本發(fā)明涉及一種涂布的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的柔性薄玻璃，其能用于柔性電子器件、用于觸摸屏的傳感器、用于薄膜電池的基底、移動(dòng)電子器件、內(nèi)插件、可彎曲的顯示器、太陽(yáng)能電池或其他要求高化學(xué)穩(wěn)定性、溫度穩(wěn)定性和柔性、以及小厚度的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
：不同成分的薄或超薄玻璃是適用于很多應(yīng)用的合適的基底材料，其中化學(xué)和物理特性，如透明度、耐化學(xué)性和耐熱性具有重要意義。例如，非堿性玻璃、如肖特公司的能用于顯示屏和晶片作為所謂的電子包裝材料。硼硅酸鹽玻璃也能用作薄膜傳感器和厚膜傳感器的防火材料、試驗(yàn)室器皿和光刻掩模。薄或超薄玻璃通常用在電子應(yīng)用中，諸如膜和傳感器。當(dāng)前，產(chǎn)品的新功能的日益增長(zhǎng)的要求以及廣泛的新應(yīng)用的探索要求具有新特性、諸如柔性的更薄、更輕的玻璃基底。通常通過(guò)使較厚的玻璃、例如硼硅酸鹽玻璃減薄或磨薄來(lái)生產(chǎn)薄玻璃。然而，由于減薄或磨薄并拋光較厚的玻璃層，厚度小于0.5mm的玻璃層是不能獲得的，其僅能在極端的限制性條件下生產(chǎn)。厚度小于0.3mm或甚至小于0.2mm的玻璃、例如肖特公司的能通過(guò)下拉法生產(chǎn)。厚度為0.1mm的鈉鈣玻璃能例如通過(guò)特殊的浮法生產(chǎn)。薄玻璃基底在電子器件中使用的最大挑戰(zhàn)是對(duì)薄玻璃層的處理。通常情況下，玻璃缺少可延展性，并且破裂的可能性很大程度取決于層的機(jī)械強(qiáng)度。對(duì)于薄玻璃來(lái)說(shuō)，已經(jīng)為此提出了幾種方法。US6,815,070(Mauch等)提出例如用有機(jī)膜或聚合物薄膜涂布薄玻璃以便提高玻璃的破裂強(qiáng)度。然而該方法導(dǎo)致的一些不足。例如，強(qiáng)度的提高不夠，并且如果玻璃層要進(jìn)行切割就必須執(zhí)行一些非常特別的加工。此外，聚合物涂層在玻璃層的光學(xué)特性和耐熱性方面具有負(fù)面影響。此外，化學(xué)鋼化或預(yù)應(yīng)力化或預(yù)應(yīng)力化是用于提高較厚玻璃、諸如鈉鈣玻璃或鋁硅酸鹽玻璃(AS玻璃)的強(qiáng)度的已知方法，鈉鈣玻璃或鋁硅酸鹽玻璃(AS玻璃)例如用作顯示應(yīng)用的蓋玻璃。在這些條件下，內(nèi)部表面應(yīng)力或表面壓應(yīng)力(CS)通常在600至1000MPa之間，而離子交換層(DoL)的厚度或深度通常大于30μm，優(yōu)選大于40μm。當(dāng)用在交通和航空的安全罩中使用時(shí)，AS玻璃甚至具有大于100μm的交換層。通常，如果約0.5至10mm的玻璃厚度是足夠的，那么具有更大的CS和更大的DoL的玻璃適用于任何應(yīng)用。由于大的CS同時(shí)具有大的DoL而導(dǎo)致大的拉應(yīng)力，薄或超薄玻璃往往自己破裂，導(dǎo)致必須為薄或超薄玻璃引入新的參數(shù)，新的參數(shù)不同于通常厚度的罩的那些參數(shù)。很多現(xiàn)有技術(shù)公開(kāi)文獻(xiàn)進(jìn)行了有關(guān)玻璃的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化或化學(xué)鋼化或預(yù)應(yīng)力化的研究：例如US2010/0009154描述了玻璃厚度為0.5mm或更大的具有壓應(yīng)力的外部區(qū)域的玻璃，其中外部區(qū)域具有至少50μm的深度。并且壓應(yīng)力至少大于200MPa，其中在表面區(qū)域中生成中央拉應(yīng)力(CT)和壓應(yīng)力的步驟包括將玻璃的部件連續(xù)浸漬在大量的離子交換浴中。因而獲得的玻璃應(yīng)用于消費(fèi)類(lèi)電子產(chǎn)品。所描述的這種玻璃的生產(chǎn)商面對(duì)的參數(shù)和挑戰(zhàn)并不適用于生產(chǎn)薄玻璃，因?yàn)槔瓚?yīng)力將很高以至于引起玻璃的破裂。US2011/0281093描述了一種耐損鋼化玻璃，其中鋼化玻璃物體具有相對(duì)的第一和第二壓應(yīng)力的表面區(qū)域，這些表面區(qū)域通過(guò)拉應(yīng)力核心區(qū)域彼此連接，其中第一表面區(qū)域相比于第二表面區(qū)域具有更高程度的壓應(yīng)力，以便提高對(duì)表面損壞的抗性。壓應(yīng)力表面區(qū)域通過(guò)層壓、離子交換、鋼化或預(yù)應(yīng)力化或它們的組合被提供，以便控制張力曲線(xiàn)并限制物體的破裂能。WO11/149694公開(kāi)了一種被化學(xué)鋼化的具有防反射涂層的玻璃，其中選擇的涂層設(shè)置在玻璃物體的至少一個(gè)表面上并且選自由一個(gè)防反射涂層和/或防眩光涂層構(gòu)成的組。涂層包含至少5重量％的氧化鉀。US2009/197048公開(kāi)了一種具有用作蓋板的功能涂層的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化玻璃。玻璃物體具有至少大約200MPa的表面壓應(yīng)力，在該區(qū)域中具有20至80μm的表面壓應(yīng)力層厚，并且具有氟基的雙疏性表面層表面，該雙疏性表面層化學(xué)結(jié)合到玻璃物體的表面，以形成涂布的玻璃物體。在US8232218中，熱處理用于提高玻璃的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化效果。玻璃物體有退火溫度和變形溫度，因此玻璃物體從高于變形溫度的第一溫度冷卻(chill)到低于形成溫度的第二溫度?；瘜W(xué)鋼化之后，快速冷卻的玻璃具有較高的壓縮強(qiáng)度和較厚的離子交換層。在US2012/0048604中，離子交換的薄鋁硅酸鹽或硼鋁硅酸鹽層用作電子器件的內(nèi)插件。內(nèi)插件包括由離子交換的玻璃形成的前玻璃基底芯。調(diào)整熱膨脹系數(shù)(CTE)，以與半導(dǎo)體和金屬材料等的熱膨脹系數(shù)相一致。然而，在該專(zhuān)利申請(qǐng)中，在表面上超過(guò)200MPa的壓應(yīng)力是必要的，并且鋁硅酸鹽或硼鋁硅酸鹽的層的深度也非常大。上述因素使玻璃在功能方面難以使用。玻璃的柔性和怎樣能證實(shí)玻璃的柔性沒(méi)有被考慮。此外，化學(xué)鋼化處理要求玻璃基底在高溫度下被浸漬在玻璃浴中，并且該方法要求玻璃本身具有高抗熱震性。在整個(gè)公開(kāi)內(nèi)容中沒(méi)有提到玻璃成分和有關(guān)功能怎樣被調(diào)整以滿(mǎn)足這些要求。對(duì)于薄玻璃來(lái)說(shuō)，例如自破裂是一個(gè)嚴(yán)重的問(wèn)題，特別是對(duì)于鋁硅酸鹽玻璃來(lái)說(shuō)，因?yàn)殇X硅酸鹽玻璃的高CTE減小抗熱震性并提高預(yù)應(yīng)力化處理和其他處理期間薄玻璃斷裂的可能性。另一方面，大多數(shù)鋁硅酸鹽玻璃有較高的CTE，該較高的CTE與電子半導(dǎo)體的CTE不一致，這導(dǎo)致處理和使用過(guò)程中產(chǎn)生問(wèn)題。與薄玻璃的另一個(gè)問(wèn)題是所涂覆的層的有限長(zhǎng)期耐用性，使得層所提供的功能由于化學(xué)和/或物理侵蝕很快消失。對(duì)觸摸屏應(yīng)用中來(lái)說(shuō)優(yōu)選的功能是例如光滑的接觸表面、高透明性、低反射特性、增大的耐劃和耐磨強(qiáng)度(例如當(dāng)使用觸筆時(shí))、高抗污性和通過(guò)所謂“易清潔”特性獲得的易清潔性、特別是通過(guò)所謂的"防指紋”特性獲得的有關(guān)防手指汗液(其包含鹽和脂肪)的抗性、以及涂層的耐用性，即使在氣候和UV應(yīng)力以及抵抗多次清潔循環(huán)的情況下。耐用性或穩(wěn)定性不但取決于被選擇的涂層類(lèi)型，而且取決于涂層所涂覆的基底表面。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：因此，本發(fā)明的目的是提供薄、柔性的玻璃，這種玻璃克服了上述現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題。薄玻璃具有以合適的方式具有特別是提高的強(qiáng)度，并且對(duì)涂覆于其上的功能涂層提供增加的長(zhǎng)期耐用性。此外，這種玻璃的生產(chǎn)應(yīng)盡可能地節(jié)省成本并且應(yīng)能以簡(jiǎn)單的方式生產(chǎn)。通過(guò)提供的涂布的、化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的柔性薄玻璃，本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了上述目標(biāo)，該薄玻璃包括作為涂層的硅混合氧化物層形式的粘合促進(jìn)層，該硅混合氧化物層包含或由鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼中的至少一種氧化物和/或鎂氟化物、優(yōu)選至少氧化鋁與硅氧化物層的組合構(gòu)成。由此生產(chǎn)柔性玻璃基底，該玻璃的柔性通過(guò)化學(xué)預(yù)應(yīng)力化而提高，其中通過(guò)提供特別的粘合促進(jìn)層，在玻璃基底上涂覆的功能涂層的長(zhǎng)期的穩(wěn)定性得到很大提高。此外，可以特別地選擇薄或超薄柔性玻璃的成分，以為化學(xué)預(yù)應(yīng)力化和實(shí)際使用提供優(yōu)良的抗熱震性。本發(fā)明的柔性薄或超薄玻璃優(yōu)選具有較低的壓應(yīng)力和化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后相比于其他玻璃的更小深度的壓應(yīng)力層。這種特性產(chǎn)生本發(fā)明的特別適用于實(shí)際處理方法的玻璃層或玻璃板。本發(fā)明提供具有高度柔性、抗熱震性、透明性以及長(zhǎng)期耐用性的涂層的涂布的、化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的薄或超薄玻璃。本發(fā)明的玻璃的厚度優(yōu)選為2mm或更小，更優(yōu)選為1.2mm或更小，甚至更優(yōu)選為500μm或更小，特別優(yōu)選400μm或更小，特別優(yōu)選300μm或更小。在本發(fā)明的范圍內(nèi)時(shí)，玻璃被定義為厚度為300μm或更小的超薄玻璃。特別是，對(duì)于具有300μm或更小厚度的超薄玻璃來(lái)說(shuō)，獲得30μm或更小厚度或者120MPa或更小的中央拉應(yīng)力、特別是良好特性的離子交換層。該玻璃優(yōu)選具有低的熱膨脹系數(shù)(CTE)和低楊氏模量，以提高抗熱震性和柔性。此外，本發(fā)明的玻璃的低CTE導(dǎo)致其與半導(dǎo)體器件和無(wú)機(jī)材料相配，并且獲得優(yōu)良的特性和提高實(shí)用性。在一個(gè)實(shí)施例中，該玻璃是堿性玻璃；特別優(yōu)選是鋰-鋁硅酸鹽玻璃、鈉鈣硅酸鹽玻璃、硼硅酸鹽玻璃、堿性鋁硅酸鹽玻璃和低堿性鋁硅酸鹽玻璃。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，制造新的玻璃。該玻璃含有堿，以便能進(jìn)行離子交換和化學(xué)預(yù)應(yīng)力化。在超薄玻璃的情況下，優(yōu)選控制離子交換層的深度(DoL)，使得其小于30μm，并且CS優(yōu)選被控制為低于700MPa。該玻璃涂布有硅混合氧化物層的實(shí)施例形式的粘合促進(jìn)層，使得可以涂覆一個(gè)或幾個(gè)額外的層，額外的層使玻璃具有一種或幾種特性。本發(fā)明的第二個(gè)方面提供涂布的柔性薄玻璃，其具有小于10×10-6/K的CTE、以及小于84Gpa的楊氏模量，以便獲得優(yōu)良的抗熱震性和柔性。本發(fā)明的第三方面是用于生產(chǎn)玻璃的方法。起始玻璃可通過(guò)下拉法、溢流熔融法、特殊浮法或再拉法或?qū)^厚的玻璃進(jìn)行磨削或蝕刻生產(chǎn)。在本發(fā)明中，起始玻璃能以層或板或卷的形式生產(chǎn)。起始玻璃的表面優(yōu)選具有小于50nm的粗糙度Ra，并且玻璃的一個(gè)或兩個(gè)表面進(jìn)行離子交換并且因此被化學(xué)預(yù)應(yīng)力化。在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之前或之后，可以在其上涂覆粘合促進(jìn)層以及如果需要的額外的功能層。涂布的化學(xué)鋼化或相應(yīng)預(yù)應(yīng)力化的薄玻璃對(duì)于卷對(duì)卷處理來(lái)說(shuō)是理想的選擇。本發(fā)明的第四方面是提供具有額外功能的玻璃物體，因此甚至功能層被涂覆在粘合促進(jìn)層上，該粘合促進(jìn)層具有中間層或不具有中間層的情況下布置在玻璃上。功能層能是為預(yù)期應(yīng)用提供期望的特性的層。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，一個(gè)或多個(gè)功能層能因此通過(guò)使用一個(gè)或若干個(gè)中間層而選擇性地涂覆到粘合促進(jìn)層。功能層能從以下層選擇：如在WO2009/099615A1中所描述的防指紋層、例如基于雙疏性含氟表面層的防指紋層、如在WO2012/163947A1和WO2012/163946A1中所公開(kāi)的易于清潔的層、如在WO2011/149694A1中公開(kāi)的光學(xué)活性層、例如防反射和/或防眩光層、如在WO2012/177563A2或WO2012/151097A1中描述的防劃層、或?qū)щ妼?、覆蓋層、保護(hù)層、耐磨層、抗菌或抗微生物層、著色層等。所有引用的示例通過(guò)參考被包含在本發(fā)明公開(kāi)的內(nèi)容中。在一個(gè)實(shí)施例中，導(dǎo)電涂層被涂覆到粘合促進(jìn)層，但是不基于氧化錫銦(非ITO)；該涂層用作柔性或可彎曲的導(dǎo)電膜。這在柔性傳感器或柔性電路板、太陽(yáng)能電池或顯示器中使用。在另外的實(shí)施例中，光學(xué)活性涂層可涂覆到粘合促進(jìn)層，該光學(xué)活性層以低的反射行為提供高透明性，例如防反射或防眩光層。在本發(fā)明的另外方面，涂層被涂覆到粘合促進(jìn)層，該涂層具有通過(guò)易于清潔涂層而實(shí)現(xiàn)的高的抗污性和易清潔性。具有對(duì)含有鹽和脂肪的手指汗水引起的化學(xué)應(yīng)力的抗性的額外涂層是所謂的防指紋涂層。對(duì)于觸摸屏的應(yīng)用來(lái)說(shuō)，特別考慮具有功能性的層，該層引起接觸表面的觸覺(jué)和觸感感知的改善，換言之是光滑涂層。在額外的實(shí)施例中，所使用的涂層是例如在觸摸屏上使用觸筆時(shí)對(duì)刮擦和磨損的抗性。根據(jù)額外的實(shí)施例中，所使用的涂層特別適于在氣候和UV應(yīng)力的情況下使用。