專利名稱：提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及ー種測量結(jié)構(gòu)，尤其是ー種提高核輻射密度計在溶出エ段的測量精度的結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前，在酸法制取氧化鋁生產(chǎn)過程中，溶出エ段的密度測量至關(guān)重要，由于エ藝物料的特殊性，エ藝管道均采用鋼管內(nèi)襯聚四氟こ烯材料，而且管道直徑大多為DN50甚至更 小，根據(jù)核輻射密度計的安裝要求，要想在如此小直徑的管道上測量密度并獲得足夠的精度，通常的做法是采用“ Z”型管安裝，以擴大管徑，安裝方式如圖2所示。但是，對于內(nèi)襯聚四氟こ烯材料的鋼管來說，由于受加工エ藝的限制，并不能加工成如圖I所示的“ Z”型管，而只能采用兩直角彎頭組裝成“Z”型管，如圖3所示。但是，這樣的結(jié)構(gòu)由于“Z”型管中間有兩片法蘭，再加之兩直角彎頭的彎曲半徑不能太小，出現(xiàn)中間法蘭干擾，安裝困難，擴大直徑無法準(zhǔn)確計算等問題，同樣不能獲得足夠的精度。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是，提供一種提高核輻射密度計在溶出エ段的測量精度的結(jié)構(gòu)，它能有效提高核輻射密度計在溶出エ段的測量精度，并且安全簡單，以克服現(xiàn)有技術(shù)的不足。本實用新型是這樣實現(xiàn)的提高核輻射密度計在溶出エ段的測量精度的結(jié)構(gòu)，包括エ藝管道、核輻射密度計的點源、探測器，エ藝管道為U字形結(jié)構(gòu)，點源及探測器在エ藝管道的上部設(shè)有基板底座，點源及探測器分別處于基板底座的兩端。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于采用上述技術(shù)方案，本實用新型采用將溶出エ段的エ藝管道設(shè)置為U字形結(jié)構(gòu)，使核輻射密度計的點源以及探測器分別處于U字形エ藝管道的兩側(cè)，從而使測量通道的管徑增加一倍，而エ藝管道壁厚按兩倍計算即可，這樣就能使密度測量能夠獲得足夠的精度，而且安裝方便，本實用新型不僅適用于內(nèi)襯聚四氟管道安裝，而且對于類似的小管徑且不能加工成標(biāo)準(zhǔn)“Z”型管的情況均可適用。本實用新型結(jié)構(gòu)容易制作，成本低廉，使用效果好。

圖I為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為現(xiàn)有技術(shù)的理想結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為現(xiàn)有技術(shù)的實際結(jié)構(gòu)示意圖；附圖標(biāo)記說明I-エ藝管道、2-點源2、3_探測器、4-基板底座、5-法蘭。
具體實施方式
[0011]本實用新型的實施例提高核輻射密度計在溶出エ段的測量精度的結(jié)構(gòu)如圖I所示，包括エ藝管道I、核輻射密度計的點源2、探測器3，エ藝管道I為U字形結(jié)構(gòu)，點源2及探測器3在エ藝管道I的上部設(shè)有基板底座4，點源2及探測器3分別處于基板底座4的兩端。如圖I所示，由 于采用上述結(jié)構(gòu)，エ藝管道I的連接法蘭5處于U字形的底部，這樣法蘭5就處于點源2與探測器3之間，從而不影響核輻射密度計的測量。
權(quán)利要求1. 一種提高核輻射密度計在溶出エ段的測量精度的結(jié)構(gòu)，包括エ藝管道(I)、核輻射密度計的點源(2)、探測器(3)，其特征在干エ藝管道(I)為U字形結(jié)構(gòu)，點源(2)及探測器(3 )在エ藝管道(I)的上部設(shè)有基板底座(4 )，點源(2 )及探測器(3 )分別處于基板底座(4 )的兩端。
專利摘要本實用新型公開了一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結(jié)構(gòu)，包括工藝管道、核輻射密度計的點源、探測器，其特征在于工藝管道為U字形結(jié)構(gòu)，點源及探測器在工藝管道的上部設(shè)有基板底座，點源及探測器分別處于基板底座的兩端。本實用習(xí)性將溶出工段的工藝管道設(shè)置為U字形，從而使測量通道的管徑增加一倍，而工藝管道壁厚按兩倍計算即可，這樣就能使密度測量能夠獲得足夠的精度，而且安裝方便，本實用新型不僅適用于內(nèi)襯聚四氟管道安裝，而且對于類似的小管徑且不能加工成標(biāo)準(zhǔn)“Z”型管的情況均可適用。本實用新型結(jié)構(gòu)容易制作，成本低廉，使用效果好。
文檔編號C01F7/02GK202453269SQ20112055475
公開日2012年9月26日 申請日期2011年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月27日
發(fā)明者黃其楊 申請人:貴陽鋁鎂設(shè)計研究院有限公司