一種用于熱控涂層的高純硅酸鍶粉體的制備方法
【專利摘要】高純硅酸鍶可用于航天飛行器熱控涂層的摻雜劑,改善熱控涂層的空間性能和光學(xué)性能,屬于材料【技術(shù)領(lǐng)域】,本發(fā)明涉及一種用于熱控涂層的高純硅酸鍶粉體的制備方法。其高純硅酸鍶粉體的制備過程是:將硝酸鍶,硅酸鉀水溶液等按一定摩爾數(shù)百分比混合,加入一定量的稀鹽酸促進劑,采用電磁加熱攪拌儀攪拌20~25分鐘,混合溶液溫度控制35~45℃,從而制備出白色絮狀硅酸鍶膠體。將經(jīng)五次蒸餾水清洗的硅酸鍶膠體放入高溫?zé)Y(jié)爐中進行煅燒,煅燒溫度控制在780~820℃,煅燒時間控制在110~130分鐘,從而制備出可用于熱控涂層的高純硅酸鍶。此方法工藝簡單,生產(chǎn)成本低,在熱控涂層、制蔗糖、冶金等方面都具有很好的應(yīng)用價值。
【專利說明】一種用于熱控涂層的高純硅酸鍶粉體的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明具體涉及一種用于航天飛行器熱控涂層的高純硅酸鍶粉體的制備方法,用于改善熱控涂層的空間穩(wěn)定性能以及降低熱控涂層的太陽吸收率。
【背景技術(shù)】
[0002]熱控涂層是航天飛行器器上用以實現(xiàn)有效地溫度控制的常用措施之一,目前用得最多的熱控涂層是以氧化鋅為顏料,但氧化鋅容易因空間輻照導(dǎo)致太陽吸收率升高,空間穩(wěn)定性降低,對近紅外和可見光的吸收較高。硅酸鍶粉體可作為摻雜劑應(yīng)用于熱控涂層,較好的解決上述問題。目前制備硅酸鍶的方法主要采用高溫煅燒的工藝,雖然煅燒溫度高達1200°C,獲得的硅酸鍶還是存在高溫固相反應(yīng)不充分、不完全,致使獲得的硅酸鍶粉體純度較低,雜質(zhì)含量高,影響其使用效果。本發(fā)明得到的一種硅酸鍶粉體純度高,可用作熱控涂層的摻雜劑,很好的可解決這類問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本發(fā)明提供了一種用于航天飛行器熱控涂層的高純硅酸鍶粉體的制備方法。高純硅酸鍶粉體的制備過程是:將硝酸鍶,硅酸鉀水溶液等按一定摩爾數(shù)百分比混合,加入一定濃度的稀鹽酸促進劑,采用電磁加熱攪拌儀攪拌20?25分鐘,混合溶液溫度控制35?45°C,從而制備出白色絮狀硅酸鍶膠體。將經(jīng)五次蒸餾水清洗的硅酸鍶膠體放入高溫?zé)Y(jié)爐中進行煅燒,煅燒溫度控制在780?820°C,煅燒時間控制在110?130分鐘,從而制備出可用于熱控涂層的高純硅酸鍶。此方法工藝簡單,生產(chǎn)成本低,在熱控涂層、制蔗糖、冶金等方面都具有很好的應(yīng)用價值。其特征在于:(I)硝酸鍶,硅酸鉀水溶液(占總摩爾數(shù)的百分比)按一定比例混合,硝酸鍶45?55 %,硅酸鉀水溶液(45?55 % ),稀鹽酸I?3 %,攪拌時間20?25分鐘,溶液溫度控制在35?45°C ; (2)在高溫?zé)Y(jié)爐中780?820°C的溫度范圍進行煅燒,煅燒時間110?130分鐘。
【具體實施方式】
[0004]下面結(jié)合實施范例對本發(fā)明的內(nèi)容作進一步的說明。
[0005]實施例1 將硝酸鍶50 %,硅酸鉀48 %,稀鹽酸2 %,采用電磁加熱攪拌儀攪拌20?25分鐘,混合溶液溫度為35?45°C,將經(jīng)五次蒸餾水清洗的硅酸鍶膠體放入高溫?zé)Y(jié)爐中進行煅燒,煅燒溫度控制在780?820°C,煅燒時間控制在110?130分鐘,即得到可用于熱控涂層的高純硅酸鍶粉體。
[0006]實施例2 將硝酸鍶48 %,硅酸鉀51 %,稀鹽酸I %,采用電磁加熱攪拌儀攪拌20?25分鐘,混合溶液溫度為35?45°C,將經(jīng)五次蒸餾水清洗的硅酸鍶膠體放入高溫?zé)Y(jié)爐中進行煅燒,煅燒溫度控制在780?820°C,煅燒時間控制在110?130分鐘,即得到可用于熱控涂層的高純硅酸鍶粉體。
[0007]實施例3 將硝酸鍶48 %,硅酸鉀50 %,稀鹽酸2 %,采用電磁加熱攪拌儀攪拌20?25分鐘,混合溶液溫度為35?45°C,將經(jīng)五次蒸餾水清洗的硅酸鍶膠體放入高溫?zé)Y(jié)爐中進行煅燒,煅燒溫度控制在780?820°C,煅燒時間控制在110?130分鐘,即得到可用于熱控涂層的高純硅酸鍶粉體。
[0008]實施例4 將硝酸鍶52%,硅酸鉀47%,稀鹽酸3%,采用電磁加熱攪拌儀攪拌20?25分鐘,混合溶液溫度為35?45°C,將經(jīng)五次蒸餾水清洗的硅酸鍶膠體放入高溫?zé)Y(jié)爐中進行煅燒,煅燒溫度控制在780?820°C,煅燒時間控制在110?130分鐘,即得到可用于熱控涂層的高純硅酸鍶粉體。
【權(quán)利要求】
1.一種用于熱控涂層的高純硅酸鍶粉體的制備方法,其特征在于:將硝酸鍶,硅酸鉀,稀鹽酸促進劑等按一定比例在一定的溫度下攪拌一定時間,然后制備的白色絮狀硅酸鍶膠體放入高溫?zé)Y(jié)爐中在一定的煅燒溫度和煅燒時間等條件下即可制備出用于熱控涂層的高純硅酸鍶粉體。
2.權(quán)利1所述的原料比例之一是:硝酸鍶45?55%,硅酸鉀45?55%,稀鹽酸1?3%。
3.權(quán)利1所述的攪拌時間20?25分鐘,混合溶液溫度35?451。
4.權(quán)利1所述的在高溫?zé)Y(jié)爐中煅燒溫度為780?8201。
5.權(quán)利1所述的煅燒時間為110?130分鐘。
【文檔編號】C01B33/24GK104445230SQ201410572566
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年10月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月16日
【發(fā)明者】張政權(quán), 王恩澤, 岳小安, 王麗閣, 李良鋒, 王玉玲 申請人:西南科技大學(xué)