除了描述的功能層，薄玻璃的一個(gè)或兩個(gè)表面在額外的實(shí)施例中能被預(yù)處理，諸如拋光或紋理化，例如蝕刻，這取決于需要哪些表面特性-例如滿(mǎn)足更好感覺(jué)的要求，諸如更好的觸覺(jué)以及在視覺(jué)上更加令人愉快。由于現(xiàn)有的粘合促進(jìn)層具有其上所設(shè)置的功能性涂層的特別好的長(zhǎng)期穩(wěn)定性，這種涂布的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的柔性薄玻璃有各種用途，例如用于移動(dòng)電話(huà)、平板電腦、筆記本電腦、電阻式觸摸面板、電視、鏡子、窗戶(hù)、飛行器窗戶(hù)、家具和家電應(yīng)用等。參考附圖，在下面的段落中更詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明的這些和其它方面、優(yōu)點(diǎn)和特征。附圖說(shuō)明圖1示出了本發(fā)明的薄玻璃在被化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后的CS和DoL曲線(xiàn)。圖2示出本發(fā)明的薄玻璃在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化后的柔性的提高。圖3示出本發(fā)明的薄玻璃在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化后的威布爾分布(Weibulldistribution)的改善。圖4示出本發(fā)明的化學(xué)鋼化的柔性的薄玻璃10，在示出的示例中，在沒(méi)有額外的中間層的情況下，粘合促進(jìn)層20和功能層30直接涂覆到玻璃上，導(dǎo)致功能層的較高的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。具體實(shí)施方式術(shù)語(yǔ)和定義根據(jù)本發(fā)明，“壓應(yīng)力”(CS)被理解為是離子交換后玻璃網(wǎng)絡(luò)通過(guò)玻璃表面的位移效應(yīng)產(chǎn)生的應(yīng)力，與此同時(shí)基于光學(xué)原理，利用市場(chǎng)上可獲得的應(yīng)力計(jì)FSM6000進(jìn)行測(cè)量，該玻璃中不發(fā)生變形。根據(jù)本發(fā)明，“離子交換層的深度”(DoL)被理解為發(fā)生離子交換和產(chǎn)生壓應(yīng)力的玻璃表面層的厚度。DoL能基于光學(xué)原理利用市場(chǎng)上能獲得的應(yīng)力計(jì)FSM6000進(jìn)行測(cè)量。根據(jù)本發(fā)明，“中央拉應(yīng)力”(CT)被理解為離子交換之后在玻璃的中間層中產(chǎn)生并且抵消了玻璃的上表面和下表面之間產(chǎn)生的壓應(yīng)力的拉應(yīng)力。通過(guò)測(cè)量CS和DoL能計(jì)算CT。根據(jù)本發(fā)明，“平均粗糙度”(Ra)被理解為這樣的粗糙度，即這樣處理過(guò)的表面具有更小的間隔以及微小的高度和深度的不均性；平均粗糙度Ra是取樣長(zhǎng)度內(nèi)的絕對(duì)值的材料表面輪曲線(xiàn)偏差的算術(shù)平均值。Ra能利用掃描電子顯微鏡進(jìn)行測(cè)量。根據(jù)本發(fā)明，“導(dǎo)熱系數(shù)(λ)”被理解為是物質(zhì)導(dǎo)熱的能力。λ能用市場(chǎng)上可獲得的熱導(dǎo)率測(cè)量裝置來(lái)測(cè)量。根據(jù)本發(fā)明，“材料強(qiáng)度(σ)”被理解為在破裂發(fā)生之前材料所能承受的最大應(yīng)力。σ能在三點(diǎn)或四點(diǎn)彎曲試驗(yàn)中測(cè)量。在該申請(qǐng)中，σ定義為經(jīng)過(guò)一系列試驗(yàn)的平均值。根據(jù)本發(fā)明，“材料的泊松比(μ)”是在應(yīng)力作用下材料的橫向應(yīng)力與縱向應(yīng)力的比值。μ能通過(guò)試驗(yàn)測(cè)量，其中，在材料上施加應(yīng)力并且記錄該應(yīng)力。根據(jù)本發(fā)明，“光澤度”是相比于同樣條件下從標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)樣品的表面反射的光的量從材料表面反射的光的量。光澤度能用市場(chǎng)上可獲得的光澤度計(jì)來(lái)測(cè)量。根據(jù)本發(fā)明，“濁度”被理解為由于光散射而透明度從透明材料減小的百分比。濁度能用市場(chǎng)上可獲得的濁度計(jì)來(lái)測(cè)定。根據(jù)本發(fā)明，“(多個(gè))功能層”被理解為是一個(gè)或若個(gè)這樣的層，其在優(yōu)選沒(méi)有中間層的情況下被涂覆在粘合促進(jìn)層上，并且提供具有一種或多種特性的玻璃，以便使玻璃具有期望的功能。具體實(shí)施方式玻璃層或玻璃板越薄，其處理就越難。如果玻璃的厚度≤2mm或≤500μm或甚至≤300μm，玻璃的處理變得更加困難，這主要是因?yàn)橹T如在玻璃邊緣上細(xì)裂紋和碎裂的缺陷導(dǎo)致破裂。整個(gè)機(jī)械強(qiáng)度、例如彎曲或沖擊強(qiáng)度顯著降低。通常較厚玻璃情況下，邊緣能用數(shù)控機(jī)床磨削以去除缺陷；然而，在具有上述厚度的薄或超薄玻璃的情況下，不能再進(jìn)行機(jī)械移除或磨削。在角部或邊緣的蝕刻可以是薄玻璃去除缺陷的方案。然而，薄玻璃板或?qū)拥娜嵝匀允鞘芟薜?，因?yàn)閷?duì)于薄或超薄玻璃來(lái)說(shuō)低的彎曲強(qiáng)度和預(yù)應(yīng)力化或鋼化是非常重要的。預(yù)應(yīng)力化能通過(guò)表面和邊緣的涂布來(lái)實(shí)現(xiàn)。然而，這是非常昂貴的，并且不是非常有效的。令人驚奇地是，應(yīng)注意到，玻璃、特別是經(jīng)受特殊的化學(xué)鋼化加工的含堿和鋁的玻璃能獲得高的機(jī)械強(qiáng)度、以及良好的柔性和彎曲性。離子交換后，壓應(yīng)力層形成在玻璃的表面上。然而，對(duì)于較厚的鈉鈣或鋁硅酸鹽玻璃來(lái)說(shuō)，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)通常被推薦并且化學(xué)鋼化玻璃通常使用的CS和DoL不再適用于本發(fā)明的薄玻璃。對(duì)于厚度<2mm的薄玻璃來(lái)說(shuō)，相比于較厚的玻璃，DoL和CT的值更關(guān)鍵。如果這些值過(guò)高，玻璃將被損壞。因此，小于30μm的DoL且小于120MPa的CT對(duì)于化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的超薄玻璃來(lái)說(shuō)是優(yōu)選的參數(shù)。此外，本發(fā)明涂布的、薄的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的柔性玻璃顯示出：在存在粘合促進(jìn)層時(shí)，優(yōu)選直接涂覆在粘合促進(jìn)層上的功能層相比于沒(méi)有粘合促進(jìn)層具有明顯更長(zhǎng)的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。此外，功能層本身的特性還能通過(guò)粘合促進(jìn)層得到改善；這歸結(jié)于以下事實(shí)，即對(duì)于隨后涂覆的額外功能層來(lái)說(shuō)，粘合促進(jìn)層具有支撐和結(jié)構(gòu)效果。該粘合促進(jìn)層能是單一層，或者能包括或由一層或數(shù)層構(gòu)成，并且如果需要的話(huà)，也能有一個(gè)或若干個(gè)中間層。粘合促進(jìn)層能直接涂覆到玻璃上，或者一個(gè)或幾個(gè)中間層能被設(shè)置在粘合促進(jìn)層和玻璃之間。粘合促進(jìn)層是或包括硅混合氧化物層，該硅混合氧化物層包括或由硅氧化物層與鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼的至少一種氧化物、和/或鎂氟化物、優(yōu)選至少鋁氧化物、優(yōu)選至少一種鋁氧化物的組合而構(gòu)成。在硅-鋁混合氧化物層的情況下，在混合氧化物中鋁與硅的摩爾比優(yōu)選在約3至約30％之間，更優(yōu)選在約5至約20％之間，特別優(yōu)選在約7至約12％之間。在本發(fā)明的意義上，硅氧化物應(yīng)理解為任何硅氧化物SiOx，其中x能假設(shè)為1至2范圍內(nèi)的任何特定值。硅混合氧化物被理解為是由硅氧化物和額外的至少一種其它元素的氧化物構(gòu)成的混合物，該硅混合氧化物能是均相的或非均相的、化學(xué)計(jì)量的或非化學(xué)計(jì)量的。粘合促進(jìn)層本身可以是功能層，或者可表示一個(gè)或多個(gè)功能層的一部分。取決于粘合促進(jìn)層的功能，根據(jù)本發(fā)明選擇其厚度。如果本發(fā)明的粘合促進(jìn)層沒(méi)有額外的功能，而是僅用于促進(jìn)粘合，那么層厚被選擇為優(yōu)選1nm或更大，優(yōu)選10nm或更大，尤其優(yōu)選20nm或更大。粘合促進(jìn)層能被選擇使得其例如同時(shí)表示光學(xué)有效層。光學(xué)有效的粘合促進(jìn)層可具有例如范圍為1.35至1.7、優(yōu)選范圍為1.35至1.6、特別優(yōu)選范圍為1.35至1.56的折射率(在588nm的參考波長(zhǎng)的情況下)。粘合促進(jìn)層也能由幾層構(gòu)成，在幾層之間插入一個(gè)或幾個(gè)中間層。中間層然后優(yōu)選具有的厚度為0.3至10nm，特別優(yōu)選厚度為1至3nm。這主要是有助于避免粘合促進(jìn)層內(nèi)的應(yīng)力。該中間層能例如由硅氧化物構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明的粘合促進(jìn)層能利用期望的方法涂覆，該方法用于將均質(zhì)層涂覆在大的表面上對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是已知的。優(yōu)選使用溶膠-凝膠法、或使用化學(xué)或物理氣相沉積的方法、特別是濺射。所述涂覆粘合促進(jìn)層之前玻璃表面的活化能導(dǎo)致涂覆的層的粘合特性的改善。處理能通過(guò)清洗處理有利地進(jìn)行，或者也可作為通過(guò)電暈放電、火焰處理、UV處理、等離子體活化和/或機(jī)械方法和/或化學(xué)處理而進(jìn)行的活化，機(jī)械方法諸如粗糙化、噴砂，化學(xué)處理諸如蝕刻或浸出。本發(fā)明的薄玻璃能在用粘合促進(jìn)層并且如果需要的話(huà)在用至少一個(gè)功能層涂布之前或之后進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化。本發(fā)明的薄玻璃也能有利地被化學(xué)預(yù)應(yīng)力化，因此涂布后被化學(xué)鋼化，而沒(méi)有使涂層遭受明顯破壞。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的玻璃特別是堿和含硼的硅酸鹽玻璃，以特別好地滿(mǎn)足對(duì)具有低CS和低DoL且鋼化或預(yù)應(yīng)力化時(shí)間較長(zhǎng)的薄玻璃的預(yù)應(yīng)力化的需求?；瘜W(xué)預(yù)應(yīng)力化前的玻璃原料板或?qū)拥目篃嵴鹦院筒ＡУ膭傂砸部梢允窍嚓P(guān)的。為滿(mǎn)足期望的規(guī)格，玻璃成分必須仔細(xì)選擇。在一個(gè)實(shí)施例中，該玻璃優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO210-90Al2O30-40B2O30-80Na2O1-30K2O0-30CoO0-20NiO0-20Ni2O30-20MnO0-20CaO0-40BaO0-60ZnO0-40ZrO20-10MnO20-10CeO0-3SnO20-2Sb2O30-2TiO20-40P2O50-70MgO0-40SrO0-60Li2O0-30Li2O+Na2O+K2O1-30Nd2O50-20V2O50-50Bi2O30-50SO30-50SnO0-70因而SiO2+B2O3+P2O5的含量是10-90；在一個(gè)實(shí)施例中，薄玻璃為鋰-鋁硅酸鹽玻璃，其具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO255-69Al2O318-25Li2O3-5Na2O+K2O0-30MgO+CaO+SrO+BaO0-5ZnO0-4TiO20-5ZrO20-5TiO2+ZrO2+SnO22-6P2O50-8F0-1B2O30-2；本發(fā)明的鋰-鋁硅酸鹽玻璃優(yōu)選地具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO257-66Al2O318-23Li2O3-5Na2O+K2O3-25MgO+CaO+SrO+BaO1-4ZnO0-4TiO20-4ZrO20-5TiO2+ZrO2+SnO22-6P2O50-7F0-1B2O30-2；本發(fā)明的鋰-硅酸鋁玻璃更優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO257-63Al2O318-22Li2O3.5-5Na2O+K2O5-20MgO+CaO+SrO+BaO0-5ZnO0-3TiO20-3ZrO20-5TiO2+ZrO2+SnO22-5P2O50-5F0-1B2O30-2；在一個(gè)實(shí)施例中，柔性薄玻璃為鈉鈣玻璃，其具有以下成分并包括(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO240-81Al2O30-6B2O30-5Li2O+Na2O+K2O5-30MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO5-30TiO2+ZrO20-7P2O50-2；本發(fā)明的鈉鈣玻璃優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO250-81Al2O30-5B2O30-5Li2O+Na2O+K2O5-28MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO5-25TiO2+ZrO20-6P2O50-2；本發(fā)明的鈉鈣玻璃最優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO255-76Al2O30-5B2O30-5Li2O+Na2O+K2O5-25MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO5-20TiO2+ZrO20-5P2O50-2；在一個(gè)實(shí)施例中，柔性的薄玻璃是硼硅酸鹽玻璃，其具有以下成分(以重量％)：成分(以重量％計(jì))SiO260-85Al2O30-10B2O35-20Li2O+Na2O+K2O2-16MