)動(dòng)著地采用水冷卻的鐵輥中間,將玻璃液在 冷卻過程中制成厚度為1 5mm的玻璃片;最后,將玻璃片放入35(TC馬弗爐中保溫4h后, 隨爐冷卻,即得到硅酸鉍玻璃;
      第二步硅酸鉍微(Bi2Si05)晶體的制備 將馬弗爐以15°C /分鐘升溫至65(TC,保溫30min,然后將裝有硅酸鉍玻璃的氧化 鋁坩堝放入馬弗爐中,保溫2h ;再以25°C /分鐘升溫至675t:,保溫12h后,迅速將氧化鋁 坩堝取出放入室溫中,冷卻后即得硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體。 附圖3(b)為所制備硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體的SEM照片,從圖中可以看出所制備 的硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體為2微米左右的柱狀晶體。
      實(shí)施例3,
      第一步硅酸鉍玻璃的制備 首先,將純度為4 6N的石英玻璃清洗烘干后,放入球磨罐中球磨至300目,制成 石英玻璃粉;然后按照摩爾比81203 : Si02 = l : l將三氧化二鉍粉體(含量為99.99%) 和石英玻璃粉混合放入瑪瑙乳體球磨罐中球磨60min得配合料;其次,將配合料加入事先 放入馬弗爐中的帶蓋高純氧化鋁坩堝中,第一次加料溫度為970°C ,保溫20min后再加入剩 余的配合料,以30°C /分鐘升溫至IIO(TC,坩堝蓋上蓋子保溫3小時(shí),保溫過程中每隔1小 時(shí)采用不銹鋼棍對(duì)熔融的玻璃液進(jìn)行攪拌lmin ;保溫結(jié)束后將熔融的玻璃液倒入轉(zhuǎn)動(dòng)著 地采用水冷卻的鐵輥中間,將玻璃液在冷卻過程中制成厚度為1 5mm的玻璃片;最后,將 玻璃片放入38(TC馬弗爐中保溫2h后,隨爐冷卻,即得到硅酸鉍玻璃;
      第二步硅酸鉍微(Bi2Si05)晶體的制備 將馬弗爐以12°C /分鐘升溫至65(TC,保溫30min,然后將裝有硅酸鉍玻璃的氧化
      鋁坩堝放入馬弗爐中,保溫1. 5h ;再以30°C /分鐘升溫至68(TC,保溫4h后,迅速將氧化鋁
      坩堝取出放入室溫中,冷卻后即得硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體。 實(shí)施例4, 第一步硅酸鉍玻璃的制備 首先,將純度為4 6N的石英玻璃清洗烘干后,放入球磨罐中球磨至300目,制成 石英玻璃粉;然后按照摩爾比81203 : Si02 = l : l將三氧化二鉍粉體(含量為99.99%) 和石英玻璃粉混合放入瑪瑙乳體球磨罐中球磨40min得配合料;其次,將配合料加入事先 放入馬弗爐中的帶蓋高純氧化鋁坩堝中,第一次加料溫度為IOO(TC,保溫10min后再加入 剩余的配合料,以25°C /分鐘升溫至1085t:,坩堝蓋上蓋子保溫2小時(shí),保溫過程中每隔 1小時(shí)采用不銹鋼棍對(duì)熔融的玻璃液進(jìn)行攪拌lmin ;保溫結(jié)束后將熔融的玻璃液倒入轉(zhuǎn)動(dòng) 著地采用水冷卻的鐵輥中間,將玻璃液在冷卻過程中制成厚度為1 5mm的玻璃片;最后, 將玻璃片放入40(TC馬弗爐中保溫lh后,隨爐冷卻,即得到硅酸鉍玻璃;
      第二步硅酸鉍微(Bi2Si05)晶體的制備 將馬弗爐以18°C /分鐘升溫至650°C ,保溫30min,然后將裝有硅酸鉍玻璃的氧化
      鋁坩堝放入馬弗爐中,保溫lh ;再以22°C /分鐘升溫至672t:,保溫16h后,迅速將氧化鋁
      坩堝取出放入室溫中,冷卻后即得硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體。 實(shí)施例5, 第一步硅酸鉍玻璃的制備 首先,將純度為4 6N的石英玻璃清洗烘干后,放入球磨罐中球磨至300目,制成 石英玻璃粉;然后按照摩爾比81203 : Si02 = l : l將三氧化二鉍粉體(含量為99.99%) 和石英玻璃粉混合放入瑪瑙乳體球磨罐中球磨35min得配合料;其次,將配合料加入事先 放入馬弗爐中的帶蓋高純氧化鋁坩堝中,第一次加料溫度為98(TC,保溫15min后再加入剩 余的配合料,以28°C /分鐘升溫至1095t:,坩堝蓋上蓋子保溫6小時(shí),保溫過程中每隔1小 時(shí)采用不銹鋼棍對(duì)熔融的玻璃液進(jìn)行攪拌lmin ;保溫結(jié)束后將熔融的玻璃液倒入轉(zhuǎn)動(dòng)著 地采用水冷卻的鐵輥中間,將玻璃液在冷卻過程中制成厚度為1 5mm的玻璃片;最后,將 玻璃片放入36(TC馬弗爐中保溫3h后,隨爐冷卻,即得到硅酸鉍玻璃;
      第二步硅酸鉍微(Bi2Si05)晶體的制備 將馬弗爐以20°C /分鐘升溫至650°C ,保溫30min,然后將裝有硅酸鉍玻璃的氧化鋁坩堝放入馬弗爐中,保溫1. 5h ;再以27°C /分鐘升溫至677t:,保溫8h后,迅速將氧化鋁
