專利名稱：中空二氧化硅的噴燒裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
:本實(shí)用新型涉及硅材料及材料改性生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種中空二氧化硅的噴燒裝置。
技術(shù)背景:目前，納米二氧化硅粉體材料已廣泛應(yīng)用于機(jī)械、日用化工、生物醫(yī)藥、建筑業(yè)、航空航天業(yè)、農(nóng)業(yè)等領(lǐng)域，在聲、光、電、磁及熱力學(xué)等方面也呈現(xiàn)出奇異的特性，亦可廣泛用于微電子、信息材料、涂料、橡膠、塑料、農(nóng)作物種子處理劑、拋光劑、LED光擴(kuò)散劑、高級耐火材料及造紙等方面。軟硅是一種新型二氧化硅粉體材料，英文名稱siliesoft,是一種粒徑在0.1 30微米范圍內(nèi)的二氧化硅粉體材料，可廣泛應(yīng)用于機(jī)械、日用化工、生物醫(yī)藥、建筑業(yè)、航空航天業(yè)、農(nóng)業(yè)等領(lǐng)域，在聲、光、電、磁及熱力學(xué)等方面也呈現(xiàn)出奇異的特性，亦可廣泛用于微電子、信息材料、涂料、橡膠、塑料、農(nóng)作物種子處理劑、拋光劑、LED光擴(kuò)散劑、高級耐火材料及造紙等方面。而現(xiàn)代高新技術(shù)的發(fā)展對材料的化學(xué)組成及形態(tài)均提出了嚴(yán)格的要求，同時(shí)也對粉體材料的微細(xì)化、功能化、高純化和精細(xì)化提出了更高的要求。軟硅材料的顆粒表面具有多孔，有較大的內(nèi)部空間，因而具有很好的吸附性，可用作制備新材料以及改性材料的基體。現(xiàn)有技術(shù)中，制備中空二氧化硅需要對處理后的二氧化硅進(jìn)行噴燒，而目前還沒有用于制備中空二氧化硅的噴燒設(shè)備
實(shí)用新型內(nèi)容
:本實(shí)用新型的目的在于提供一種中空二氧化硅的噴燒裝置，以解決目前缺少制備中空二氧化硅使用的噴燒設(shè)備的問題。本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):一種中空二氧化硅的噴燒裝置，其特征在于:該裝置包括相互連接的噴燒部分和集料部分，所述噴燒部分包括一端設(shè)置有物料出口的噴燒腔，所述噴燒腔與物料出口相對的一端設(shè)置有噴燒器，噴燒器中部設(shè)置了進(jìn)料通道；所述集料部分下端設(shè)置出料口。所述集料部分通過送料管連接噴燒部分的物料出口。所述噴燒腔豎直設(shè)置或水平設(shè)置，其中豎直設(shè)置的噴燒腔，噴燒器設(shè)置在噴燒腔底端，由于中空二氧化硅比重比較小，噴燒時(shí)可隨熱氣流上浮，噴燒器設(shè)置在底端，便于收集中空二氧化硅產(chǎn)品。本實(shí)用新型提供的中空二氧化硅的噴燒裝置，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)簡單，使用方便，適用于制備中空二氧化硅，中空二氧化硅等中空粉體材料通過噴燒器向上噴燒或水平方向噴燒，便于比重較小的中空二氧化硅收集。

:[0011]圖1為第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，1.噴燒部分；2.集料部分；11.物料出口 ；12.噴燒腔；13.進(jìn)料通道；14.噴燒器；21.送料管；22.出料口。
具體實(shí)施方式
:為了使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。實(shí)施例一一種中空二氧化硅的噴燒裝置:如圖1所示，該裝置包括相互連接的噴燒部分I和集料部分2，噴燒部分I包括一端設(shè)置有物料出口 11的噴燒腔12，噴燒腔12與物料出口 11相對的一端設(shè)置有噴燒器14，噴燒器14中部設(shè)置了進(jìn)料通道13 ;集料部分2下端設(shè)置出料口 22，集料部分2通過送料管21連接噴燒部分I的物料出口 11，噴燒腔12豎直設(shè)置，噴燒器14設(shè)置在噴燒腔12底端，由于中空二氧化硅比重比較小，噴燒時(shí)可隨熱氣流上浮，噴燒器14設(shè)置在底端，便于收集中空二氧化硅產(chǎn)品。實(shí)施例二一種中空二氧化硅的噴燒裝置:如圖2所示，該裝置包括相互連接的噴燒部分I和集料部分2，噴燒部分I包括一端設(shè)置有物料出口 11的噴燒腔12，噴燒腔12與物料出口 11相對的一端設(shè)置有噴燒器14，噴燒器14中部設(shè)置了進(jìn)料通道13 ;集料部分2下端設(shè)置出料口 22，集料部分2通過送料管21連接噴燒部分I的物料出口 11，噴燒腔12水平設(shè)置，噴燒器14沿水平方向噴燒。以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述的僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選例，并不用來限制本實(shí)用新型，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
權(quán)利要求1.一種中空二氧化硅的噴燒裝置，其特征在于:該裝置包括相互連接的噴燒部分和集料部分，所述噴燒部分包括一端設(shè)置有物料出口的噴燒腔，所述噴燒腔與物料出口相對的一端設(shè)置有噴燒器，噴燒器中部設(shè)置了進(jìn)料通道；所述集料部分下端設(shè)置出料口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中空二氧化硅的噴燒裝置，其特征在于:所述集料部分通過送料管連接噴燒部分的物料出口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的中空二氧化硅的噴燒裝置，其特征在于:所述噴燒腔豎直設(shè)置或水平設(shè)置，其中豎直設(shè)置的噴燒腔，噴燒器設(shè)置在噴燒腔底端。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種中空二氧化硅的噴燒裝置，以解決目前缺少制備中空二氧化硅使用的噴燒設(shè)備的問題，涉及硅材料及材料改性生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，該裝置包括相互連接的噴燒部分和集料部分，所述噴燒部分包括一端設(shè)置有物料出口的噴燒腔，所述噴燒腔與物料出口相對的一端設(shè)置有噴燒器，噴燒器中部設(shè)置了進(jìn)料通道；所述集料部分下端設(shè)置出料口。本實(shí)用新型提供的中空二氧化硅的噴燒裝置，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)簡單，使用方便，適用于制備中空二氧化硅，中空二氧化硅等中空粉體材料通過噴燒器向上噴燒或水平方向噴燒，便于比重較小的中空二氧化硅收集。
文檔編號C01B33/12GK202945066SQ20122063759
公開日2013年5月22日 申請日期2012年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月28日
發(fā)明者蔣學(xué)鑫, 蔣玉楠 申請人:蚌埠鑫源石英材料有限公司