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO0-15TiO2+ZrO20-5P2O50-2；本發(fā)明的硼硅酸鹽玻璃更優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO263-84Al2O30-8B2O35-18Li2O+Na2O+K2O3-14MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO0-12TiO2+ZrO20-4P2O50-2；本發(fā)明的硼硅酸鹽玻璃最優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO263-83Al2O30-7B2O35-18Li2O+Na2O+K2O4-14MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO0-10TiO2+ZrO20-3P2O50-2；在一個(gè)實(shí)施例中，柔性薄玻璃是堿-鋁硅酸鹽玻璃，其具有以下成分(以重量％)：成分(重量％)SiO240-75Al2O310-30B2O30-20Li2O+Na2O+K2O4-30MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO0-15TiO2+ZrO20-15P2O50-10；本發(fā)明的堿-鋁硅酸鹽玻璃更優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO250-70Al2O310-27B2O30-18Li2O+Na2O+K2O5-28MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO0-13TiO2+ZrO20-13P2O50-9；本發(fā)明的堿-鋁硅酸鹽玻璃最優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO255-68Al2O310-27B2O30-15Li2O+Na2O+K2O4-27MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO0-12TiO2+ZrO20-10P2O50-8；在一個(gè)實(shí)施例中，柔性薄玻璃是具有低堿含量的鋁硅酸鹽玻璃，具有以下成分(以重量％)：成分(重量計(jì))SiO250-75Al2O37-25B2O30-20Li2O+Na2O+K2O1-4MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO5-25TiO2+ZrO20-10P2O50-5；本發(fā)明的具有低堿含量的鋁硅酸鹽玻璃更優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量計(jì))SiO252-73Al2O37-23B2O30-18Li2O+Na2O+K2O1-4MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO5-23TiO2+ZrO20-10P2O50-5；本發(fā)明的具有低堿含量的鋁硅酸鹽玻璃最優(yōu)選具有以下成分(以重量％計(jì))：成分(重量％)SiO253-71Al2O37-22B2O30-18Li2O+Na2O+K2O1-4MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO5-22TiO2+ZrO20-8P2O50-5；上述成分可以分別包括：如果需要的話(huà)，著色氧化物：如Nd2O3、Fe2O3、CoO、NiO、V2O5、MnO2、TiO2、CuO、CeO2、Cr2O3；0-2重量％的As2O3、Sb2O3、SnO2、SO3、Cl、F和/或CeO2作為精制劑；以及也可以添加0-5重量％的稀土氧化物，以便引入磁性、光子或光學(xué)功能到玻璃層或板。總成分的總量始終是100重量％。表1示出具有待化學(xué)預(yù)應(yīng)力化且用粘合促進(jìn)層涂布的含堿的薄玻璃若干典型實(shí)施例。表格1-含堿的硼硅酸鹽玻璃的示例成分(重量％)示例1示例2示例3示例4示例5示例6示例7示例8SiO28064706168706760Al2O3371189867LiO00050000Na2O568105358K2O06812645CaO00712000BaO002.502000ZnO052.400120ZrO200033000B2O31280.118121620TiO204100000SiO2、B2O3和P2O5用作玻璃網(wǎng)絡(luò)形成劑。對(duì)于常規(guī)方法，總含量應(yīng)不低于40重量％，否則玻璃板或?qū)硬荒苄纬?，并將變得脆且易碎，并失去透明度。更高的SiO2含量在玻璃生產(chǎn)過(guò)程中要求更高的熔融和處理溫度，因此，該含量通常應(yīng)小于90重量％。將B2O3和P2O5添加到SiO2能改性網(wǎng)絡(luò)特征并降低玻璃的熔融和處理溫度。而且玻璃網(wǎng)絡(luò)形成劑對(duì)玻璃的CTE具有很強(qiáng)的影響。此外，玻璃網(wǎng)絡(luò)中的B2O3能形成能更適于外界負(fù)載力的兩種不同的多面體。B2O3的添加通常導(dǎo)致較小的熱膨脹和較低的楊氏模量，其導(dǎo)致低的抗熱震性和更慢的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化，從而能容易地保持低CS和小DoL。因此，B2O3添加到薄玻璃能大大改善化學(xué)預(yù)應(yīng)力化，其結(jié)果是化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的薄玻璃能在實(shí)際應(yīng)用中被廣泛使用。Al2O3用作玻璃網(wǎng)絡(luò)形成劑并且用作玻璃網(wǎng)絡(luò)改性劑。根據(jù)Al2O3的量，[AlO4]四面體和[AlO6]六面體形成在玻璃網(wǎng)絡(luò)中。這些能通過(guò)改變玻璃網(wǎng)絡(luò)中離子交換的空間來(lái)調(diào)整離子交換速度。如果Al2O3含量過(guò)高、例如大于40重量％，玻璃的熔融溫度和處理溫度變得高得多并將傾向于結(jié)晶，這導(dǎo)致玻璃失去透明度和柔性。堿金屬氧化物、諸如K2O、Na2O和Li2O用作為玻璃處理改性劑并且能通過(guò)在玻璃網(wǎng)絡(luò)內(nèi)形成非橋接氧化物來(lái)破壞玻璃網(wǎng)絡(luò)。添加堿金屬能減小玻璃的處理溫度并能提高玻璃的CTE。Na和Li的存在對(duì)于薄玻璃來(lái)說(shuō)是必要的，以便其能被機(jī)械預(yù)應(yīng)力化。Na+/Li+、Na+/K+和Li+/K+的離子交換是預(yù)應(yīng)力化處理的必要步驟。如果該玻璃本身不含有堿金屬，那么該就沒(méi)有被預(yù)應(yīng)力化。然而，堿金屬的總量應(yīng)不大于30重量％，否則玻璃網(wǎng)絡(luò)將被完全破壞而不形成玻璃。一個(gè)重要的因素是，該薄玻璃應(yīng)具有低的CTE，以便玻璃不具有過(guò)量堿金屬時(shí)其對(duì)于滿(mǎn)足該要求來(lái)說(shuō)是有用的。堿土金屬氧化物、例如MgO、CaO、SrO以及BaO用作網(wǎng)絡(luò)改性劑并能降低玻璃的形成溫度。這些元素能改變玻璃的CTE和楊氏模量，并且堿土元素在改變玻璃的折射率以滿(mǎn)足特殊要求方面具有重要功能。例如，MgO能降低玻璃的折射率，而B(niǎo)aO能提高折射率。在玻璃生產(chǎn)中，堿土元素的量不應(yīng)高于40重量％。玻璃中的過(guò)渡金屬元素、諸如ZnO和ZrO2有與堿土元素類(lèi)似的功能。其它過(guò)渡金屬元素、諸如Nd2O3、Fe2O3、CoO、NiO、V2O5、MnO2、TiO2、CuO、CeO2和Cr2O3用作著色劑，使得該玻璃具有特殊光子或光學(xué)功能，例如彩色濾光功能或光轉(zhuǎn)換。包含堿金屬離子的薄玻璃通?？梢酝ㄟ^(guò)去除或磨削處理或蝕刻減薄較厚玻璃來(lái)生產(chǎn)。這兩個(gè)處理容易進(jìn)行，但是不經(jīng)濟(jì)。表面質(zhì)量-例如粗糙度Ra和波紋度不好。也可以使用再拉伸法，以由較厚的玻璃形成較薄玻璃，但是此成本也很高，并且高效的大批量生產(chǎn)不容易實(shí)現(xiàn)。用于含堿硼硅酸鹽薄玻璃板或?qū)拥钠渌a(chǎn)方法包括下拉法、溢流熔融法與特種浮法。下拉和溢流熔融法優(yōu)選用于大規(guī)模生產(chǎn)，其中，即使在高的表面質(zhì)量下生產(chǎn)厚度為10至300μm的超薄玻璃也是可以的。在下拉或溢流熔融法中，可以生產(chǎn)粗糙度Ra為5nm或更小、優(yōu)選2nm或更小、甚至更優(yōu)選1nm或更小的自然或火拋光表面。對(duì)于在電子器件中的實(shí)際使用來(lái)說(shuō)，玻璃板或?qū)泳哂袃?yōu)選±10％或更小的厚度變化公差。厚度還能夠精確控制在≤2mm的期望的范圍內(nèi)，而且也能在10至300μm的范圍內(nèi)。為玻璃提供柔性的是玻璃的小的強(qiáng)度。利用浮法處理，能更經(jīng)濟(jì)地并以用于大規(guī)模生產(chǎn)的合適的方式生產(chǎn)薄玻璃。然而，以浮法處理生產(chǎn)的玻璃具有為錫側(cè)的一側(cè)，其與另一側(cè)不同。然而，兩側(cè)之間的不同導(dǎo)致玻璃化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后發(fā)生彎曲，從而不再可以進(jìn)行隨后的涂布，因?yàn)檫@兩側(cè)可能顯示不同的表面能。因此，在利用浮法處理來(lái)生產(chǎn)薄玻璃時(shí)，在進(jìn)一步處理前去除錫側(cè)是有利的。本發(fā)明的薄玻璃能以層或板或卷的形式進(jìn)行生產(chǎn)或處理。該層的尺寸優(yōu)選為10×10mm2或更大，更優(yōu)選為50×50mm2，甚至更優(yōu)選為100×100mm2或更大，特別優(yōu)選為400×320mm2或更大，甚至更優(yōu)選470×370mm2或更大，最優(yōu)選550×440mm2或更大。薄玻璃卷的厚度優(yōu)選為200mm或更大，優(yōu)選為300mm或更大，更優(yōu)選為400mm或更大，或最優(yōu)選1m或更大。玻璃卷的長(zhǎng)度優(yōu)選大于1m，更優(yōu)選大于10m，甚至更優(yōu)選大于100m，并且最優(yōu)選大于500m。根據(jù)本發(fā)明，在硅混合氧化物層的實(shí)施例中，可以在用粘合促進(jìn)層涂布之前或之后進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化?？梢酝ㄟ^(guò)將玻璃板或?qū)踊虿ＡЬ斫牒袉蝺r(jià)離子的鹽浴中，使得這些離子與玻璃內(nèi)的堿離子進(jìn)行交換來(lái)進(jìn)行預(yù)應(yīng)力化。鹽浴中的單價(jià)離子所具有的直徑大于玻璃中的堿離子的直徑，因此可以產(chǎn)生在離子交換后作用在玻璃網(wǎng)絡(luò)上的壓應(yīng)力。在離子交換后，玻璃的強(qiáng)度和柔性提高。此外，通過(guò)化學(xué)預(yù)應(yīng)力化獲得的壓應(yīng)力(CS)使玻璃的抗劃性增強(qiáng)，使得硬化的玻璃不易被劃傷；DoL也能增強(qiáng)耐刮性，使得玻璃破裂或刮傷的可能性較小。用于化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的典型的鹽是含Na+的熔融鹽或含K+的熔融鹽或它們的混合物。通常使用的鹽包括：NaNO3、KNO3、NaCl、KCl、K2SO4、Na2SO4和Na2CO3；也使用添加劑，諸如NaOH、KOH以及其他鈉鹽或鉀鹽或銫鹽，以便更好地控制化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的離子交換率。含Ag+或含Cu2+-的鹽浴能用來(lái)為玻璃額外地提供抗菌特性。離子交換優(yōu)選在卷到卷過(guò)程中或在輥到層處理中聯(lián)線(xiàn)(online)進(jìn)行。由于玻璃非常薄，離子交換不應(yīng)進(jìn)行的太快或太深，并且玻璃的中央拉應(yīng)力(CT)對(duì)于非常薄的玻璃來(lái)說(shuō)是關(guān)鍵的，并且其可以通過(guò)下面的等式來(lái)表示：其中σCS表示CS的值，LDoL是DoL的厚度，t是玻璃的厚度。張力的測(cè)量單位是MPa和厚度的測(cè)量單位是μm。對(duì)于較厚的玻璃來(lái)說(shuō)，離子交換不應(yīng)被執(zhí)行到相同的厚度，并且不應(yīng)進(jìn)行得太快，以便對(duì)化學(xué)預(yù)應(yīng)力化提供精確控制。太大的DoL將引起薄玻璃的大CT和自我破裂，如果薄玻璃徹底離子交換甚至?xí)餋S的消失，而不產(chǎn)生硬化或預(yù)應(yīng)力化的效果。大的DoL通常經(jīng)過(guò)化學(xué)預(yù)應(yīng)力化不增加薄玻璃的強(qiáng)度和柔性。根據(jù)本發(fā)明，對(duì)超薄玻璃來(lái)說(shuō)，玻璃的厚度t與DoL、CS和CT有如下的特殊相關(guān)性：根據(jù)一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，能給出以下相關(guān)性：表2提供了化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的優(yōu)選的技術(shù)規(guī)格，其中CS和DoL值被控制在特定范圍內(nèi)，以達(dá)到最佳的強(qiáng)度和柔性。樣品在350至480℃的溫度下在純KNO3鹽浴中經(jīng)過(guò)15分鐘至48小時(shí)進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化，以獲得受控的CS和DoL值。表2-預(yù)應(yīng)力化的技術(shù)規(guī)格厚度DoL(μm)CS(MPa)CT(MPa)0.3mm<30<700<1200.2mm<20<700<1200.1mm<15<600<12070μm<15<400<12050μm<10<350<12025μm<5<300<12010μm<3<300<120在一個(gè)具體的實(shí)施例中，硼硅酸鹽玻璃具有以下特性，即相對(duì)低的CTE、低的楊氏模量和高的溫度變化穩(wěn)定性。除了這些優(yōu)點(diǎn)，硼硅酸鹽玻璃含有堿，并且也能被化學(xué)預(yù)應(yīng)力化。由于相對(duì)慢的交換處理，在這里CS和DoL值能容易控制。粘合促進(jìn)層設(shè)置在本發(fā)明的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的薄或超薄玻璃上。一個(gè)或若干個(gè)功能性的可彎曲的或柔性的涂層可以涂覆到薄玻璃的粘合促進(jìn)層上。