      坩堝取出放入室溫中,冷卻后即得硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體。 實(shí)施例6, 第一步硅酸鉍玻璃的制備 首先,將純度為4 6N的石英玻璃清洗烘干后,放入球磨罐中球磨至300目,制成 石英玻璃粉;然后按照摩爾比81203 : Si02 = l : l將三氧化二鉍粉體(含量為99.99%) 和石英玻璃粉混合放入瑪瑙乳體球磨罐中球磨45min得配合料;其次,將配合料加入事先 放入馬弗爐中的帶蓋高純氧化鋁坩堝中,第一次加料溫度為99(TC,保溫12min后再加入剩 余的配合料,以26°C /分鐘升溫至108『C,坩堝蓋上蓋子保溫5小時(shí),保溫過程中每隔1小 時(shí)采用不銹鋼棍對(duì)熔融的玻璃液進(jìn)行攪拌lmin ;保溫結(jié)束后將熔融的玻璃液倒入轉(zhuǎn)動(dòng)著 地采用水冷卻的鐵輥中間,將玻璃液在冷卻過程中制成厚度為1 5mm的玻璃片;最后,將 玻璃片放入39(TC馬弗爐中保溫1. 5h后,隨爐冷卻,即得到硅酸鉍玻璃;
      第二步硅酸鉍微(Bi2Si05)晶體的制備 將馬弗爐以14°C /分鐘升溫至650°C ,保溫30min,然后將裝有硅酸鉍玻璃的氧化 鋁坩堝放入馬弗爐中,保溫2h ;再以29°C /分鐘升溫至673t:,保溫10h后,迅速將氧化鋁 坩堝取出放入室溫中,冷卻后即得硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體。 本發(fā)明以高純非晶態(tài)石英玻璃為原料,所制備的硅酸鉍(Bi2Si05)微晶體純度高, 雜相極少,且原料價(jià)格低廉,來源豐富,合成溫度較低,制備工藝簡單,有利于工業(yè)化生產(chǎn)。 所制備的硅酸鉍晶體可作為制備高品質(zhì)透明硅酸鉍單晶的優(yōu)質(zhì)原料及高性能的催化材料。
      權(quán)利要求
      一種硅酸鉍微晶體的制備方法,其特征在于第一步硅酸鉍玻璃的制備首先,將石英玻璃清洗烘干后,放入球磨罐中球磨至300目,制成石英玻璃粉;然后按照摩爾比Bi2O3∶SiO2=1∶1將三氧化二鉍粉體和石英玻璃粉混合放入瑪瑙乳體球磨罐中球磨30~60min得配合料;其次,將配合料加入事先放入馬弗爐中的帶蓋高純氧化鋁坩堝中,第一次加料溫度為950~1000℃,保溫10~30min后再加入剩余的配合料,以20~30℃/分鐘升溫至1080~1100℃,坩堝蓋上蓋子保溫1~6小時(shí),保溫過程中每隔1小時(shí)采用不銹鋼棍對(duì)熔融的玻璃液進(jìn)行攪拌1min;保溫結(jié)束后將熔融的玻璃液倒入轉(zhuǎn)動(dòng)著地采用水冷卻的鐵輥中間,將玻璃液在冷卻過程中制成厚度為1~5mm的玻璃片;最后,將玻璃片放入350~400℃馬弗爐中保溫1~4h后,隨爐冷卻,即得到硅酸鉍玻璃;第二步硅酸鉍(Bi2SiO5)微晶體的制備將馬弗爐以10~20℃/分鐘升溫至650℃,保溫30min,然后將裝有硅酸鉍玻璃的氧化鋁坩堝放入馬弗爐中,保溫1~2h;再以20~30℃/分鐘升溫至670~680℃,保溫4~20h后,迅速將氧化鋁坩堝取出放入室溫中,冷卻后即得硅酸鉍(Bi2SiO5)微晶體。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅酸鉍微晶體的制備方法,其特征在于所說的石英玻璃中 的Si02含量為4 6N(99. 99 % 99. 9999% )。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅酸鉍微晶體的制備方法,其特征在于所說的三氧化二鉍 的純度為99. 99%。
      全文摘要
      一種硅酸鉍微晶體的制備方法,將三氧化二鉍粉體和石英玻璃粉混合得配合料;將配合料加入事先放入馬弗爐中的帶蓋高純氧化鋁坩堝中熔融,然后將熔融的玻璃液倒入轉(zhuǎn)動(dòng)著地采用水冷卻的鐵輥中間,將玻璃液在冷卻過程中制成玻璃片;將玻璃片放入馬弗爐加熱、冷卻即得到硅酸鉍玻璃;將裝有硅酸鉍玻璃的氧化鋁坩堝放入馬弗爐中加熱、保溫、迅速取出冷卻后即得硅酸鉍微晶體。本發(fā)明以非晶態(tài)石英玻璃粉制備硅酸鉍晶體,所制備的硅酸鉍微晶體純度高,雜相極少,且原料價(jià)格低廉,來源豐富,合成溫度較低,制備工藝簡單,有利于工業(yè)化生產(chǎn)。所制備的硅酸鉍晶體可作為制備高品質(zhì)透明硅酸鉍單晶的優(yōu)質(zhì)原料及高性能的催化材料。
      文檔編號(hào)C01G29/00GK101708863SQ200910218900
      公開日2010年5月19日 申請(qǐng)日期2009年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月10日
      發(fā)明者楊新平, 王秀峰, 田鵬, 郭宏偉, 郭曉琛, 高檔妮, 龔煜軒 申請(qǐng)人:陜西科技大學(xué)
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