通過(guò)將一個(gè)或若干個(gè)功能層涂覆在本發(fā)明的玻璃的粘合促進(jìn)層上，能實(shí)現(xiàn)相應(yīng)的有關(guān)應(yīng)用?？梢酝扛驳秸澈洗龠M(jìn)層上的一個(gè)可能的功能層是易清潔涂層。易清潔涂層是具有高防污性、可容易清潔、并且還具有防涂鴉效果的涂層。這種易清潔涂層的材料表面具有針對(duì)例如指紋印跡、諸如液體、鹽、油脂、污垢和其他材料的沉積的抗性。這涉及針對(duì)這種沉積的耐化學(xué)性、以及對(duì)針對(duì)這種沉積的低潤(rùn)濕行為。它也涉及抑制、避免或減少通過(guò)用戶(hù)觸摸出現(xiàn)的指紋印跡。在這種情況下，易清潔層成為防指紋涂層。指紋主要含有鹽、氨基酸和脂肪、諸如滑石、汗液、死皮細(xì)胞殘余物、化妝品和洗滌劑的物質(zhì)以及可能以液體或不同類(lèi)型顆粒形式的污垢。因此，這種易清潔涂層必須具有對(duì)使用期間產(chǎn)生的例如來(lái)自指紋的殘留的水、鹽和脂肪的沉積的抗性。具有易清潔涂層的表面的潤(rùn)濕特性必須這樣，使得該表面是疏水性的，換言之，該表面與水之間的接觸角大于90°，并且該表面是疏油的，換言之，該表面與油之間的接觸角大于50°。易清潔涂層可在市場(chǎng)上廣泛獲得。這些特別是含氟有機(jī)化合物，例如在DE19848591、EP0844265、US2010/0279068、US2010/0285272和US2009/0197048中所公開(kāi)的，其所公開(kāi)的內(nèi)容通過(guò)參考被包含在本發(fā)明中。已知的易清潔涂層基于以下被生產(chǎn)：商品名為“PFPE”的全氟聚醚，諸如SolvaySolexis的“S10”或者DaikinIndustriesLTD的“OptoolTMDSX”或“OptoolTMAES4-E”，ETCProductsGmbH的“EKG6000N”；或商品名為“FSD”的氟硅烷，諸如CytonixLLC的“FSD2500”或“FSD4500”；或易清潔涂層“ECC”產(chǎn)品，諸如3MDeutschlandGmbH的“ECC3000”或“ECC4000”。這些是液體涂覆的層。例如通過(guò)物理氣相沉積而涂覆的納米層體系形式的防指紋涂層以商品名“DURALONUltraTec”由CotecGmbH提供。可以涂覆到粘合促進(jìn)層的功能層的額外的替代是導(dǎo)電涂層，因?yàn)槠鋵?duì)各種應(yīng)用是有利的，例如在電容功能觸摸屏中的應(yīng)用。通過(guò)將導(dǎo)電涂層涂覆到預(yù)應(yīng)力化的薄玻璃板或?qū)由?，可以獲得柔性的電氣電路或傳感器。這里。無(wú)機(jī)和有機(jī)涂層可以涂覆到薄玻璃上。然而，在現(xiàn)代電子器件中通常使用的無(wú)機(jī)導(dǎo)電涂層、例如ITO的缺點(diǎn)是不能彎曲。在反復(fù)彎曲后，電阻增大，這是因?yàn)榛缀推渖系耐繉幼冃螘r(shí)產(chǎn)生小裂紋。因此，厚度≤2mm的薄玻璃應(yīng)用非ITO涂層涂布，例如銀納米線(xiàn)、碳納米管、石墨烯、聚(3，4-乙烯基二氧噻吩)/聚(苯乙烯磺酸鹽)(PEDOT/PSS)、聚乙炔、聚苯乙炔(polyphenylenevinylene)、聚吡咯、聚噻吩、聚苯胺和聚苯硫醚。導(dǎo)電涂層的厚度優(yōu)選為0.001μm至100μm，更優(yōu)選0.01至10μm，甚至更優(yōu)選為0.08至1μm。導(dǎo)電聚合物涂層是透明的或半透明的，且可選地進(jìn)行著色。用于涂覆導(dǎo)電涂層的方法包括化學(xué)氣相沉積工藝(CVD)、浸漬涂布、旋涂、噴墨、鑄造、絲網(wǎng)印刷、上漆和噴涂?？蓮澢?、導(dǎo)電的非ITO涂層優(yōu)選具有50GPa或更小的楊氏模量，以確保玻璃的復(fù)合材料、粘合促進(jìn)層和有機(jī)材料不變得太有剛性或太硬。該復(fù)合薄玻璃優(yōu)選具有0至90％的可調(diào)透射率和300Ω/sq.或更小、更優(yōu)選為200Ω/sq.或更小、或甚至更優(yōu)選為150Ω/sq.或更小的表面電阻，因此該復(fù)合薄玻璃適用于在柔性電子器件、如銅-銦-鎵-硒太陽(yáng)能電池(CIGS太陽(yáng)能電池)和OLED顯示器中使用。使用導(dǎo)電性的非ITO涂層的另一優(yōu)點(diǎn)是，該涂布處理在低溫環(huán)境下進(jìn)行。通常，物理氣相沉積法(PVD)適用于具有ITO的涂層，其中，所述玻璃基底被加熱至高達(dá)200℃或甚至更高的溫度。然而高的溫度降低薄玻璃層或板的CS并削弱薄層或板的強(qiáng)度和可靠性。通常非ITO層在低于150℃的溫度下涂覆，并且因而保持薄玻璃層或板的強(qiáng)度和柔性。此外，防刮涂層也能作為可能的功能層涂覆到粘合促進(jìn)層，例如氮化硅涂層。可以涂覆到粘合促進(jìn)層的額外的優(yōu)選功能層是防反射層。在本發(fā)明的范圍內(nèi)，這些被理解為是這樣的層，即至少在電磁波的可見(jiàn)的、紫外或紅外光譜的一部分中，其引起用該層涂布的載體材料的表面上的反射率的減小。至少所述電磁輻射的被傳遞的部分因此增加。在本發(fā)明的范圍內(nèi)，“防反射層”的意思應(yīng)被理解為與術(shù)語(yǔ)“去反射層”意思相同。防反射涂層或防反光涂層的層作為可能的功能層可以具有任何期望的設(shè)計(jì)。特別優(yōu)選的是交替的層(彼此相鄰定位的層，具有交替屬性)，其具有中、高和低折射率，特別是具有三個(gè)層，其中最上層是優(yōu)選的低折射層。此外，優(yōu)選的還是由高折射層和低折射層構(gòu)成的交替的層，特別是具有四或六層，其中最上層優(yōu)選是低折射層。額外的實(shí)施例是單層防反射體系或?qū)拥脑O(shè)計(jì)，其中一個(gè)或若干個(gè)層被一個(gè)或若干個(gè)光學(xué)無(wú)效的非常薄的中間層中斷。在一個(gè)實(shí)施例中，防反射或防反光涂層由交替的高和低折射層構(gòu)成。該層體系具有至少兩個(gè)、但也可以是四個(gè)、六個(gè)和更多個(gè)層。在兩層體系的情況下，例如存在第一高反射層T，低折射層S涂覆在該第一高反射層上。高折射層T通常包括氧化鈦TiO2，而且包括氧化鈮Nb2O5、氧化鉭Ta2O5、氧化鈰CeO2、氧化鉿HfO2、以及其與氧化鈦或與上述其他氧化物的混合物。低折射層S優(yōu)選包括優(yōu)選的硅混合氧化物，特別是硅氧化物與鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼的元素的氧化物和/或鎂氟化物混合的硅氧化物，其中優(yōu)選包括鋁元素的至少一種氧化物。在588nm的參考波長(zhǎng)下，這種單一層的折射率在以下區(qū)域中：高折射層T為1.7至2.3，優(yōu)選為2.05到2.15，并且低折射層S為1.35至1.7，優(yōu)選為1.38至1.6，特別優(yōu)選為1.38至1.58，特別為1.38至1.56。在所選示例中，低折射層S可以同時(shí)用作粘合促進(jìn)層；然后粘合促進(jìn)層用作功能層。在一個(gè)額外的，特別優(yōu)選的實(shí)施例中，防反射或防反光涂層由交替的中、高和低折射層構(gòu)成。該層體系具有至少三個(gè)或五個(gè)或更多個(gè)層。在三層體系的情況下，這種涂層包括用于可見(jiàn)光譜范圍的防反光涂層。這是由具有以下各個(gè)層結(jié)構(gòu)的三個(gè)層構(gòu)成的干涉濾光器：載體材料/M/T/S，其中M是具有中折射率的層，T是具有高折射率的層而S是具有低折射率的層。大多數(shù)時(shí)候，中折射層M包括混合氧化物層，該混合物層由硅氧化物和鈦氧化物構(gòu)成；但是也能使用鋁氧化物。高折射層T多數(shù)時(shí)候包括鈦氧化物，低折射層S包括硅混合氧化物，特別是硅氧化物與鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼中的一種元素的氧化物和/或鎂氟化物混合，其中優(yōu)選包括鋁元素的至少一種氧化物。在588nm的參考波長(zhǎng)下，這種單一層的折射率處于以下范圍內(nèi)：中折射層M為1.6至1.8，優(yōu)選為1.65至1.75，高折射層T為1.9至2.3，優(yōu)選為2.05至2.15，而低折射率S層為1.38至1.56，優(yōu)選為1.42至1.50。這種單一層的厚度通常：對(duì)于中折射層M來(lái)說(shuō)為30至60nm、優(yōu)選35至50nm、特別優(yōu)選40至46nm；對(duì)于高折射層T來(lái)說(shuō)為90至125nm、優(yōu)選100至115nm、特別是優(yōu)選105至111nm；對(duì)于低折射層S來(lái)說(shuō)是70至105nm、優(yōu)選80至100nm、特別優(yōu)選85至91nm。在所述的實(shí)施例中，低折射層S能同時(shí)用作粘合促進(jìn)層；然后粘合促進(jìn)層也用作功能層。在其中功能涂層由具有不同折射率的若干單獨(dú)層構(gòu)成的本發(fā)明另外的優(yōu)選布置中，防反射或防反光涂層的各個(gè)層包括對(duì)UV和溫度穩(wěn)定的無(wú)機(jī)材料以及來(lái)自以下組的一個(gè)或若干個(gè)材料或混合物：鈦氧化物、鈮氧化物、鉭氧化物、鈰氧化物、鉿氧化物、硅氧化物、鎂氟化物、鋁氧化物、鋯氧化物。這種涂層特別具有干涉層體系，該干涉層體系具有至少四個(gè)單獨(dú)層。在額外的實(shí)施例中，這種功能涂層包括具有至少五個(gè)單獨(dú)層的干涉層體系，其具有以下層結(jié)構(gòu)：薄玻璃(載體材料)/M1/T1/M2/T2/S，其中M1和M2均是具有中折射率的層，T1和T2是具有高折射率的層，而S是具有低折射率的層。大多數(shù)時(shí)候，中折射層M包括由硅氧化物和鈦氧化物構(gòu)成的混合氧化物層，但是也使用鋁氧化物或鋯氧化物。高折射層T包括例如鈦氧化物，而且還包括鈮氧化物、鉭氧化物、鈰氧化物、鉿氧化物或其與鈦氧化物的混合物。低折射層S例如包括硅混合氧化物，特別是硅氧化物與以下元素中的至少一種的氧化物和/或鎂氟化物混合：鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼，其中優(yōu)選存在鋁的至少一種氧化物。在588nm的參考波長(zhǎng)下，這些各層的反射率一般是：對(duì)于中折射層M1、M2來(lái)說(shuō)在1.6至1.8的范圍內(nèi)；對(duì)于高折射層T1、T2來(lái)說(shuō)在大于或等于1.9的范圍內(nèi)；和對(duì)于低折射層S來(lái)說(shuō)在小于或等于1.58的范圍內(nèi)。這些層的厚度通常為：層M1為70至100nm，層T1為30至70nm，層M2為20至40nm，層T2為30至50nm，而層S為90至110nm。在所述的實(shí)施例中，低折射層S能同時(shí)用作粘附促進(jìn)層；然后粘合促進(jìn)層也能作為功能層。在名稱(chēng)為“紫外線(xiàn)反射干涉層體系”的EP1248959B1中描述了由至少四個(gè)單獨(dú)層、特別是五個(gè)單獨(dú)層構(gòu)成的這種涂層，其整個(gè)公開(kāi)內(nèi)容作為參考，并且其公開(kāi)內(nèi)容是本發(fā)明的一部分。防反射涂層也可以是額外的層體系，通過(guò)不同的M-、T-和S-層的組合，該層體系能實(shí)現(xiàn)源于前述體系的防反射體系。在本發(fā)明的范圍內(nèi)，相對(duì)于所述基底材料實(shí)現(xiàn)至少在光譜范圍內(nèi)光反射減小的所有減少反射的層體系被認(rèn)為是在粘合促進(jìn)層上的可能的功能層。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，粘合促進(jìn)層上的防反射涂層由一個(gè)單一層構(gòu)成。在該實(shí)施例中由一個(gè)層構(gòu)成的防反射涂層是低反射層，如果需要的話(huà)，該低反射層能由非常薄的、幾乎光學(xué)無(wú)效的中間層中斷。這樣的中間層的厚度例如是0.3至10nm，優(yōu)選1至3nm，特別優(yōu)選1.5至2.5nm。防反射層可以由多孔的單層防反射涂層、諸如鎂氟化物層構(gòu)成。單層防反射涂層特別可以是多孔的溶膠-凝膠層。如果孔的體積分量為防反射涂層的總體積的10％至60％，特別用單層防反射層可以實(shí)現(xiàn)特別好的防反射特性能。這種多孔的防反射單層涂層優(yōu)選具有1.2至1.38、更優(yōu)選1.2到1.35、甚至更優(yōu)選1.2至1.30、甚至更優(yōu)選1.25至1.38、特別優(yōu)選1.28至1.38的范圍內(nèi)的折射率(在588nm的參考波長(zhǎng)下)。在其它因素中，折射率取決于孔隙率。由一個(gè)單獨(dú)的層構(gòu)成的防反射涂層的該實(shí)施例優(yōu)選將自身限制為以下應(yīng)用，即薄玻璃具有相應(yīng)較高的折射率，使得可以產(chǎn)生單層的防反射效果。防反射涂層由單個(gè)層構(gòu)成，該單個(gè)層所具有的折射率優(yōu)選與薄玻璃或其表面上的折射率的平方根的±10％、更優(yōu)選±5％、特別優(yōu)選±2％相一致。防反射涂層也能替代性地用一個(gè)或若干個(gè)基本光學(xué)無(wú)效的層、特別是覆蓋層覆蓋。高折射率的載體材料上的這種光學(xué)有效涂層例如適于LED應(yīng)用的更好的光提取或適于光學(xué)玻璃的眼鏡或其他使用。可以有利的是，如果防反射層、特別是在面對(duì)空氣的最上層包含具有約2nm至約20nm、優(yōu)選約5nm至約10nm、特別優(yōu)選約8nm的顆粒尺寸的多孔納米顆粒。多孔納米顆粒有利地包括硅氧化物和鋁氧化物。如果在這些陶瓷納米顆粒的混合氧化物中鋁與硅的摩爾比為約1：4.0至約1:20、特別優(yōu)選為約1：6.6，并且如果因此硅-鋁混合氧化物包括具有x＝0.05至0.25、優(yōu)選0.15的(SiO2)1-x(Al2O3)x/2的成分，該涂層具有特別高的耐機(jī)械性和耐化學(xué)性。利用具有大約2nm至約20nm、優(yōu)選約5nm至約10nm、特別優(yōu)選約為8nm的優(yōu)選顆粒尺寸的多孔納米顆粒，有利地實(shí)現(xiàn)了一層或一個(gè)層體系的傳遞和反射特性通過(guò)散射僅略微惡化。在由若干個(gè)功能層構(gòu)成的層體系中，一個(gè)或若干個(gè)層也可以通過(guò)若干個(gè)優(yōu)選非常薄的中間層而彼此分開(kāi)，該優(yōu)選非常薄的中間層不損害期望的功能，或僅非常輕微地?fù)p害。這些中間層主要用于預(yù)防層內(nèi)的應(yīng)力。例如，可以存在一個(gè)或多個(gè)硅氧化物中間層。這種中間層的厚度優(yōu)選為0.3至10nm，更優(yōu)選1至3nm，特別優(yōu)選1.5至2.5nm?？梢酝扛驳礁鶕?jù)本發(fā)明的粘合促進(jìn)層的額外的功能層是可以由一個(gè)或若干個(gè)層構(gòu)成的覆蓋層。覆蓋層不一定必須是層結(jié)構(gòu)中的最上層；它也可以是中間層。作為中間層，它可被設(shè)計(jì)為成使得可以通過(guò)直接在其下面的層和直接在其上面的層之間的覆蓋層進(jìn)行相互作用。例如，覆蓋層正下方可以是粘合促進(jìn)層，和功能層正上方可以是功能層，例如易清潔層，其中通過(guò)覆蓋層粘合促進(jìn)層的作用不被負(fù)面地影響。該覆蓋層例如也可以設(shè)計(jì)成支持后面涂覆的額外的功能層。這種覆蓋層特別可以設(shè)計(jì)為多孔層。這種覆蓋層例如是多孔溶膠-凝膠層或火焰熱解涂覆的部分可滲透的薄氧化層。特別有利的是由硅氧化物生產(chǎn)這樣的覆蓋層，其中硅氧化物也可以是混合的硅氧化物，特別是硅氧化物與下列元素中的至少一種的氧化物和/或鎂氟化物混合：鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼。為了生產(chǎn)這樣的覆蓋層，通過(guò)火焰熱解或另一熱涂布法、例如冷氣噴涂或例如濺射而涂覆的涂層是合適的。粘合促進(jìn)層也可設(shè)置在用于抗菌的粘合促進(jìn)層上。通過(guò)使玻璃在含Ag+或含Cu2+的鹽浴中進(jìn)行離子交換，玻璃本身也能配備成抗菌的。離子交換之后，表面上的Ag+或Cu2+的濃度優(yōu)選為1ppm或更高、優(yōu)選為100ppm或更高，并且更優(yōu)選為1000ppm或更高。對(duì)細(xì)菌的抑制率優(yōu)選高于50％，優(yōu)選高于80％，并且甚至更優(yōu)選高于95％。具有抗菌功能的薄玻璃可以用于醫(yī)療設(shè)備，如在醫(yī)院中使用的計(jì)算機(jī)或屏幕。功能層能在原則上能用任何涂布方法涂覆，利用該涂布方法，均質(zhì)層可以涂覆在大的表面區(qū)域上。示例是物理或化學(xué)氣相沉積，特別是濺射、火焰熱解或溶膠-凝膠法。利用后者，在擦拭法、在涂布或輥處理和/或利用刮刀中通過(guò)浸漬、蒸氣涂布、噴涂、印刷、用輥進(jìn)行涂覆、或通過(guò)另一種合適的方法，該層能被涂覆在表面上。在這里浸漬和噴涂是優(yōu)選的。如果功能不相互負(fù)面影響，不同的功能層也可以彼此組合。例如，防反射涂層可以與防眩光涂層組合。防反射涂層也可以與涂覆在其上的易清潔涂層組合。已經(jīng)具有一種AG特性的柔性玻璃例如可以設(shè)置有另外的抗菌特性；或者已經(jīng)配備有抗菌層的玻璃可以設(shè)置有防反射層和/或?qū)щ妼?。因此在該玻璃中或?qū)τ谠摬Ａ?lái)說(shuō)能實(shí)現(xiàn)多種功能的整合。由一個(gè)或若干個(gè)層構(gòu)成的并且如果需要的話(huà)還可以具有一個(gè)或多個(gè)中間層的現(xiàn)有的粘合促進(jìn)層用于提高涂覆在其上的功能層的長(zhǎng)期穩(wěn)定性，其結(jié)果是有效地實(shí)現(xiàn)它們的特性。除了賦予給薄玻璃的各功能，薄玻璃的額外特性可以發(fā)揮作用。由溫差引起的熱應(yīng)力是造成溫度變化期間玻璃破裂的原因。由化學(xué)方法引起的熱張力或應(yīng)力也能降低玻璃強(qiáng)度，從而導(dǎo)致玻璃變得更脆并失去其柔性。此外，薄玻璃比厚玻璃對(duì)熱應(yīng)力更敏感。因此，當(dāng)使用薄玻璃層或板時(shí)，抗熱震性和熱應(yīng)力穩(wěn)定性對(duì)于彼此來(lái)說(shuō)是特別相關(guān)的。在一個(gè)實(shí)施例中，化學(xué)預(yù)應(yīng)力化包括快速加熱和冷卻，由此熱淬火對(duì)于該方法是必需的。用于化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的鹽浴通常加熱到高于250℃或甚至高達(dá)700℃的溫度，以使鹽浴熔化。如果薄玻璃被浸入鹽浴，在玻璃和鹽浴之間產(chǎn)生溫度梯度，并且在各玻璃片內(nèi)產(chǎn)生溫度梯度，即使僅玻璃的一部分被浸入到鹽浴中。另一方面，如果薄玻璃從鹽浴取出，那么其通常受到快速淬火工序。由于厚度小，薄玻璃在相同的溫度梯度下更容易破裂。因此，如果薄玻璃被預(yù)應(yīng)力化而沒(méi)有成分的特別選擇，溫度改變方法導(dǎo)致產(chǎn)率小。即使預(yù)熱和隨后的冷卻可以降低溫度梯度，這些方法是耗時(shí)的并且是能耗大的。具有最大溫度梯度的玻璃可以對(duì)抗對(duì)溫度改變的抗性，即使在預(yù)熱和冷處理過(guò)程期間。薄玻璃的高溫度變化抗性是特別優(yōu)選的，以便簡(jiǎn)化化學(xué)預(yù)應(yīng)力化并提高產(chǎn)率。除了化學(xué)預(yù)應(yīng)力化，在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后，可以在隨后處理、如激光切割或熱切割過(guò)程中實(shí)現(xiàn)熱張力或應(yīng)力。根據(jù)上面的說(shuō)明，很明顯，在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之前，初始玻璃的抗熱震性對(duì)于柔性薄玻璃來(lái)說(shuō)能是重要因素，因?yàn)榭篃嵴鹦詻Q定了具有高品質(zhì)的預(yù)應(yīng)力化玻璃的經(jīng)濟(jì)實(shí)用性。初始玻璃板或?qū)拥某煞衷诓Ａa(chǎn)中也起作用，并因此應(yīng)對(duì)每種玻璃類(lèi)型進(jìn)行認(rèn)真研究，如在前面的部分已經(jīng)描述的。相對(duì)于溫度變化材料的耐用性是由溫度變化參數(shù)確定的：其中R是抗熱震性；λ是熱傳導(dǎo)系數(shù)；α是CTE；σ是材料的強(qiáng)度。E是楊氏模，而μ為泊松比。R值越高表示溫度變化期間對(duì)故障更高的抗性。玻璃的熱張力和應(yīng)力的抗性相應(yīng)地通過(guò)由以下等式的最大的熱應(yīng)力ΔT來(lái)確定：具有更高R值的玻璃顯然具有更高的熱應(yīng)力，并因此對(duì)溫度變化具有更大的抗性。對(duì)于實(shí)際應(yīng)用，R應(yīng)大于190W/m2，優(yōu)選大于250W/m2，甚至更優(yōu)選大于300W/m2，而ΔT應(yīng)高于380℃，優(yōu)選高于500℃，甚至更優(yōu)選高于600℃。CTE對(duì)于薄玻璃的上述抗熱震性來(lái)說(shuō)也有重要意義。具有低CTE和低的楊氏模量的玻璃具有較高抗熱震性并且對(duì)更易于因溫度梯度產(chǎn)生破裂；并且具有以下優(yōu)點(diǎn)，化學(xué)預(yù)應(yīng)力化處理和其它高溫處理、例如涂布和切削中的熱應(yīng)力的不均勻分布被降低。CTE應(yīng)小于10×10-6/K，通常小于8×10-6/K，優(yōu)選小于7×10-6/K，甚至更優(yōu)選小于6×10-6/K，最優(yōu)選小于5×10-6/K。對(duì)溫差的抗性(RTG)可以通過(guò)以下試驗(yàn)來(lái)測(cè)定。首先，生產(chǎn)250×250mm2玻璃樣品。該樣品板的中心區(qū)域加熱至規(guī)定的溫度，而同時(shí)邊緣處于室溫下。板的熱的中心區(qū)域和該板的涼的邊緣之間的溫差表示玻璃對(duì)溫差的抗性，如果在小于5％的樣品發(fā)生破裂。對(duì)于薄玻璃的應(yīng)用，RTG值應(yīng)大于50K，優(yōu)選大于100K，更優(yōu)選大于150K，最優(yōu)選大于200K。對(duì)抗熱震性進(jìn)行(RTS)試驗(yàn)的工序如下進(jìn)行：首先，生產(chǎn)200×200mm2的玻璃樣品，然后將樣品在環(huán)境空氣爐中加熱，接著50毫升的冷水(室溫)被注入在樣品板的中心區(qū)域上。相對(duì)于溫度變化的抗性的值是熱板和冷水(室溫)之間的溫差，其中小于5％的樣品中發(fā)生破裂。對(duì)于薄玻璃的使用，RTS值應(yīng)大于75K，優(yōu)選大115K，更優(yōu)選大于150K，并且最優(yōu)選大于200K。R是理論計(jì)算值，以便評(píng)估抗熱震性，而不必進(jìn)行熱震試驗(yàn)。然而，玻璃的抗熱震性也受到其他因素的影響，例如樣品的厚度和處理歷史。RTS是一個(gè)試驗(yàn)結(jié)果，該試驗(yàn)結(jié)果測(cè)量預(yù)定條件下玻璃的具體抗熱震性。在計(jì)算R時(shí)考慮玻璃材料的特性，其中RTS在實(shí)際應(yīng)用中與其他因素相關(guān)。如果玻璃的其他條件是相同的，RTS與R成比例。ΔT也是理論計(jì)算值，就像R那樣，以便評(píng)價(jià)玻璃材料的抗熱震性，而不必進(jìn)行熱震試驗(yàn)。然而，相對(duì)于溫差，玻璃的抗性也高度依賴(lài)具體條件，如玻璃樣品的尺寸、玻璃的厚度和玻璃的處理歷史。RTG是試驗(yàn)結(jié)果，該結(jié)果在預(yù)定條件下測(cè)量玻璃相對(duì)于溫差的抗性。在計(jì)算ΔT時(shí)考慮玻璃材料的特性，其中RTG涉及實(shí)際應(yīng)用中的其他因素。RTG與ΔT成比例，但不必與其相同。在一個(gè)實(shí)施例中，具有低CTE的硼硅酸鹽玻璃在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化處理中具有高得多的產(chǎn)率(大于95％)，而由于由較大的CS和DoL引起的較高CT，所有的鋁硅酸鹽玻璃破裂。表3示出表1中所示的實(shí)施例的特性。表3-根據(jù)本發(fā)明的示例性薄玻璃的特性*這是化學(xué)預(yù)應(yīng)力化前玻璃的強(qiáng)度；這也受切割方法影響；**ε單位是GPa·cm3/g。材料強(qiáng)度也影響抗熱震性，因?yàn)橹挥挟?dāng)熱應(yīng)力超過(guò)材料強(qiáng)度時(shí)由于熱應(yīng)力而發(fā)生破裂。在低于120MPa的受控的CT下進(jìn)行適當(dāng)物理鋼化之后，玻璃的強(qiáng)度可以提高而抗熱震性也可以提高。表4示出了根據(jù)表3的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化玻璃的示例的值。表4-化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后示例性玻璃的特性*是化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后玻璃的強(qiáng)度；這也受切割方法影響。薄玻璃還優(yōu)選具有低的具體楊氏模量，以提供更好的柔性。因此，本發(fā)明的薄玻璃具有較低的剛性和更好的可彎曲性，這對(duì)于卷到卷處理和操作來(lái)說(shuō)是特別好的。玻璃的剛性由具體楊氏模量定義：其中E表示楊氏模量，而ρ是玻璃的密度。由于玻璃的密度不隨其成分顯著改變，具體楊氏模量?jī)?yōu)選小于84GPa，優(yōu)選小于73GPa，并且甚至更優(yōu)選小于68GPa，以便產(chǎn)生柔性足以彎曲的薄玻璃。玻璃的剛性ε優(yōu)選小于33.5GPa·cm3/g，更優(yōu)選小于29.2Gpa·cm3/g，并且甚至更優(yōu)選小于27.2GPa·cm3/g。如果玻璃是可彎曲的并且沒(méi)有發(fā)生斷裂(半徑r)，玻璃的柔性f由彎曲半徑表征并且一般通過(guò)以下等式限定：f＝1/Radius。彎曲半徑作為材料的彎曲位置的內(nèi)側(cè)弧形被測(cè)量。彎曲半徑定義為在彎曲位置中的圓的弧線(xiàn)的最小半徑，其中玻璃在折斷或被破壞或破裂之前達(dá)到最大撓度。越小的r表示玻璃越大的柔性和彎曲。彎曲半徑是由玻璃厚度、楊氏模量和強(qiáng)度確定的參數(shù)。化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的薄玻璃具有小的厚度、小的楊氏模量和高強(qiáng)度。所有這三個(gè)因素有助于獲得小的彎曲半徑和更好的柔性。本發(fā)明的硬化的柔性玻璃優(yōu)選具有的彎曲半徑為300mm或更小，更優(yōu)選250mm或更小，甚至更優(yōu)選200mm或更小，特別是150mm或更小，特別優(yōu)選為100mm或更小，最特別優(yōu)選50mm或更小。本發(fā)明的目的還提供一種生產(chǎn)涂布的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的柔性薄玻璃的方法，該方法包括：優(yōu)選通過(guò)切削較厚的玻璃、蝕刻較厚的玻璃、下拉法、溢流熔融法、浮法或再拉伸法、優(yōu)選下拉和溢流熔融方法來(lái)生產(chǎn)薄玻璃。玻璃的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化；和在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之前或之后，將一個(gè)或若干個(gè)粘合促進(jìn)層以及可選的一個(gè)或若干個(gè)功能層涂覆在玻璃上。已經(jīng)詳細(xì)描述了生產(chǎn)薄玻璃的方法以及預(yù)應(yīng)力化方法。因此，詳細(xì)說(shuō)明用粘合促進(jìn)層涂布薄玻璃。該方法優(yōu)選包括以下步驟：在提供薄的、可能已經(jīng)被化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的玻璃基底后，待涂布的表面或表面區(qū)域優(yōu)選首先被清潔。與玻璃基底相關(guān)，用流體進(jìn)行清潔是常見(jiàn)工序。因而使用各種清潔流體，例如軟化水或水性體系、例如稀釋堿液(pH值>9)和酸、洗滌劑溶液或非水性溶劑、例如醇或酮。在本發(fā)明的一個(gè)額外的實(shí)施例中，薄玻璃基底也可以在涂覆之前進(jìn)行活化。這種活化處理包括氧化、電暈放電、火焰處理、UV處理、等離子體活化和/或機(jī)械方法、如粗糙化、噴砂、或用酸和/或堿液對(duì)待活化的基底的處理。此外，表面處理可以用來(lái)為玻璃提供功能。例如，柔性玻璃層或板可以設(shè)置有用于在不利條件下使用的防眩光(AG)功能。該表面可以為此適當(dāng)進(jìn)行處理，優(yōu)選通過(guò)噴砂或化學(xué)蝕刻?；瘜W(xué)蝕刻之后，薄玻璃的表面具有優(yōu)選50至300nm的粗糙度，以實(shí)現(xiàn)最佳的AG效果，由此在60°的反射角下的光澤度優(yōu)選在30至120之間，更優(yōu)選在40至110之間，甚至更優(yōu)選在50至100之間；在20°的反射角下的光澤度優(yōu)選在30至100之間，更優(yōu)選在40至90之間，甚至更優(yōu)選在50至80之間；在85°反射角下的光澤度優(yōu)選在20至140之間，更優(yōu)選在30至130之間，甚至更優(yōu)選在40至120之間；而AG表面的濁度優(yōu)選在3至18之間，更優(yōu)選在5至15之間，甚至更優(yōu)選在7至13之間。隨后，粘合促進(jìn)層是通過(guò)合適的涂覆方法來(lái)涂覆，例如通過(guò)物理或化學(xué)氣相沉積、通過(guò)火焰熱解或溶膠-凝膠法。利用后者，通過(guò)浸漬、蒸氣涂覆、噴涂，用輥進(jìn)行涂布、擦拭法，或涂布或輥處理和/或刮刀處理或另一種合適的方法，粘合促進(jìn)層能被涂覆在表面上。在這里浸漬和噴涂是優(yōu)選的。在優(yōu)選的溶膠-凝膠法中，處于溶解狀態(tài)的有機(jī)金屬原料的反應(yīng)被用于形成層。通過(guò)有機(jī)金屬原料的受控水解和縮合反應(yīng)，生成金屬氧化物網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，該金屬氧化物網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)是其中金屬原子通過(guò)氧原子彼此聯(lián)系同時(shí)消除應(yīng)產(chǎn)物、如醇和水的結(jié)構(gòu)。水解可以通過(guò)添加催化劑來(lái)加速。在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，薄玻璃在溶膠-凝膠涂布過(guò)程中以約200mm/min至約900mm/min、優(yōu)選約300mm/min的速度從溶液拉出，由此周?chē)諝獾乃吭?g/m3和約12g/m3之間、更優(yōu)選在約8g/m3左右。如果溶膠-凝膠涂層溶液被使用或儲(chǔ)存一段較長(zhǎng)時(shí)間，有利的是通過(guò)添加一個(gè)或若干個(gè)絡(luò)合劑使溶液穩(wěn)定。這些絡(luò)合劑必須可溶于浸漬溶液，并應(yīng)與浸漬溶液中的溶劑有利地相容。優(yōu)選地使用同時(shí)具有形成絡(luò)合特性的有機(jī)溶劑，如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酰丙酮、乙酰乙酸酯、甲基-乙基酮丙酮或類(lèi)似的化合物。這些穩(wěn)定劑優(yōu)選以1至1.5ml/l的量添加到溶液。在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，例如根據(jù)圖4中，粘合促進(jìn)層20根據(jù)溶膠-凝膠原理涂覆以便產(chǎn)生玻璃基底。為了在制備的、清洗的薄玻璃10的至少一個(gè)表面上生產(chǎn)混合的硅氧化物層作為粘合劑促進(jìn)層，所述玻璃浸漬到包括硅的可水解化合物的有機(jī)溶液中。然后，該玻璃均勻地從該溶液中拉出進(jìn)入含水分的大氣中。形成中的混合硅-氧化物-粘合促進(jìn)前體層的層厚是通過(guò)浸漬溶液中的硅初始化合物的濃度以及拉出速度決定。在涂覆后，該層可被干燥，以便在轉(zhuǎn)移入高溫爐期間獲得更大的機(jī)械強(qiáng)度。該干燥可以在很寬的溫度范圍中進(jìn)行。在200℃范圍中的溫度下，通常幾分鐘的干燥時(shí)間是必需的。更低的溫度導(dǎo)致更長(zhǎng)的干燥時(shí)間。也可以在層涂覆之后緊接著在高溫爐中進(jìn)行熱預(yù)應(yīng)力化。這里的干燥步驟有助于涂層的機(jī)械穩(wěn)定性。從涂覆的凝膠膜中形成基本上氧化的粘合促進(jìn)層在高溫步驟中進(jìn)行，其中有機(jī)成分從凝膠中燒盡。為了生產(chǎn)最終混合硅氧化物層作為粘合促進(jìn)層，該粘合促進(jìn)前體層在低于玻璃的軟化溫度的溫度下、優(yōu)選在基底表面溫度低于550℃的溫度下、特別優(yōu)選是350至500℃、并且特別優(yōu)選400至500℃的溫度下烘烤。根據(jù)基體玻璃的軟化溫度，也能應(yīng)用大于550℃的溫度。然而，這些無(wú)助于粘合強(qiáng)度的另外提高。從有機(jī)溶液生產(chǎn)薄氧化物層很多年來(lái)是已知的，如下列文獻(xiàn)、H.的“薄膜物理學(xué)”，學(xué)術(shù)出版社，紐約和倫敦(1967，第87-141頁(yè))，或US4568578中所記載。無(wú)機(jī)溶膠-凝膠材料(根據(jù)該材料生產(chǎn)溶膠-凝膠層)優(yōu)選是縮合物，特別是包含一個(gè)或若干個(gè)可水解且可縮合或縮合的硅烷和/或金屬醇鹽、優(yōu)選Si、Ti、Zr、Al、Nb、Hf和/或Ge的醇鹽。在溶膠-凝膠法中，通過(guò)無(wú)機(jī)水解和/或縮合而交聯(lián)的基團(tuán)優(yōu)選可以是以下的官能團(tuán)：TiR4、ZrR4、SiR4、AIR3、TiR3(OR)、TiR2(OR)2、ZrR2(OR)2、ZrR3(OR)、SiR3(OR)、SiR2(OR)2、TiR(OR)3、ZrR(OR)3、AIR2(OR)、AIR(OR)2、Ti(OR)4、Zr(OR)4、Al(OR)3、Si(OR)4、SiR(OR)3和/或Si2(OR)6和/或下述具有OR的殘基或基團(tuán)中的一個(gè)：烷氧基，如優(yōu)選甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丙氧基乙氧基、甲氧基丙氧基、苯氧基、乙酰氧基、丙酰氧基、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、甲基丙烯酰、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙酰丙酮、乙基乙酰乙酸酯、乙氧基乙酸酯、乙氧基乙酸酯、甲氧基乙酸酯和/或甲氧基-乙氧基-乙氧基乙酸酯，和/或下述具有R的殘基或基團(tuán)中的一個(gè)：Cl、Br、F、甲基、乙基、苯基、正丙基、丁基、烯丙基、乙烯基、縮水甘油基丙基、甲基丙烯酰氧基、氨基丙基和/或氟辛基。所有的溶膠-凝膠反應(yīng)的共同點(diǎn)是，分子分散的前體最初是通過(guò)水解、縮合和聚合反應(yīng)而反應(yīng)為特定的分散或膠體體系。根據(jù)所選擇的條件，初始形成的“初級(jí)粒子”可以進(jìn)一步成長(zhǎng)、結(jié)合以形成簇，或者相反地可形成線(xiàn)性鏈。獲得的單元導(dǎo)致由于去除溶劑而形成的微結(jié)構(gòu)。在理想的情況下，該材料可以熱完全壓縮。然而，在現(xiàn)實(shí)中，一定程度的孔隙率甚至通常在某些情況下保持大量殘余孔隙。因此溶膠生產(chǎn)過(guò)程中的化學(xué)條件對(duì)溶膠-凝膠涂層的性質(zhì)具有決定性的影響，如在P.“溶膠-凝膠涂層”、高級(jí)培訓(xùn)課程2003、“玻璃的表面處理”-德國(guó)玻璃工業(yè)研究協(xié)會(huì)中描述的。至今密切考察硅原料。在這方面，我們參考C.Brinker、G.Scherer的“Sol-Gel-Science–ThePhysicsandChemistryofSol-GelProcessing”(科學(xué)出版社，波士頓1990年)、和R.Iller的“TheChemistryofSilica”(威利，紐約，1979年)。最常用的硅原料通常是化學(xué)式為Si(OR)4的硅醇鹽，其在加入水時(shí)進(jìn)行水解。在酸性條件下優(yōu)選形成線(xiàn)性集合體。在堿性條件下硅醇鹽反應(yīng)以形成更高度交聯(lián)的“球狀”顆粒。溶膠-凝膠涂層包含預(yù)縮合顆粒和簇。通常硅酸四乙基酯或硅酸四甲基酯用于生產(chǎn)作為起始化合物的硅氧化物浸漬溶液。其以下述的順序與有機(jī)溶劑、例如乙醇，水解水和作為催化劑的酸混合并充分?jǐn)嚢?。添加到其中的?yōu)選是水解水無(wú)機(jī)酸、例如HNO3、HCI、H2SO4、或有機(jī)酸、如乙酸、乙氧基乙酸、甲氧基乙酸、聚醚碳酸(例如乙氧基-乙氧基乙酸)、檸檬酸、對(duì)甲苯磺酸、乳酸、甲基丙烯酸或丙烯酸。在一個(gè)特殊的實(shí)施例中，它們的水解是完全或部分堿性地進(jìn)行，例如通過(guò)使用NH4OH和/或四甲基銨氫氧化物和/或NaOH。為了生產(chǎn)用于本發(fā)明的玻璃基底的粘合促進(jìn)層，優(yōu)選如下地制造浸漬溶液：用于混合硅-氧化物層的硅初始化合物溶解在一種或數(shù)種有機(jī)溶劑中。可以使用任何有機(jī)溶劑，該有機(jī)溶劑使硅起始化合物溶解并且還能溶解足夠量的水，該水對(duì)于硅起始化合物的水解是必需的。合適的溶劑例如是甲苯、環(huán)己烷或丙酮，但尤其是C1至C6醇，例如甲醇、丙醇、丁醇、戊醇、己醇或它們的異構(gòu)體。有利的是使用低級(jí)醇，特別是甲醇和乙醇，因?yàn)檫@些都易于處理并且具有相對(duì)較低的蒸氣壓。對(duì)硅氧化物來(lái)說(shuō)，使用的硅起始化合物特別是硅酸C1-C4烷基酯，即硅酸甲基酯、硅酸乙基酯、硅酸丙基酯或硅酸丁基酯。硅酸甲基酯是優(yōu)選的。有機(jī)溶劑中的硅起始化合物的濃度通常是在0.05至1摩爾/升左右。對(duì)于硅初始化合物的水解來(lái)說(shuō)，該溶液在所述的示例中與0.05至12重量％的水、優(yōu)選蒸餾水和0.01-7重量％的酸催化劑混合。到此為止，有機(jī)酸、如乙酸、甲氧基乙酸、聚醚碳酸(例如乙氧基-乙氧基乙酸)、檸檬酸、對(duì)甲苯磺酸、乳酸、甲基丙烯酸或丙烯酸或無(wú)機(jī)酸、如HNO3、HCl或H2SO4是優(yōu)選添加的。溶液的pH值應(yīng)優(yōu)選在約0.5和≤3之間。如果該溶液酸度不夠(pH為>3)，則存在縮聚物/簇變得太大的危險(xiǎn)。如果溶液酸度大，則存在溶液形成凝膠體的風(fēng)險(xiǎn)。在另外的實(shí)施例中，溶液可以?xún)刹襟E生產(chǎn)。如上所述進(jìn)行第一步驟。然后該溶液被放置以便熟化。獲得熟化時(shí)間，因?yàn)槭旎娜芤河昧硗獾娜軇┫♂尯?或通過(guò)使溶液的pH值變?yōu)閺?qiáng)酸范圍使熟化中斷。變?yōu)?.5至2.5的pH值范圍是優(yōu)選的。優(yōu)選通過(guò)添加無(wú)機(jī)酸、甚至更優(yōu)選通過(guò)添加鹽酸、硝酸、硫酸或磷酸或任何有機(jī)酸、如草酸等來(lái)實(shí)現(xiàn)將pH值變?yōu)閺?qiáng)酸范圍。強(qiáng)酸優(yōu)選添加到其中硅初始化合物已經(jīng)以溶解狀態(tài)存在的溶劑中。這里，也可以將足量的酸與溶劑一起添加，更優(yōu)選也以醇溶液方式添加，以便在一個(gè)步驟中進(jìn)行初始溶液的稀釋和熟化過(guò)程的中斷。在一個(gè)特殊的實(shí)施例中，在堿性介質(zhì)中完全或部分地進(jìn)行水解，例如通過(guò)使用NH4OH和/或四甲基銨氫氧化物和/或NaOH。溶膠-凝膠涂層包含可以具有不同結(jié)構(gòu)的預(yù)縮合顆粒和簇。這些結(jié)構(gòu)可以通過(guò)進(jìn)行散射光試驗(yàn)來(lái)確定。通過(guò)工藝參數(shù)、如溫度、加入速率、攪拌速度、但特別通過(guò)pH值，這些結(jié)構(gòu)在溶膠中產(chǎn)生是可行的。已經(jīng)顯示，使用具有小于或等于20nm、優(yōu)選小于或等于4nm、甚至更優(yōu)選在1至2nm的范圍內(nèi)的直徑的較小的硅氧化物聚縮物/簇有助于生產(chǎn)相比于比傳統(tǒng)硅氧化物層更密集壓縮的浸漬層。這例如導(dǎo)致該層的耐化學(xué)性的提高。為了產(chǎn)生混合的硅氧化物層，將添加劑添加到硅初始化合物中。這種添加劑提供耐化學(xué)性和粘合促進(jìn)層的功能的提高。因而，該溶液混合有少量的添加劑，該添加劑本身均勻地分布在溶液中并隨后也均勻分布在層中，從而形成混合氧化物。合適的添加劑是可水解或離解的無(wú)機(jī)鹽，其可以含有結(jié)晶水，該無(wú)機(jī)鹽選自錫、鋁、磷、硼、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮和/或鎂的鹽，例如SnCl4、SnCl2、AlCl3、Al(NO3)3、Mg(NO3)2、MgCl2、MgSO4、TiCl4、ZrCl4、CeCl3、Ce(NO3)3等。這些無(wú)機(jī)鹽可以水性形式使用或也與結(jié)晶水一起使用。它們通常是優(yōu)選的，因?yàn)樗鼈兊某杀镜?。在另外的?shí)施例中，根據(jù)本發(fā)明，添加劑能從錫、鋁、磷、硼、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮和/或鎂、優(yōu)選鈦、鋯、鋁或鈮的一種或幾種金屬氧化物選擇。也合適的是：磷酸酯，如磷酸甲酯或磷酸乙酯；磷酸鹵化物，如氯化物和溴化物；硼酸酯，如乙基酯、甲基酯、丁基酯或丙基酯；硼酸酐、BBR3、BCl3、甲醇鎂或乙醇鎂等。該一個(gè)或多個(gè)添加劑例如以基于SiO2計(jì)的溶液中的硅飽和度而以氧化物計(jì)的約0.5至20重量％的濃度添加。添加劑也可以任何期望的組合使用。如果浸漬溶液被使用或儲(chǔ)存較長(zhǎng)的時(shí)間，有利的是通過(guò)添加一個(gè)或若干個(gè)絡(luò)合劑使溶液穩(wěn)定。這些絡(luò)合劑應(yīng)可溶于浸漬溶液，并應(yīng)與浸漬溶液中的溶劑一致?？梢允褂玫慕j(luò)合劑例如包括乙酰乙酸乙酯、2,4-戊二酮(乙酰丙酮)、3,5-庚烷、4,6-壬二酮、3-甲基-2,4-戊二酮、2-乙酰丙酮、三乙醇胺、二乙炔胺、乙醇胺、1,3-丙二醇、1,5-戊二醇、碳酸、如乙酸、丙酸、乙氧基乙酸、甲氧基乙酸、聚醚-碳酸(即乙氧基乙酸)、檸檬酸、乳酸、甲基-丙烯酸和丙烯酸等。這里，絡(luò)合劑與類(lèi)金屬氧化物前體和/或金屬氧化物前體的摩爾比在0.1至5的范圍內(nèi)。除了化學(xué)預(yù)應(yīng)力化，涂覆到玻璃的涂層和玻璃本身的屬性、薄玻璃的處理也在強(qiáng)度和柔性方面起作用。對(duì)柔性薄玻璃來(lái)說(shuō)，可能的處理方法包括使用金剛石刀頭或切割輪或合金切割輪的機(jī)械切割、熱切割、激光切割或水射流切割。結(jié)構(gòu)化處理、諸如邊緣或表面上的超聲波鉆孔、噴砂和化學(xué)蝕刻也可以用于生產(chǎn)玻璃層或板上的紋理。激光切割包括常規(guī)和非常規(guī)的激光切割。常規(guī)的激光切割通過(guò)連續(xù)波激光(CW)、諸如CO2激光或常規(guī)綠色激光、傳統(tǒng)的紅外激光、傳統(tǒng)的UV激光而實(shí)現(xiàn)。通過(guò)激光快速加熱、接著迅速淬火通常導(dǎo)致玻璃破裂和斷開(kāi)。利用高能量激光，但以非常低的切削速率，也可以進(jìn)行通過(guò)激光的直接加熱來(lái)蒸發(fā)材料。這兩種方法都導(dǎo)致不期望的微小撕裂和粗糙的表面光潔度。利用傳統(tǒng)的激光法切割的材料需要用于去除不需要的邊緣和表面損傷的后處理。在薄玻璃上，邊緣難以處理，因此，傳統(tǒng)的激光切割工藝通常隨后進(jìn)行化學(xué)蝕刻以用于進(jìn)行精加工。非傳統(tǒng)的激光切割是基于超短脈沖激光的絲，由此超短激光脈沖在納秒或微微秒或毫微微秒或微微微秒的范圍內(nèi)使用，即通過(guò)由脈沖激光的自聚焦或絲化所引起的等離子體解離來(lái)切割脆性材料。這種非傳統(tǒng)方法確保更高質(zhì)量的切割邊緣、較低的表面粗糙度、較高的彎曲性和更快的處理。這種新的激光切割技術(shù)尤其適用于化學(xué)預(yù)應(yīng)力化玻璃和難以用常規(guī)方法切割的其它透明材料。盡管存在現(xiàn)在可用的非傳統(tǒng)的激光切割方法，但將玻璃基底分割成若干個(gè)更小的單獨(dú)的板對(duì)于預(yù)應(yīng)力化玻璃來(lái)說(shuō)仍是有問(wèn)題的并且在許多情況下大多數(shù)的分割方法不可用。因此，在實(shí)踐中，基底通常被分割成具有化學(xué)預(yù)應(yīng)力化玻璃的單個(gè)實(shí)體。然后基底的單個(gè)板被預(yù)應(yīng)力化并進(jìn)行進(jìn)一步的處理步驟。然而，這種方法顯然更復(fù)雜。因此本發(fā)明的目的還在于提供用來(lái)生產(chǎn)涂布的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的柔性薄玻璃的方法，該方法包括：-優(yōu)選通過(guò)切削較厚的玻璃、蝕刻較厚的玻璃、下拉法、溢流熔融法、浮法或再拉伸法、優(yōu)選下拉和溢流熔融方法來(lái)生產(chǎn)薄玻璃；-對(duì)玻璃進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化；和-在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之前或之后，將粘合促進(jìn)層以及可選的一個(gè)或若干個(gè)功能層涂覆在玻璃上；和-如果需要的話(huà)，將玻璃分割成更小的實(shí)體，其中，如下進(jìn)行該分割：在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之前，至少一個(gè)凹槽(relief)被加工在玻璃的至少一側(cè)上，并且在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后，該玻璃沿著所述至少一個(gè)凹槽被分割成較小的單元；或者化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的玻璃沿至少一條線(xiàn)加熱至高于玻璃轉(zhuǎn)變溫度Tg、優(yōu)選高于退火溫度上限的溫度，并隨后沿著該線(xiàn)被分割成較小的單元。所以，分割成各實(shí)體也能在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后進(jìn)行，壓痕形式的凹槽沿著期望的分割線(xiàn)被初始地加工在基底的至少一側(cè)上。可以通過(guò)任何已知的處理方法引入至少一個(gè)凹槽，例如機(jī)械方法、尤其是對(duì)玻璃進(jìn)行磨削或劃刻；熱加工、特別是通過(guò)激光燒蝕；或通過(guò)蝕刻處理的化學(xué)方法。由此，可以設(shè)置取料，使得在分割之后獲得期望的邊緣幾何形狀，例如V形或U形或矩形的截面。可以生產(chǎn)具有C形邊緣的圓形邊緣或基底，由此基底沿邊緣具有弧形輪廓。還優(yōu)選的是倒角邊緣，特別是具有圓形的或角形的倒角。在引入至少一個(gè)凹槽之后，待分割的基底的部分仍通過(guò)保持板彼此附接。也可在基底的兩側(cè)上引入彼此相對(duì)的兩個(gè)凹槽，使得在兩側(cè)上存在到保持板的臺(tái)階。在所述至少一個(gè)凹槽加工后，基底被化學(xué)預(yù)應(yīng)力化，由此沿著它分割基底的線(xiàn)已經(jīng)以凹槽的方式引入。然后，基底沿著至少一個(gè)凹槽分割。這是可行的，因?yàn)槭Ｓ喟搴鼙。沟闷涫艿矫黠@減小的預(yù)應(yīng)力化并且側(cè)向應(yīng)力也減小。因此，僅在預(yù)應(yīng)力化之后將基底分割成各片，使得可以在基板分割之前進(jìn)行另外的處理步驟。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，因此可進(jìn)行下面的工序：-在薄玻璃基底的至少一個(gè)表面中生成至少一個(gè)凹槽；-對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化；-用粘合促進(jìn)層并且如果需要的話(huà)用至少一個(gè)功能層對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行涂布；以及-對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行分割。因此，根據(jù)一個(gè)另外的實(shí)施例，可進(jìn)行下面的工序：-在薄玻璃基底的至少一個(gè)表面中生成至少一個(gè)凹槽；-用粘合促進(jìn)層并且如果需要的話(huà)用至少一個(gè)功能層對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行涂布；-對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化；和-對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行分割。根據(jù)該方法，化學(xué)預(yù)應(yīng)力化也延伸到已經(jīng)預(yù)成形的邊緣和其附近。在引入凹槽之后剩余的板具有基底的一半厚度，優(yōu)選基底的四分之一厚度，特別優(yōu)選最多基底的八分之一厚度。剩余的板的厚度優(yōu)選在10μm至500μm之間，更優(yōu)選在20至300μm之間，特別優(yōu)選在50至150μm之間。在生成凹槽之后，剩余的板所具有的厚度為通過(guò)預(yù)應(yīng)力化處理所述產(chǎn)生的層的厚度的最大四倍、優(yōu)選最大三倍、特別優(yōu)選最大兩倍。上述方法的替代方法中，玻璃基底的分割、即將基底分割成若干片可以在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后進(jìn)行，因?yàn)榛瘜W(xué)預(yù)應(yīng)力化的玻璃基底沿著至少一條線(xiàn)加熱到高于玻璃轉(zhuǎn)變溫度Tg、優(yōu)選高于退火溫度上限的溫度。在這里，退火溫度上限被理解為是這樣的溫度，即在該溫度下玻璃具有的粘度為1013dPas，并且在該溫度下玻璃迅速松弛。然后沿著這條線(xiàn)分割玻璃基底。通過(guò)局部加熱，由化學(xué)預(yù)應(yīng)力化處理產(chǎn)生的預(yù)應(yīng)力可以此方式局部地去除，使得可以通過(guò)傳統(tǒng)的、特別是通過(guò)張力引起的分割工藝、例如通過(guò)機(jī)械劃割來(lái)進(jìn)行分割，或通過(guò)激光分割來(lái)進(jìn)行分割。因此，根據(jù)另外的實(shí)施例，可進(jìn)行如下工序：-用粘合促進(jìn)層并且如果需要的話(huà)用至少一個(gè)功能層對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行涂布；-對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化；-在薄玻璃基底的至少一個(gè)表面上沿至少一條線(xiàn)加熱到高于玻璃的轉(zhuǎn)變溫度Tg的溫度；和-將薄玻璃基底分割成各實(shí)體。因此，根據(jù)額外的實(shí)施例，可進(jìn)行下面的工序：-對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化；-用粘合促進(jìn)層并且如果需要的話(huà)用至少一個(gè)功能層對(duì)薄玻璃基底進(jìn)行涂布，-在薄玻璃基底的至少一個(gè)表面上沿至少一條線(xiàn)加熱到高于玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg的溫度；和-將薄玻璃基底分割成各實(shí)體。加熱在任何情況下均不必沿連續(xù)線(xiàn)均勻地進(jìn)行。它也可以在進(jìn)行分割的線(xiàn)的一部分上進(jìn)行，或者它也可以在幾個(gè)點(diǎn)等上進(jìn)行。為了提供足夠的時(shí)間以用于使基底材料放松，玻璃基底優(yōu)選沿著后來(lái)的分割線(xiàn)加熱至少0.5秒、優(yōu)選至少一秒的時(shí)間，達(dá)到高于玻璃的轉(zhuǎn)變溫度的溫度?？梢栽谝粋?cè)或兩側(cè)上進(jìn)行局部加熱。也可以在薄玻璃基底的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之后進(jìn)行分割成單個(gè)實(shí)體。本發(fā)明還涉及一種制品，其包含涂布的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的柔性薄玻璃，其中薄玻璃層或板的厚度為2mm或更小，優(yōu)選為1.2mm或更小，更優(yōu)選為500μm或更小，特別優(yōu)選為400μm或更小，最特別優(yōu)選為300μm或更小。本發(fā)明的主題也涉及涂布的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的柔性薄玻璃的用途，例如用于顯示器、尤其是計(jì)算機(jī)監(jiān)視器、平板計(jì)算機(jī)或平板電腦、電視、顯示面板、諸如大屏顯示器、導(dǎo)航設(shè)備、移動(dòng)電話(huà)、PDA或掌上電腦、用于機(jī)動(dòng)車(chē)輛或飛行器的筆記本電腦或顯示儀器，以及所有其他類(lèi)型的玻璃元件，其中涂布的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的柔性薄玻璃，優(yōu)選使用以下：作為例如用于電阻式觸摸屏的防護(hù)，以用于顯示器，移動(dòng)電話(huà)，筆記本電腦，電視，鏡子，窗戶(hù)，飛行器鏡子，家具和家用電器的防護(hù)，以避免干擾或?qū)Ρ榷葴p小的反射，作為蓋，例如太陽(yáng)能電池模塊的蓋，作為用于監(jiān)視器或顯示器觀(guān)看窗格的顯示面板，優(yōu)選作為3D顯示器或柔性顯示器，作為建筑領(lǐng)域的內(nèi)部和外部的的窗格，建筑領(lǐng)域是諸如商店櫥窗，照片相框，展柜，制冷單元，或?yàn)榱饲鍧嵍嬖谶M(jìn)入問(wèn)題的情況下用于為設(shè)置查看窗格，作為裝飾玻璃元件，特別是在具有較高污染風(fēng)險(xiǎn)的應(yīng)力區(qū)中，如廚房，浴室或試驗(yàn)室，作為用于交互式輸入元件的基底，其被設(shè)計(jì)特別用于觸摸功能，特別優(yōu)選具有電阻、電容、光學(xué)以及借助于紅外線(xiàn)或表面聲波有效觸摸技術(shù)，特別優(yōu)選為單，雙或多點(diǎn)觸摸顯示，作為組合元件中的基底，其中通過(guò)光學(xué)適應(yīng)化合物利用組合元件內(nèi)的氣室避免在一個(gè)或若干個(gè)界面表面上的反射。顯然，本發(fā)明不限于前述的實(shí)施例，但是能以多種的方式改變。其他實(shí)施例是可能的。在下面參考試驗(yàn)和示例描述本發(fā)明，但是測(cè)試和示例不限制本發(fā)明。示例化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的薄玻璃強(qiáng)度的檢測(cè)測(cè)試1具有表1中的示例1的成分的玻璃在1600℃熔融，通過(guò)下拉法形成440×360×0.2mm3的起始玻璃層或板，然后利用具有超過(guò)200個(gè)金剛石齒的常規(guī)的磨削切割輪進(jìn)行切割。樣品的尺寸為100×100×0.2mm3。總共生產(chǎn)40個(gè)樣品。然后，20個(gè)樣品在100％的KNO3中在430℃下化學(xué)預(yù)應(yīng)力化15小時(shí)。出于參考的目的，余下的20個(gè)樣品沒(méi)有進(jìn)行化學(xué)預(yù)加應(yīng)力化。離子交換之后，預(yù)應(yīng)力化的樣品被清潔并用FSM6000測(cè)量。結(jié)果表明，該平均CS為122MPa而DoL是14μm。玻璃的強(qiáng)度是通過(guò)三點(diǎn)彎曲測(cè)試來(lái)測(cè)量的。在測(cè)試中，玻璃樣品水平放置在兩個(gè)平行的剛性金屬棒上，一個(gè)金屬棒放置在玻璃上，向下按壓玻璃直至其破裂。三點(diǎn)彎曲的結(jié)果表明，該玻璃具有147MPa的高彎曲強(qiáng)度，并且可以達(dá)到45mm的彎曲半徑而不破裂。非預(yù)預(yù)應(yīng)力化的樣品的(彎曲)強(qiáng)度是比約86MPa低得多，而彎曲半徑約100mm?；瘜W(xué)預(yù)應(yīng)力化后柔性明顯提高，并且處理過(guò)程中玻璃更不可能破裂。具有如表5中所示的成分的市場(chǎng)上可獲得的鈉鈣玻璃生產(chǎn)為具有0.2mm的相同厚度，在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化之前彎曲半徑為約160mm。相比于示例1，鈉鈣玻璃具有較小的柔性，因?yàn)榕鹗共ＡУ膭傂詼p小。鈉鈣玻璃也具有小的抗熱震性(R<159W/m)并且在化學(xué)預(yù)應(yīng)力化過(guò)程中發(fā)生破裂，使得產(chǎn)率通常低于50％。由于優(yōu)良的抗熱震性和對(duì)溫差的抗性，具有表1的示例1的成分的化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的樣品的產(chǎn)率高于95％。測(cè)試2具有表2中的示例1的成分的玻璃熔融，通過(guò)下拉法形成440×360mm且厚度為0.1mm的起始玻璃層或板，然后利用常規(guī)的金剛石刀頭進(jìn)行切割。樣品的尺寸為50×50mm2。總共生產(chǎn)120個(gè)樣品。然后，在不同條件下，100個(gè)樣品在100％KNO3中進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化。出于參考的目的，在余下的20個(gè)樣品沒(méi)有進(jìn)行化學(xué)預(yù)應(yīng)力化。預(yù)應(yīng)力化之后，清洗離子交換的玻璃樣品并用SFSM6000裝置測(cè)量它們的CS和DoL值。CS和DoL值在圖1中示出。這些樣品的機(jī)械強(qiáng)度用三點(diǎn)彎曲測(cè)試來(lái)測(cè)量。如圖2中所示，化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的玻璃顯示柔性提高。與未預(yù)應(yīng)力化的樣品相比，化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的玻璃具有更好的威布爾分布，如圖3中示出的。威布爾分布說(shuō)明了未預(yù)應(yīng)力化的玻璃的樣本分布。應(yīng)注意，分布曲線(xiàn)變得更豎直，表明該預(yù)應(yīng)力化處理后樣本分布較小并且品質(zhì)更均勻，證明了該玻璃在實(shí)踐中的可靠性。還生產(chǎn)具有表5中所示的成分的市場(chǎng)上可獲得的鋁硅酸鹽玻璃樣品也以用于比較。原來(lái)的起始玻璃的0.8mm的厚度通過(guò)拋光和化學(xué)蝕刻減小到0.1mm，并切割成50×50mm2的尺寸，以便用于化學(xué)預(yù)應(yīng)力化?；瘜W(xué)預(yù)應(yīng)力化處理過(guò)程中所有的樣品都破裂，因?yàn)镃S和DoL值很高(高于800MPa，或大于30μm)使得基于大CT(>600MPa)而發(fā)生自身破裂。事實(shí)上，對(duì)于在手機(jī)中使用的玻璃蓋，大CT(>700MPa)和大DoL(>40μm)不轉(zhuǎn)化為薄玻璃的柔性的提高。薄玻璃對(duì)溫差抗性的檢測(cè)測(cè)試3熔融具有根據(jù)表中的示例8的成分的玻璃，通過(guò)下拉法形成為具有440×360×0.3mm3的起始玻璃層或板，通過(guò)拋光和磨削減薄，然后用金剛石切割器切成250×250×0.3mm3的尺寸，以測(cè)試對(duì)溫差的抗性。在400℃下化學(xué)預(yù)應(yīng)力化3小時(shí)后，樣品板或?qū)拥闹行牟糠旨訜岬较薅ǖ臏囟?，而邊緣或角部保持在室溫下。如?％或更少的樣品發(fā)生破裂，那么板或?qū)拥臒岬闹行呐c板或?qū)拥睦涞倪吘壷g的溫差表示玻璃的溫差抗性。記錄樣品，從而使所有樣品都具有大于200K的溫差抗性。在試驗(yàn)之前，用具有40粒度的砂紙摩擦樣品，以便模擬在實(shí)際應(yīng)用中可能發(fā)生的極端損壞。這以適當(dāng)方式證實(shí)了薄玻璃具有非常高的可靠性。薄玻璃的抗熱震性的檢測(cè)測(cè)試4熔融具有根據(jù)表1中的示例7的成分的玻璃，通過(guò)下拉法形成為具有440×360×0.2mm3的起始玻璃層或板，然后用金剛石切割器切成200×200×0.3mm3的尺寸，以測(cè)試抗熱震性。在400℃下樣品化學(xué)預(yù)應(yīng)力化4小時(shí)，然后在環(huán)境空氣爐中加熱，此后將50ml的冷水(室溫)注入到樣品板的中心區(qū)域上。玻璃的抗熱震性的值是熱板和冷水(室溫)之間的溫差，其中小于5％的樣品發(fā)生破裂。結(jié)果表明，該樣品具有150K的抗熱震性。在加熱之前，用具有220粒度的砂紙摩擦樣品以模擬實(shí)際使用過(guò)程中的表面的典型狀況。這以適當(dāng)方式證實(shí)了薄玻璃具有非常高的可靠性。受到切割處理時(shí)薄玻璃的強(qiáng)度的檢測(cè)測(cè)試5具有根據(jù)表1中的示例2的成分的玻璃通過(guò)下拉法生產(chǎn)為尺寸是440×360×0.1mm3。由20塊玻璃構(gòu)成的第一組樣品通過(guò)金剛石切割輪生產(chǎn)為尺寸是50×50×0.1mm3；由20塊玻璃構(gòu)成的第二組樣品通過(guò)金剛石刀頭生產(chǎn)為尺寸是50×50×0.1mm3；由20塊玻璃構(gòu)成的第三組樣品通過(guò)利用皮秒激光器的細(xì)絲切割生產(chǎn)為尺寸是50×50×0.1mm3；來(lái)自每組的十個(gè)樣品進(jìn)行三點(diǎn)彎曲測(cè)試。用金剛石切割輪切割的樣品具有約110MPa的平均強(qiáng)度，而用金剛石刀頭切割的樣品具有約140MPa的平均強(qiáng)度，用細(xì)絲處理來(lái)切割的樣品具有約230MPa的平均強(qiáng)度并具有最佳的邊緣和角部質(zhì)量。來(lái)自每組的十個(gè)樣品在400℃下在100％KNO3鹽浴中化學(xué)預(yù)應(yīng)力化3小時(shí)。所有樣品在幾乎相同的CS(300MPa)和DoL(18μm)值下進(jìn)行處理，然后它們?nèi)窟M(jìn)行三點(diǎn)彎曲試驗(yàn)。用金剛石切割輪切割的預(yù)應(yīng)力化樣品具有300MPa的強(qiáng)度，用金剛石刀頭切割的預(yù)應(yīng)力化樣品具有約330MPa的強(qiáng)度，用細(xì)絲切割加工切割的預(yù)應(yīng)力化樣品具有約400MPa的強(qiáng)度。因此，切割方法對(duì)化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的樣品強(qiáng)度有影響。表5-用于對(duì)比的市場(chǎng)上可獲得的玻璃的特性成分(重量％)市場(chǎng)上可獲得的AS-玻璃市場(chǎng)上可獲得的鈉鈣玻璃SiO265.270Al2O316.82Li2O0.01-Na2O14.413K2O0.021MgO3.364CaO0.0310SnO0.18-E72GPa73GPaCTE8.0×10-6/K9.0×10-6/K密度2.5g/cm32.5g/cm3Λ1W/mK1W/mKσ*127MPa131MPa切割處理金剛石切割輪金剛石切割輪R176W/m159W/mΔT352℃319℃*是沒(méi)有化學(xué)預(yù)應(yīng)力化的玻璃強(qiáng)度并且也受切割方法的影響。根據(jù)本發(fā)明的涂布有粘合促進(jìn)層的薄玻璃的功能涂層的長(zhǎng)期抗性的檢測(cè)玻璃基底1：(根據(jù)本發(fā)明)為了生產(chǎn)浸漬溶液，60.5ml的硅酸四乙基酯、30ml的蒸餾水和11.5克的1N的硝酸加入到125ml乙醇中并攪拌。在加入水和硝酸后，將溶液攪拌10分鐘，在此期間溫度不超過(guò)40℃。如果需要的話(huà)，該溶液必須冷卻。該溶液隨后用675ml乙醇稀釋。24小時(shí)后，溶于95ml乙醇和5ml乙酰丙酮中的10.9克的Al(NO3)3×9H2O加入到該溶液中。在仔細(xì)清潔之后，具有0.2mm的厚度的10×20cm的硼硅酸鹽浮法玻璃板浸入到浸漬溶液中。然后將板以6mm/秒的速度從溶液中取出，從而環(huán)境空氣中的水分含量為5g/m3至12g/m3，優(yōu)選8g/m3。然后在90℃至100℃下使溶劑蒸發(fā)，之后該層在450℃的溫度下固化20分鐘。這樣生產(chǎn)的粘合促進(jìn)層的層厚度為約90nm。玻璃基底2(對(duì)照示例)：根據(jù)溶膠-凝膠法，將根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)已知的常見(jiàn)的硅涂層(即根據(jù)本發(fā)明的不使用的混合硅-氧化物層)涂覆到薄玻璃上作為粘合促進(jìn)層。為了生產(chǎn)浸漬溶液，使用125ml乙醇。45Ml硅酸、40ml蒸餾水和5ml冰醋酸加入并攪拌。在加入水和醋酸之后，將溶液攪拌4小時(shí)，從而使溫度不超過(guò)40℃。如果需要的話(huà)，該溶液必須冷卻。反應(yīng)溶液隨后用790ml乙醇稀釋?zhuān)⑴c1ml的HCl混合。在仔細(xì)清潔之后，0.2mm厚度的10×20cm的硼硅酸鹽浮法玻璃板浸入浸漬溶液中。然后將板以6mm/秒的速度從溶液中取出，從而環(huán)境空氣中的水分含量為5g/m3至10g/m3，優(yōu)選8g/m3。然后在90℃至100℃下使溶劑蒸發(fā)，之后該層在450℃的溫度下固化20分鐘。這樣生產(chǎn)的粘合促進(jìn)層的層厚度為約90nm。玻璃基底3(對(duì)照示例)：使用沒(méi)有粘合促進(jìn)層的硼硅酸鹽浮法玻璃板。上述的玻璃基底1、2和3分別涂布有功能層。在當(dāng)前的示例中，下面描述的四種易清潔涂層被選擇作為功能層并分別涂覆到玻璃基底上：使用的易清潔涂層：-DaikinIndustriesLTD.的“OptoolTMAES4-E”，具有端基硅烷殘基的全氟醚。-SolvaySolexis公司的“S10”，具有兩個(gè)端基硅烷殘基的全氟醚。-用“F5”表示的自制涂層配方：Evonik的“F8261”用作前體。為了產(chǎn)生濃縮物，5克的前體8261、10g的乙醇、2.5g的H2O以及0.24g的HCl混合并攪拌2分鐘。3.5克的濃縮物與500ml的乙醇混合以用于涂層的配方F5。-Frankenstraβe190-63791Karlstein，CotecGmbH公司的“DuralonUltraTec”。利用該涂層，基底玻璃以真空工藝處理。用相應(yīng)的粘合促進(jìn)層涂布的基底玻璃放入真空容器中，該真空容器隨后抽空至低真空。片劑(直徑14mm，高5mm)實(shí)施例形式的“DuralonUltraTec”放置在蒸發(fā)器中，該蒸發(fā)器容納在真空容器內(nèi)。在該蒸發(fā)器中，涂層材料在100℃至400℃下從片劑的填充材料蒸發(fā)出來(lái)，并自沉積在基底的粘合促進(jìn)層的表面上。對(duì)于由“DuralonUltraTec”材料構(gòu)成的片劑的蒸發(fā)來(lái)說(shuō)，時(shí)間和溫度曲線(xiàn)按照CotecGmbH規(guī)定調(diào)整。在處理過(guò)程中，基底到達(dá)稍微升高的溫度，處于300K至370K的范圍內(nèi)。根據(jù)DINEN1096-2:2001-05(NSS測(cè)試)，玻璃基底1至3進(jìn)行中性鹽噴霧測(cè)試，上述易清潔涂層分別涂覆到玻璃基底1至3上。根據(jù)DINEN1096-2:2001-05的中性鹽噴霧測(cè)試(NSS測(cè)試)在中性鹽噴霧測(cè)試中，涂布的玻璃樣品在恒定的溫度下處于中性鹽水氣氛中21天。鹽水噴霧導(dǎo)致在涂層中的應(yīng)力。玻璃樣品放置在試樣保持器中，使得樣品形成具有相對(duì)于豎直方向15±5°的角度。中性鹽溶液通過(guò)將純NaCl溶解在去離子水中而生產(chǎn)，使得在(25±2)℃下獲得(50±5)g/l的濃度。鹽溶液通過(guò)合適的噴嘴霧化，以便產(chǎn)生鹽噴霧。測(cè)試室的工作溫度必須是35±2℃。在測(cè)試之前并且在168小時(shí)、336小時(shí)、504小時(shí)的測(cè)試時(shí)間之后，始終測(cè)量相對(duì)于水的接觸角，以便使疏水特性的穩(wěn)定性特征化。在接觸角下降為低于60°時(shí)，測(cè)試總是中斷，因?yàn)檫@與疏水特性的損失相關(guān)。接觸角的測(cè)量接觸角的測(cè)量利用PCA100設(shè)備進(jìn)行，該P(yáng)CA100設(shè)備能測(cè)定各液體的接觸角和表面能。測(cè)量范圍適用于10至150°的接觸角和1×10-2到2×103mN/m的表面能。取決于表面的狀況(清潔度、表面的均勻性)，接觸角能精確地測(cè)定到1°。表面能的精確度取決于各個(gè)接觸角是如何精確地定位在根據(jù)Owens-Wendt-Kaelble法計(jì)算出的回歸線(xiàn)上的，并表示為回歸值。任何大小的樣品都能被測(cè)量，因?yàn)檫@是能放置在大片材上進(jìn)行測(cè)量的便攜式裝置。樣品必須至少足夠大，以便液滴能放置在其上，而不與樣品邊緣發(fā)生沖突。該程序能處理各種點(diǎn)滴法。在這種情況下，固著滴法通常使用，并利用“橢圓擬合”(橢圓法)評(píng)估。在進(jìn)行測(cè)量之前，樣品表面用乙醇清潔。然后將樣品定位，測(cè)量流體滴下，測(cè)量接觸角。表面能(極性和可分散部分)由根據(jù)Owens-Wendth-Kaelble法匹配的回歸線(xiàn)確定。為了得到長(zhǎng)期的耐久性的測(cè)量，在持久的NSS測(cè)試之后進(jìn)行接觸角測(cè)量。對(duì)于此處得出的測(cè)量結(jié)果來(lái)說(shuō)，去離子水作為測(cè)量流體使用。測(cè)量結(jié)果的誤差容限是±4°。測(cè)試結(jié)果將樣品中在中性鹽噴霧測(cè)試(NSS測(cè)試)之前、期間和之后對(duì)樣品進(jìn)行取樣。中性鹽噴霧測(cè)試(NSS測(cè)試)之前和期間，在樣品上確定水接觸角。結(jié)果在表6和7中陳述。表6-中性鹽噴霧測(cè)試(NSS測(cè)試)玻璃基底1.........具有粘合促進(jìn)層玻璃基底2.........具有根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的硅氧化物層(對(duì)照)玻璃基底3.........沒(méi)有粘合促進(jìn)層(對(duì)照)表7-中性鹽噴霧測(cè)試(NSS測(cè)試)之前和期間根據(jù)時(shí)間測(cè)量水接觸角玻璃基底1.........具有粘合促進(jìn)層玻璃基底2.........具有根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的硅氧化物層(對(duì)照)玻璃基底3.........沒(méi)有粘合促進(jìn)層(對(duì)照)具有作為易清潔(ETC)涂層的基體的本發(fā)明粘合促進(jìn)層的樣品沒(méi)有表現(xiàn)出明顯的侵蝕，甚至在504小時(shí)的測(cè)試時(shí)間之后只有輕微的顏色變化。與此相反，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的作為易清潔涂層的基體的溶膠-凝膠硅氧化物涂層在168小時(shí)試測(cè)試時(shí)間之后表現(xiàn)出明顯侵蝕，顏色變化明顯。在NSS測(cè)試中本發(fā)明的涂布的薄玻璃的抗性大于21天，而具有另一粘合促進(jìn)層或沒(méi)有粘合促進(jìn)層的現(xiàn)有技術(shù)的玻璃基底的抗性最多僅為7天。作為不同的易清潔涂層基礎(chǔ)的薄玻璃基底上的本發(fā)明的粘合促進(jìn)層在任何情況下均提供長(zhǎng)期穩(wěn)定性的明顯提高。相比較而言，在沒(méi)有粘合促進(jìn)層的基底上的易清潔涂層在168小時(shí)的NSS-測(cè)試之后顯示出疏水特性消失。為了維持實(shí)際上與易清潔特性相關(guān)的大的接觸角，該接觸角應(yīng)大于80℃。這被認(rèn)為是很好的參數(shù)，以便在應(yīng)力測(cè)試后確定特性的保持。NSS測(cè)試是這種涂層的關(guān)鍵測(cè)試中的一個(gè)被廣泛認(rèn)可的測(cè)試。它反映例如由觸摸引起的指紋印痕所產(chǎn)生的應(yīng)力。手指汗液的鹽含量對(duì)于層功能喪失來(lái)說(shuō)是典型的影響。長(zhǎng)期耐用性在本文中被認(rèn)為是決定性特性。這里，NSS-測(cè)試具有關(guān)于實(shí)際觸摸和例如觸摸屏和觸摸面板的戶(hù)外應(yīng)用的明顯相關(guān)性。將易清潔涂層涂覆在本發(fā)明的粘合促進(jìn)層之后，相比于沒(méi)有涂覆粘合促進(jìn)層的同一易清潔涂層以及在中性鹽噴霧測(cè)試中相應(yīng)的時(shí)間較短的應(yīng)力影響下，對(duì)于在中性鹽噴霧測(cè)試中經(jīng)受多于三次較長(zhǎng)的應(yīng)力影響之后的易清潔涂層的水接觸角仍較大。在長(zhǎng)期NSS-測(cè)試達(dá)水接觸角減小達(dá)10％的情況下，易清潔層基本不受影響，在水接觸角減小到小于50°的情況下，能得出結(jié)論：易清潔層不再存在，或易清潔層處于被很大程度損壞的狀態(tài)并失去它的作用。表7中的測(cè)量結(jié)果顯示了：在直接涂覆在現(xiàn)有技術(shù)的硅氧化物涂層上或玻璃基底上的所有易清潔涂層上，在7天后，易清潔性或防指紋特性很大程度失效直至完全失效，而根據(jù)本發(fā)明的粘合促進(jìn)層上的相同涂層在21天后保持其部分上的完全的有效性。從結(jié)果來(lái)看，應(yīng)認(rèn)識(shí)到，對(duì)于所有檢測(cè)的含氟有機(jī)化合物來(lái)說(shuō)，相比于沒(méi)有粘合促進(jìn)層的傳統(tǒng)的玻璃基底，本發(fā)明的具有粘合促進(jìn)層的玻璃基底在抗性方面明顯改善。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3